价格：4500，VIP:4410 SVIP:4275 u#r[JF9LP
课程共三十节 T i !<{>
课程简介：
YR/%0^M'0 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用所需的基板，镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化，设计好之后，即刻进行制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，则要修改设计，重新分析直到合格为止。
M:QM*?+) 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
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8 课程大纲：
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1. 软件基础入门
LL"c 9jb4z 软件简介
,wPvv(b]a 软件计算方法简介
(>a8h~Na 程序基本框架和全局
参数设置
`#x}- A$ 程序中使用的各种术语的定义
tVFydN~ 
>IF qwh7b 2. 图表
GZCX m+ 绘图和制表来表示性能
Lk> o`<* 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
"-afHXED 交互式绘图的使用
E@%9u# 3. 材料管理
S?K x: ] 材料的获取
K 0Gm ?( 材料的导入与导出
49d02AU% 材料数据平滑与插值
pf[m"t6G~ 用包络法推导介质膜的光学常数
(N
0kTi]b 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
A4 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
rS&"UH?c7 4. 薄膜设计与优化简介
|(77ao3 优化与合成功能说明
7wB*@a- 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
_KZ&/ 膜层锁定和链接
Q$lgC
v^M 减反膜优化
.bloaeu- 高反膜优化
TcKt 滤光片优化
!)-)*T 斜入射光学薄膜
"f |xIK`c 5. 反演工程
(YC{BM} 镀膜过程中两种主要的误差（
系统误差和随机误差）
Y~"5HP | 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品
])tUXU> 6. 分析工具
n3B#M}R 颜色模型和分析工具
c] 1\88 公差工具和良品率预估
lGZf_X)gA^ 灵敏度分析
&$L6*+`h# 7. 附加模块-Vstack
5zi}O GtXv 非平行平面镀膜
N.D7 棱镜镀膜透反吞吐量评估
,6 AnuA 8. 附加模块-DWDM
@/f'i9?oM` 光通信用窄带滤光片
模拟 7Ad g; 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
"%E<%g 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
%ZbdWHO# 镀膜沉积过程噪声信号模拟
)~2~q7 10. 附加模块-Function
M,we9];N 如何在Function中编写脚本
up== g 案例：自定义画图
T:!f_mu| 案例：
太阳能抗反射薄膜分析
3)0z( 30 案例：膜厚变化颜色变化
