切换到宽版
  • 广告投放
  • 稿件投递
  • 繁體中文
    • Zemax光学设计从入门到精通 《杂散光抑制与评估技术》 Zemax光学设计实践基础(陈家璧) 光学设计与光学元件
    讯技光电:VirtualLab Fusion独家供应商 现代光学设计及应用(Zemax) CODE V,LightTools,RSoft,LucidShape 计算光学带来的成像革命(第2季)
    发帖 回复
    返回列表
    • 990阅读
    • 0回复

    [技术]用阿贝判据研究显微系统的分辨率 [复制链接]

    		 上一主题 下一主题
    离线infotek
    科学家
     
    发帖
    7208
    光币
    30181
    光券
    0
    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-08-24
    摘要 ju.OW`GM  
     |]tZ hI"3<  
    显微系统的分辨率一般用阿贝判据进行表征。这也解释了物镜的数值孔径(NA)决定了光栅(作为样本)衍射阶在其后焦平面上的滤波。当高衍射级次的衍射被滤除后，像面不会发生干涉，因此不会成像。本实例演示了数值孔径NA对滤波效果和分辨率的影响。 5*1#jiq  
    7>&1nBh. f  
    2LZS|fB9o  
     uY]T:UVk  
    1. 案例 ckWkZ 78\  
    sv`"\3N[  
     Bq{ ]Eh0%  
      Fv@tD4I>  
    在VirtualLab Fusion中构建系统 'kQ~  
     nALnB1  
    1. 系统构建模块 1daL y  
    Km"&mT $  
     rKT)!o'  
    O4!9{  
    2. 组件连接器 3a^)u-9,x  
    1a*6ZGk.  
    Xb0!( (A  
          dQK`sLChv  
    几何光学仿真 &~ y{'zoL  
     M}KZG'7  
    以光线追迹 1!1DuQ  
     +`Fb_m)f  
    1. 结果：光线追迹 tvT4S  
    k}s+ca!B  
    BjvdnbJg  
          XR+rT  
    快速物理光学仿真 r,"7%1I  
     K( z[ }  
    以场追迹 xG w?'\  
     o$t &MST?i  
    1. NA=1.4时的光栅成像 l1DI*0@  
    ? oc+ 1e  
     F^miq^K=  
    Z)5klg$c  
    2.  NA=0.75时的光栅成像 ?b"Vj+1:x  
       3>M.]w6{  
    rmQ\RP W  
    lz}llLb1  
    3. NA=0.5时的光栅成像 gw J}]Tf  
       \imp7}N  
    sS|<&3  
     
    回复
    举报
    分享到
    发帖 回复
    返回列表