价格：4500，VIP:4410 SVIP:4275 ,:Rq
课程共三十节 =:R[gdA#1
课程简介：
QeOt; {_| 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用所需的基板，镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化，设计好之后，即刻进行制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，则要修改设计，重新分析直到合格为止。
L}sm R, 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
)u v$tnP* 课程大纲：
q_m#BE;t 1. 软件基础入门
ju 2X* 软件简介
fU){]YP 软件计算方法简介
*MyS 7< 程序基本框架和全局
参数设置
+Muia5G 程序中使用的各种术语的定义
kI1{>vYD 
/\Y%DpG$ 2. 图表
_tauhwu 绘图和制表来表示性能
MdTd$ 4J3 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
V44sNi 交互式绘图的使用
=ym~=
S 3. 材料管理
9[]"%6 材料的获取
4>ce,*B1 材料的导入与导出
cE8 _keR~ 材料数据平滑与插值
pQm!Bt L 用包络法推导介质膜的光学常数
p=5H^E m1 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
sCf(h 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
`? S?)0B 4. 薄膜设计与优化简介
. L6@Rs 优化与合成功能说明
J$ih|nP 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
I`}vdX) 膜层锁定和链接
kGTc~p( 减反膜优化
x jUH<LFxy 高反膜优化
o4
OEA)k)= 滤光片优化
LyPBFo[? 斜入射光学薄膜
l$ _+WC*wp 5. 反演工程
^DCv-R+ p 镀膜过程中两种主要的误差（
系统误差和随机误差）
^Th"` Av5 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品
,8 NEnB 6. 分析工具
36Y[7 m= 颜色模型和分析工具
N %/DN 公差工具和良品率预估
DO,&Foh\ 灵敏度分析
M{kh=b)V 7. 附加模块-Vstack
q>oH (A 非平行平面镀膜
BNm va 棱镜镀膜透反吞吐量评估
o)D+qiA3U 8. 附加模块-DWDM
EYD{8Fw- 光通信用窄带滤光片
模拟 ^E? V+3mV 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
7wEG<,D 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
J t,
4@ 镀膜沉积过程噪声信号模拟
>u#VHaB 10. 附加模块-Function
< 3+&DV-<N 如何在Function中编写脚本
rxk{Li<9 案例：自定义画图
B]}V$*$ \? 案例：
太阳能抗反射薄膜分析
]M"'qC3g 案例：膜厚变化颜色变化
