价格：4500，VIP:4410 SVIP:4275 mmRJ9OhS
课程共三十节 ve2u=eQ1
课程简介：
;&-k#PE]/H 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用所需的基板，镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化，设计好之后，即刻进行制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，则要修改设计，重新分析直到合格为止。
Qtv&ijFC 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
9kS^Abtk 课程大纲：
@ eIJ]p 1. 软件基础入门
qfRH5) k 软件简介
d;9FB[MmOJ 软件计算方法简介
RcU }}V 程序基本框架和全局
参数设置
(7=!+'T" 程序中使用的各种术语的定义
=uYYsC\T 
Hm'=aff6A 2. 图表
?[Q3q4
绘图和制表来表示性能
en*GM}<V 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
| kV*Jc k 交互式绘图的使用
Zu("#cA.H 3. 材料管理
_ k ~K Z;l 材料的获取
!"/n/jz 材料的导入与导出
UH-*(MfB 材料数据平滑与插值
!1{e|p
7 用包络法推导介质膜的光学常数
`gf0l /d 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
E 3gh?6 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
nWYN Np?h 4. 薄膜设计与优化简介
"PTZ%7YH} 优化与合成功能说明
kbMWGB%; 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
ll.N^y;a 膜层锁定和链接
kN4{13Qs* 减反膜优化
T1 Z;r*} 高反膜优化
Df<xWd2 滤光片优化
\Vy Z 斜入射光学薄膜
x QXXC|T 5. 反演工程
(UvM@]B 镀膜过程中两种主要的误差（
系统误差和随机误差）
!()$8 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品
cir$voL 6. 分析工具
1A G<$d5U| 颜色模型和分析工具
fc-iAj 公差工具和良品率预估
X 4Ic; 灵敏度分析
8xV9.4S 7. 附加模块-Vstack
"h a L 非平行平面镀膜
.e=:RkI, 棱镜镀膜透反吞吐量评估
YS@ypzc/ 8. 附加模块-DWDM
6NM:DI\% 光通信用窄带滤光片
模拟 *%fi/bimG 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
dP<=BcH>f 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
F9E<K]7K 镀膜沉积过程噪声信号模拟
Y^7$t^& 10. 附加模块-Function
[] `&vWZ 如何在Function中编写脚本
=Og)q$AL 案例：自定义画图
;HJL s2bP 案例：
太阳能抗反射薄膜分析
33ef/MElD$ 案例：膜厚变化颜色变化
