切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 891阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    科学家
     
    发帖
    7036
    光币
    29325
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-24
    摘要 W|g4z7Pb  
     ZU%[guf  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 OD6\Mr2=  
    gh8F 2V;<  
    7OJ'){R$  
     &RnTzqv  
    1. 案例 ]X ?7ZI^  
    jGpN,/VQa  
     zPjHsulK  
      !~rY1T~  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 f m)pulz  
     t_$2CRG#  
    1. 系统构建模块 [VsKa\9u  
    G'ei/Me6{  
     xk5@d6Y{r  
    5a|w+HO,  
    2. 组件连接器 )E-inHD /  
    uJC~LC N  
    9vGu0Um  
          zU gE~  
    几何光学仿真 UVd7 JGR  
     'z%o16F)L  
    以光线追迹 -v]Sr33L  
     v{ 0=  
    1. 结果：光线追迹 %R}.#,Suo  
    ECrex>zr%  
    b2OQtSr a  
          7G}2,ueI  
    快速物理光学仿真 ~l]ve,W[  
     W"}M1o  
    以场追迹 @oV9)  
     hp5|@  
    1. NA=1.4时的光栅成像 C8 xZ;V]  
    a!"$~y$*  
     @M_oH:GV  
    /tf5Bv'<  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 o4K ~  
       ;; C?{  
    3c]b)n~Y  
    117EZg]O  
    3. NA=0.5时的光栅成像 C1m]*}U  
       T>2[=J8U  
    %t" CX5 n  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表