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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 #x*\dL  
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    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 g-?@a  
    !y+uQ_IS@  
    \(_(pcl  
    场景 CVE(N/&b  
    2)hfYLi  
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    pmRm&VgE.  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 0RgE~x!hI  
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    系统构建块
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    gu|=uW K  
    /z! Tgs4  
    # ~Doz7~  
    组件求解器 0CO@@`~4  
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    系统构建块 tq}MzKI*  
    <2N{oK.  
    IdqCk0lVD  
    JkhWLQ>o  
    总结 7r&lW<:>  
    EHN(K-  
    }y Vx"e)  
    eAmI~oku  
    几何光学仿真 yIhPB8QL  
    通过光线追迹 9U8x&Z]P  
    DkX^b:D*f  
    结果:光线追迹 k@ <dru  
    DQ(0:r  
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    -0UR%R7q  
    快速物理光学仿真 R2v9gz;W  
    通过场追迹 p[w! SR%=  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 _V 4O#;%?  
    <rtKPlb//  
    /{f"0]-RA  
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    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 6se8`[  
    GF6o  
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    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 \_WR:?l  
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    1aQm r=,  
    udu<Nis4  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 VcGl8~#9  
    UAPd["`)y  
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    Pr1q X5>=  
    总结 y{/7z}d  
    @4hzNi+  
    T:u>7?8o  
    vP x/&x  
     
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