切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 808阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    6822
    光币
    28260
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-24
    摘要 `#ruZM066  
     BwWSztJ+B  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 6AJk6 W^Z  
    %JE>Z]  
    t <` As6}  
     (SRY(q  
    1. 案例 eTp|!T  
    RdPk1?}K  
     Xb%Q%"?~  
      %cSx`^`6j  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 y{@\8B]  
     ^ 0YQlT98  
    1. 系统构建模块 M)oKtiav*  
    l9f_NJHo  
     H\Qk U`b  
    {nwoJ'-V  
    2. 组件连接器 <8b1OdA  
    0vj CSU-X  
    V gMgeja  
          P5?VrZy  
    几何光学仿真 qqw P4ceG  
     nv_vFK  
    以光线追迹 8+[Vo_]  
     kC.!cPd  
    1. 结果：光线追迹 < 9,h!  
    FJZ'P;3  
    1@p,   
          $~6MR_Yq  
    快速物理光学仿真 vT Eq T  
     D:Q#%wJ  
    以场追迹 32 i6j  
     ~g=& wT11  
    1. NA=1.4时的光栅成像 Br9j)1;  
    =T9h7c R  
     F NPu  
    kaCN^yQ  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 -kk7y  
       l }/_(*  
    L4Jm8sy{  
    jM$bWtq2  
    3. NA=0.5时的光栅成像 fc3nQp7  
       >}*W$i  
    lV^#[%  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表