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课程共三十节 UR44
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课程简介:
bf|s=,D 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用所需的基板,镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化,设计好之后,即刻进行制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到,则要修改设计,重新分析直到合格为止。
/qa{*"2Qo 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例,演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时,并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
Eq=~S O% 课程大纲:
EaaQC]/OX5 1. 软件基础入门
(B{`In8G>y 软件简介
w5w,jD[ 软件计算方法简介
D]\of#%T 程序基本框架和全局
参数设置
;fw}<M!6 程序中使用的各种术语的定义
tAO,s ZW
xr}3vJ7 2. 图表
O%L]*vIr 绘图和制表来表示性能
?55t0 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
@&p:J0hbp 交互式绘图的使用
byoP1F% 3. 材料管理
@k['c
材料的获取
M?l/_!QB 材料的导入与导出
+e}v)N 材料数据平滑与插值
p'{B|ujj6 用包络法推导介质膜的光学常数
82l$]W 4 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
\!M6-kmi 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
jD1/`g% 4. 薄膜设计与优化简介
d$qivct 优化与合成功能说明
/.P9n9 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
`Y>'*4a\ 膜层锁定和链接
Z0HfrK#oU 减反膜优化
blO(Th& 高反膜优化
R8LJC]6Bh 滤光片优化
,Ta k', 斜入射光学薄膜
-5vg"|ia, 5. 反演工程
n-zAkKM 镀膜过程中两种主要的误差(
系统误差和随机误差)
M3 MB{cA2 使用反演工程来控制对设计的搜索,该设计代表实际生产的产品
q@k/"ee*? 6. 分析工具
}huj%Pnk) 颜色模型和分析工具
)`
~"o*M 公差工具和良品率预估
czNi)4x 灵敏度分析
ac 7. 附加模块-Vstack
>NLG"[\ 非平行平面镀膜
3v\69s 棱镜镀膜透反吞吐量评估
a',6WugIP 8. 附加模块-DWDM
_y:-_q 光通信用窄带滤光片
模拟 kjAARW 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
(;\"
K? 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
pmda9V4 镀膜沉积过程噪声信号模拟
\LuaI 10. 附加模块-Function
%Q,6 sH# 如何在Function中编写脚本
BoJpf8e'-e 案例:自定义画图
uoJ@Jt'j 案例:
太阳能抗反射薄膜分析
3yGo{uW 案例:膜厚变化颜色变化