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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 M :V2a<!c  
    7W"/ N#G  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 U#bl=%bF  
    ][,4,?T7  
    z"lqrSJ:  
    场景 *l{yW"Su  
    Guh%eR'Wt  
     "< v\M85&  
    'Y.Vn P&H  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 Mi ; glm  
    b/t  
    系统构建块     \i!Son.<  
    EFAGP${F  
     Y2C9(Zk U  
    &rp!%]+xAM  
    组件求解器 d6`OXTD  
    {Hl[C]25X  
    oBA`|yW{U  
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    yPV' pT)  
    ZU^I H9  
    系统构建块 V  }>n  
    3J{vt"dS  
     m 41t(i  
    XF|WCZUnY%  
    总结 G/vC~6x  
    9AHSs,.t  
    _tAQ=eBO  
    C9qJP^F  
    几何光学仿真 MxOD8TDF4  
    通过光线追迹 EATu KLP\  
     y:d{jG^  
    结果：光线追迹 @m~RtC-Q  
    Rrg8{DZhv  
     2Vk\L~K  
    {fV}gR2  
    快速物理光学仿真 #`;/KNp 9  
    通过场追迹 R^*K6Ad  
     MgJ36zM  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 w8iR|TV  
    >O7~h[FN  
     ~GJN@ka4%  
    :?Y$bX}a  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 7\XE,;4>  
    4 o(bxs"  
     :jEPu3E:  
    LO:fJ{ -  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 6Pn8f  
    T[?6[,.  
    T*~H m  
    pFsc}R/0/8  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 :q#K} /  
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     Vp}^NNYf  
    2+o |A  
    总结 N ]N4^A'  
    B*1W`f  
    >TjJA #  
    B[5r|d'  
     
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