切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 896阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    在线infotek
    科学家
     
    发帖
    7036
    光币
    29325
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-24
    摘要 <8(=Lv`)q  
     ]DKRug5  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 6R,Y.srR  
     QEg[  
    `6)(Fk--"  
     <o/!M6^:  
    1. 案例 $33E-^  
    ?r KbL^2  
     MA,*$BgZ  
      (>vyWd]  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 1~t.2eUG  
     Tf~eH!~0  
    1. 系统构建模块 ,VS(4  
    y_X jY  
     o2X95NiH  
    c ef[T(>  
    2. 组件连接器 ?h6|N%U'  
    mFg$;F  
    OKAU*}_  
          vP x/&x  
    几何光学仿真 o`QNZN7/}  
     s> m2qSu  
    以光线追迹 Ly&+m+Gwu  
     & ?xR  
    1. 结果：光线追迹 }%p:Xv@X!  
    H.\`(`6  
    g]lEG>y1R  
          n1J u =C  
    快速物理光学仿真 :~ pGHl  
     M2Jf-2  
    以场追迹 PFuhvw~?  
     .ojEKu+EJ'  
    1. NA=1.4时的光栅成像 [EDX@Kdq)  
    N2O *g`YC  
     Hl`OT5 pNf  
    sSZ)C|Q  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 6LBdTnzUd  
       &J)<1!|  
    }3^m>i*8  
    H"FK(N\  
    3. NA=0.5时的光栅成像 z~#;[bER  
       QkBw59L7  
    6@s!J8!  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表