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    [技术]通过高NA浸没显微镜进行聚焦 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-29
    摘要 jj[6oNKE1  
    wv3,% lN  
    在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。 7m-%  
    FoK2h!_  
    @Iz]:@\cJ  
    场景 4`#Q  
    7v%c.  
     acl<dY6  
    tsc `u>  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 p?Azn>qBa  
    iwJ_~   
    系统构建块     h) Wp  
    2DCQ5XewYe  
     4MS<t FH)  
    J |q(HpB  
    组件求解器 sWYnoRxu  
    ;yJ:W8U]+;  
    }'x;J   
    \2s`mCY  
    _Ub `\ytx  
    hN'])[+V  
    系统构建块 sFFQ]ST2p  
    R p&J!hlA  
     LQR2T5S/Q,  
    |GnTRahV.  
    总结 Tzex\]fw  
    BNK]Os  
    f,HUr% @  
    5Ml=<^  
    几何光学仿真 J3_aHI  
    通过光线追迹 r9 @=d  
     6CBk=)qH  
    结果：光线追迹 gN=.}$Kfu  
    Ym6d'd<9(  
      `t U  
    SB\%"nnV  
    快速物理光学仿真 MoIh =rw  
    通过场追迹 !&VfOx:PN  
     'Z`7/I4&  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 GDxv2^4  
    >aVgI<  
     qNEp3WY:  
    |u&cN-}C d  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 fM;,9  
    o <q*3L5  
     J$3g3%t  
    nYyhQX~]B  
    在盖玻片的最后一个界面之前聚焦 #V!a<w4_  
    dVQ[@u1,  
    USBQEt  
    P=94  
    聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方 s6bsVAO>  
     j#](Q!  
     (>v'0 RA  
    l[}4 X/  
    总结 U[C4!k:0  
    \fA{sehdL  
    C ^Y\?2h1  
    ^po@U"  
     
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