价格：4500，VIP:4410 SVIP:4275 :Z+J t=;
课程共三十节 \k5
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课程简介：
.JV y }^Q\ 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用所需的基板，镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化，设计好之后，即刻进行制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，则要修改设计，重新分析直到合格为止。
S=G2%u!; 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
w%- S5 # 课程大纲：
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4rGF) 1. 软件基础入门
fWyXy%Qq 软件简介
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c <C&O 软件计算方法简介
K9 ek 程序基本框架和全局
参数设置
hG >kx8h 程序中使用的各种术语的定义
u>/Jb+ 
=3dd1n;8> 2. 图表
kAq#cLprG 绘图和制表来表示性能
-PTfsQk 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
OO\$'%
y` 交互式绘图的使用
N v6=[_D 3. 材料管理
Z29aRi 材料的获取
b8!
材料的导入与导出
Nka 3H7 ` 材料数据平滑与插值
Uh+6fE]p 用包络法推导介质膜的光学常数
\- 8aTF 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
WZ =$c]gG 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
D9!$H!T _ 4. 薄膜设计与优化简介
c$x >6&&L 优化与合成功能说明
ZE9.r` 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
V=<AI.Z:w 膜层锁定和链接
Y]DC; , 减反膜优化
q @1xYz:J 高反膜优化
+G)a+r'0Q 滤光片优化
/!fJ`pu! 斜入射光学薄膜
8vQR'<, 5. 反演工程
?C']R(fQ\ 镀膜过程中两种主要的误差（
系统误差和随机误差）
y-{? 0mLq 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品
ZS[Ut 6. 分析工具
HSVl$66 颜色模型和分析工具
}ld^zyL 公差工具和良品率预估
6Ad =#MM 灵敏度分析
t9)S^: 0 7. 附加模块-Vstack
i&{%} ==7 非平行平面镀膜
[Y.=bfV! 棱镜镀膜透反吞吐量评估
[S9"' ^H 8. 附加模块-DWDM
= |dHD 光通信用窄带滤光片
模拟 ^0- e.@ 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
5 v^tPGg4 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
ja6V*CWb 镀膜沉积过程噪声信号模拟
qg:EN~E# 10. 附加模块-Function
:6]qr 86 如何在Function中编写脚本
]E6 r )C 案例：自定义画图
0 { 案例：
太阳能抗反射薄膜分析
GJ F &id 案例：膜厚变化颜色变化
