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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 A"\kdxC  
    Vur$t^zE  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 EkEM|<GNd  
    $91c9z;f^  
    cG,B;kMjo  
    场景 OTL=(k  
     {IYfq)c  
    y;yXOE_  
     ]P(:z  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 8}\VlH]  
    ?2%d;tW  
    系统构建块
    X + *@  
    K!5QFO4  
    hkJ4,.  
    e4yd n  
    组件求解器 $s4rG=q  
    o  <0f  
    X7?p$!M6;B  
    K\nN2y  
    dfiA- h  
    \ZigG{  
    系统构建块 E08FUAth]#  
    2Auhv!xV  
    tjBs>w  
    wW1aG  
    总结 \s<{V7tq  
    JaXT B"e  
    wP/&k`HQ#i  
    s&iM.[k  
    几何光学仿真 sk\U[#ohH  
    通过光线追迹 >t)vQ&:;u  
    f/~"_O%  
    结果:光线追迹 *j?tcxq  
    P \tP0+at  
    5:Pp62  
    ]U!vZY@\  
    快速物理光学仿真 o=_:g >5  
    通过场追迹 8s/gjEwA  
    ^rfY9qMJr8  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ~.u}v~ F  
    A`T VV  
    UZi^ &  
    @H= d8$  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 L)a8W   
    bTHKMaGWC  
    7"2L|fG  
    x9Y1v1!5Pu  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 ,a eQXI#@  
    C<?}?hhb  
    =${]j  
    =<e|<EwSZ  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 yQ}$G ,x  
    mM!'~{r[-  
    [4"1TyW  
    gS_)(  
    总结 ]>E*s3h  
    0^az<!!O#  
    ;&q}G1  
    NZdjS9  
     
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