价格：4500，VIP:4410 SVIP:4275 f0^;*Y
课程共三十节 Q4H(JD1f)
课程简介：
Xa,d"R~ 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用所需的基板，镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化，设计好之后，即刻进行制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，则要修改设计，重新分析直到合格为止。
1')_^] 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
kzkrvC+u 课程大纲：
4J~ ZZ 1. 软件基础入门
{fd/:B 7T 软件简介
P0mY/b BU 软件计算方法简介
cr wui 8 程序基本框架和全局
参数设置
;#i$5L!*B 程序中使用的各种术语的定义
yG v7^d 
fen~k#| l 2. 图表
6@rebe!&= 绘图和制表来表示性能
p YRqV 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
},]G +L;R 交互式绘图的使用
qj.>4 d 3. 材料管理
a1 K h 材料的获取
:cE6- Fv 材料的导入与导出
Y^Y1re+} 材料数据平滑与插值
}EMds3< 用包络法推导介质膜的光学常数
`GpOS_; 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
23(j < 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
_o +z#Fn z 4. 薄膜设计与优化简介
)%zOq:{\5 优化与合成功能说明
fO UW{s 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
=xs"<Q*w> 膜层锁定和链接
o5(~nQ 减反膜优化
vyA
`Z1 高反膜优化
}x~1w:z Hd 滤光片优化
*.,G;EC ^ 斜入射光学薄膜
0K<|>I 5. 反演工程
\*+- Bm:$j 镀膜过程中两种主要的误差（
系统误差和随机误差）
[ Yyb)Qf 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品
\RF{ITV$kD 6. 分析工具
Lu.C+zgQ 颜色模型和分析工具
AE@N:a 公差工具和良品率预估
3UNmUDl[~ 灵敏度分析
/QW-#K|S& 7. 附加模块-Vstack
\i.Yhl:O 非平行平面镀膜
?= R C?K 棱镜镀膜透反吞吐量评估
Z(|'zAb^ 8. 附加模块-DWDM
{Q(R#$)5+ 光通信用窄带滤光片
模拟 xm*6I 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
GF/!@N 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
ytyX:e" 镀膜沉积过程噪声信号模拟
Hs#q 7 10. 附加模块-Function
(/[wM>q:r 如何在Function中编写脚本
O/ ih9 , 案例：自定义画图
cYx.<b
JH 案例：
太阳能抗反射薄膜分析
= lMs1}S9 案例：膜厚变化颜色变化
