价格：4500，VIP:4410 SVIP:4275 ]DcFySyv
课程共三十节 C _Dn{
课程简介：
wT@og|M 当收到需求者的
光学规格及非光学规格如环境测试要求时，既可以着手选用所需的基板，镀膜
材料及膜数与厚度设计。设计开始可以从标准膜系着手，例如高反射镜不管波宽大小，开始我们一定是以四分之一波膜堆为设计基础，倘若是截止滤光片，则应以对称膜堆为设计基础。当初始设计无法满足要求时，我们需要考虑商业
软件或自行设计电脑软件来参与合成或
优化，设计好之后，即刻进行制造成功率分析，亦看膜层厚度的误差值的容许度，若是镀膜机的精密度做不到，则要修改设计，重新分析直到合格为止。
$i&zex{\ 课程涵盖Macleod软件所有模块、光学
薄膜膜系设计与优化方法。培训期间针对实例，演示完整的光学薄膜设计与分析过程。课程旨在让各界相关技术人员快速知悉软件的各项功能的同时，并通过相关的实例演示掌握该软件在光学镀膜领域的具体应用。
S'" Df5 课程大纲：
~ }P,.QQ 1. 软件基础入门
_/|\aqF. 软件简介
s AkdMo 软件计算方法简介
g#bRT *,L 程序基本框架和全局
参数设置
iTwm3V
P 程序中使用的各种术语的定义
!g[Zfo2r" 
Y]>t[Lo% 2. 图表
LoV<:|GTI 绘图和制表来表示性能
;u JMG 3D绘图-用两个变量绘图表示性能
P0@,fd< 交互式绘图的使用
R&&4y 7 3. 材料管理
V! Uc( 材料的获取
M]^5 s;y 材料的导入与导出
V0@=^Bls 材料数据平滑与插值
h` q1 用包络法推导介质膜的光学常数
]gOy(\B 利用
光谱仪的测量值计算基底光学常数
aN?zmkPpov 材料模型拟合(Sellmeier, Cauchy, Drude, Lorentz, Drude-Lorentz, Hartmann)
[JiH\+XLPs 4. 薄膜设计与优化简介
a s|<}:V 优化与合成功能说明
]Z e1s02( 优化目标&评价函数(Simplex, Optimac, Simulated Annealing, Conjugate Gradient, Quasi-Newton, Needle, Differential Evolution, Non-Local)
o&%g8=n% 膜层锁定和链接
$FV NCFN% 减反膜优化
I9Xuok!0>= 高反膜优化
vsPu*[% 滤光片优化
lxx2H1([ 斜入射光学薄膜
0J9x9j`&j 5. 反演工程
$4L zcwG 镀膜过程中两种主要的误差（
系统误差和随机误差）
^q5#i hM 使用反演工程来控制对设计的搜索，该设计代表实际生产的产品
K?;DMUSY\ 6. 分析工具
zX[U~. 颜色模型和分析工具
u 9e@a9c 公差工具和良品率预估
.('SW\u- 灵敏度分析
Et$2Y-L. 7. 附加模块-Vstack
B\~}3!j 非平行平面镀膜
X ?O[r3< 棱镜镀膜透反吞吐量评估
i1UsIT 8. 附加模块-DWDM
/^ ts9: 光通信用窄带滤光片
模拟 I7onX,U + 9. 附加模块-Runsheet&Simulator
{: /}NpA$ 光控机器设置显示镀膜过程中预期的监测信号
X'ag)|5ot 镀膜沉积过程噪声信号模拟
$Sq:q0 10. 附加模块-Function
|yCMt:Hk 如何在Function中编写脚本
* 4'"2 " 案例：自定义画图
J.a]K[ci 案例：
太阳能抗反射薄膜分析
*dQSw)R 案例：膜厚变化颜色变化
