价格:4500,VIP:4410 SVIP:4275 6i.!C5YX]
课程共三十节 zy!mP
课程简介:
"? t@Y 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时,既可以着手选用所需的基板,镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手,例如高反射镜不管波宽大小,开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础,倘若是截止滤光片,则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时,我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化,设计好之后,即刻进行制造成功率分析,亦看膜层厚度的误差值的容许度,若是镀膜机的精密度做不到,则要修改设计,重新分析直到合格为止。
qsTB)RdjP% 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例,演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时,并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
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j0 课程大纲:
-|aNHZr 1. 软件基础入门
'vV|un(6 软件简介
XEvDtDR 软件计算方法简介
2\, h "W( 程序基本框架和全局
参数设置
\$%q <_l 程序中使用的各种术语的定义
F4`5z)<*
;&8 2. 图表
#HF;yAc 绘图和制表来表示性能
O2 sAt3' 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
NiPa-yRh 交互式绘图的使用
Pe<}kS
m 4 3. 材料管理
w +~,Mv \ 材料的获取
A(dWAe, 材料的导入与导出
=n73bm 材料数据平滑与插值
uBXl ltU 用包络法推导介质膜的光学常数
7B|
#*IZe 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
&Y/Myh[P 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
y%4G[Dz 4. 薄膜设计与优化简介
~:M"JNcs 优化与合成功能说明
JZM:R 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
m\O|BMHn 膜层锁定和链接
1deNrmp% 减反膜优化
_J+p[=[L 高反膜优化
Pk6l*+"r< 滤光片优化
u{S J#3C5 斜入射光学薄膜
~Vf+@_G8` 5. 反演工程
P.Uz[_&l6 镀膜过程中两种主要的误差(
系统误差和随机误差)
G*x"drP 使用反演工程来控制对设计的搜索,该设计代表实际生产的产品
`+>'18F 6. 分析工具
JE$aYs<(TF 颜色模型和分析工具
q;{# ~<"+ 公差工具和良品率预估
0-!K@#$>= 灵敏度分析
Y::I_6[eV 7. 附加模块-Vstack
vsU1Lzna6@ 非平行平面镀膜
Mw,7+ 棱镜镀膜透反吞吐量评估
TtZ
'~cGR 8. 附加模块-DWDM
Ous_269cM 光通信用窄带滤光片
模拟 )n&@`>vm 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
d
l<7jM? 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
X\dPQwasM 镀膜沉积过程噪声信号模拟
5`?'}_[Yj 10. 附加模块-Function
k25:H[ 如何在Function中编写脚本
[LHx9(,NM 案例:自定义画图
2kS]:4)T 案例:
太阳能抗反射薄膜分析
hb_J.Q 案例:膜厚变化颜色变化