切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 895阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    科学家
     
    发帖
    7036
    光币
    29325
    光券
    0
    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-08-24
    摘要 "h7tnMS  
     VCcr3Dx()F  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 S$^ RbI  
    oejfU;+$  
    1I}b|6 `  
     )CS.F=  
    1. 案例 !HJ$UG/\  
    cbu@*NzY,  
     02k4 N%  
      DF{ Qw@P!  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 Q!FLR>8  
     UP{j5gR:_  
    1. 系统构建模块 O!Z|r ?  
    WmQ 01v  
     nD2, !71  
    i o3yLIy,  
    2. 组件连接器 j9/-"dTL  
    /)rkiwp  
    *$M'`vj:  
          U`x bPQ  
    几何光学仿真 S-nlr@w8  
     ='E$-_  
    以光线追迹 Sm2>'C  
     Fequm+  
    1. 结果：光线追迹 ^-M^gYBR  
    p=QYc)3F  
    ,s^<X85gp\  
          "XLe3n  
    快速物理光学仿真 )2E%b+"  
     =N|kn<h4  
    以场追迹 l48k<  
      oAZh~~tp  
    1. NA=1.4时的光栅成像 ?oiKVL"7  
    2n`Lg4=  
     HZ*0QgW\(5  
    )hj|{h7  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 |k{-l!HI  
       Y#01o&f0n  
    8S;CFyT\n  
    i(6J>^I  
    3. NA=0.5时的光栅成像 n|4;Hn1V  
       ; W7Y2Md  
    /M OnNnV  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表