切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 Zemax光学设计从基础到实践 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) ZEMAX光学系统设计实战
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 微小光学与微透镜阵列 CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命
    发帖 回复
    返回列表
    • 474阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    5797
    光币
    23137
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-24
    摘要 E41ay:duAl  
     _4Ciai2Ql  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 nIckI!U#D  
    K!L0|W H%!  
    z 1~2w:  
     ,aA%,C.0U  
    1. 案例 bu}N{cW  
    n7CwGN%  
     ;,OZ8g)LH  
      =>y%Aj&4  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 dKG2f  
     kMCg fL  
    1. 系统构建模块 '}F=U(!  
    x{o&nhuk[S  
     _J N$zZ{  
    s<GR ?  
    2. 组件连接器 Q5kf-~Jx+  
    SU8vz/\%y  
    <w9<G  
          BEfP#h=hr  
    几何光学仿真 xE0'eC5n^  
     c9uln  
    以光线追迹 B %L dH  
     (8XP7c]5  
    1. 结果：光线追迹 ?Dr_WFNjO  
    8|U-{"!O ?  
    /x2MW5H  
          [k<w'n*  
    快速物理光学仿真 q]^Q?r<g::  
     E U# M.  
    以场追迹 (mR ;MC  
     $-J=UT2m  
    1. NA=1.4时的光栅成像 K:<0!C!  
    #rps2nf.j  
     S.E'fc1  
    ?gGmJl  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 ]"T1clZKd(  
       =Zt7}V  
    xGBp+j1H  
    ywCF{rRd  
    3. NA=0.5时的光栅成像 i*3*)ly  
       m })EYs1  
    xO` `X<  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表