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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 h0HK~S#xBv  
    )o-mM tPj  
    在浸没显微镜中,我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此,PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形,这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中,可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响,以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 1=C<aRZ b^  
    $RunGaX!=N  
    M%RH4%NZ0  
    场景 ==oJhB  
    G]{^.5  
    8EX?/33$  
    8TK*VOf`  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 e,Y<$kPV  
    u} +?'B)  
    系统构建块
    JIHIKH-#  
    jw 5 U-zi  
    P,xJVo\  
    iq^;csyKb  
    组件求解器 B(5>H2  
    <M}O&?N 8x  
    Hs_7oy|P  
    +@H{H2J4  
    lN0u1)'2  
    4i5b.b U$  
    系统构建块 pf+VYZ#)  
    4sW~7:vU  
    bI_MF/r''  
    z.?slYe[  
    总结 @A<~bod  
    ^dsj1#3z  
    FC||6vJth  
    I_kA!^  
    几何光学仿真 O: #Sj jK  
    通过光线追迹 Fs(S!;  
    p=zTY7L  
    结果:光线追迹 4S[)5su  
    ,A)Z .OWOq  
    Q#.E-\=^  
    ):}A Quy]  
    快速物理光学仿真 e&Q w\Ze  
    通过场追迹 <"xqt7f  
    m~fDDQs  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 c@)?V>oe  
    u8`S*i/)m  
    (d (>0YMv  
    jW-;Y/S  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 !(viXV5  
    !^v~hD$_q  
    A wk1d  
    t}?-ao  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 -P&uY`  
    R,=8)OI2  
    b& -8/t  
    /L@6Ae  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 ~C>Q+tR8  
    Ap;^ \5  
    o)x&|0_  
    >l/pwb@  
    总结 @$ lX%p>  
    O=lRI)6w@e  
    moh,aB#  
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