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G;#t6bk 内容简介 Fu$Gl$qV?% Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 nsw8[pk 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 !";$Zu 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ?;7>`F6ld bzL;)H4Eo 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 iW%0pLn 目录 +q?0A^C> Preface 1 ^WYG?/{4 内容简介 2 hnLgsz 目录 i ^|12~d_.T 1 引言 1 4)Wzj4qW 2 光学薄膜基础 2 XlcDF|?{. 2.1 一般规则 2 8i$`oMv[y 2.2 正交入射规则 3 ~=gH7V 2.3 斜入射规则 6 0lq4 2.4 精确计算 7 aZ0iwMK 2.5 相干性 8 &XTd[_VW! 2.6 参考文献 10 n{NgtH\V 3 Essential Macleod的快速预览 10 )s[S.`STz 4 Essential Macleod的特点 32 K]Cs2IpI 4.1 容量和局限性 33 qBrZg 4.2 程序在哪里? 33 T7nX8{l[RG 4.3 数据文件 35 :v ~q 4.4 设计规则 35 pY5HW2TsY| 4.5 材料数据库和资料库 37 ba:^zO^ 4.5.1材料损失 38 oa|*-nw 4.5.1材料数据库和导入材料 39 EF{'J8AQ 4.5.2 材料库 41 h/~BUg' 4.5.3导出材料数据 43 8pt<)Rs} 4.6 常用单位 43 dllf~:b 4.7 插值和外推法 46 X(q=,^Mp 4.8 材料数据的平滑 50 tF1%=&ss 4.9 更多光学常数模型 54 tce8*:rNH 4.10 文档的一般编辑规则 55 Olh-(u:9+O 4.11 撤销和重做 56 AsF`A"Cdw< 4.12 设计文档 57 $6%;mep 4.10.1 公式 58 I`>%2mP[C 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 B>21A9& 4.10.3 沉积密度 59 vyy\^nL 4.10.4 平行和楔形介质 60 T1[ZrY'0 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 [:'?}p 4.10.4 性能 61 ExU|EN- 4.10.5 保存设计和性能 64 -\v8i.w0 4.10.6 默认设计 64 @n'ss!h 4.11 图表 64 wA&)y>n- 4.11.1 合并曲线图 67 BkqW>[\5xm 4.11.2 自适应绘制 68 %+J*oFwQu 4.11.3 动态绘图 68 k}qiIMdI 4.11.4 3D绘图 69 Oj\mkg 4.12 导入和导出 73 @x
]^blq 4.12.1 剪贴板 73 n:] 1^wX# 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 5W-M8dc6 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 &h[}5 4.13 背景 77 eZ$1|Sj]j 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 >7Q7H#~w 4.15 生成Rugate 84 }-iOYSn 4.16 参考文献 91
!}48;P l 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ^C
T}i' 5.1 Jobs 92 2 ZXF_ o 5.2 创建一个新Job(工作) 93 W4Q]<<6& 5.3 输入材料 94 )C6 7qY[P 5.4 设计数据文件夹 95 1OS3Gv8jc~ 5.5 默认设计 95 <-aI%'?* 6 细化和合成 97 p8J"%Jq} 6.1 优化介绍 97 3&:fS|L~c 6.2 细化 (Refinement) 98 EOC"a}Cq- 6.3 合成 (Synthesis) 100 F\72^,0 6.4 目标和评价函数 101 sRnMBW. 6.4.1 目标输入 102 W<l(C!{ 6.4.2 目标 103 {mGWMv 6.4.3 特殊的评价函数 104 o|C{ s 6.5 层锁定和连接 104 hKYPH?b% 6.6 细化技术 104 !-~(*tn 6.6.1 单纯形 105 NDGBvb 6.6.1.1 单纯形参数 106 H4jqF~ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 A[a+,TN{ 6.6.2.1 Optimac参数 108 Xpwom' 6.6.3 模拟退火算法 109 LXl! !i% 6.6.3.1 模拟退火参数 109 ;O>fy:$' 6.6.4 共轭梯度 111 F
tjm@:X 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 GrC")Z|3u 6.6.5 拟牛顿法 112 net9KX4\ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 D3ad2vH 6.6.6 针合成 113 ^Yz05\ 6.6.6.1 针合成参数 114 b*fflJ 6.6.7 差分进化 114 iq-o$6Pg 6.6.8非局部细化 115 k=_@1b- 6.6.8.1非局部细化参数 115 g7i6Yj1 6.7 我应该使用哪种技术? 116 TaG-^bX8B 6.7.1 细化 116 CVp<SS( 6.7.2 合成 117 ?Pc3*. 6.8 参考文献 117 k6S<46}h| 7 导纳图及其他工具 118 Y?cw9uYB 7.1 简介 118 ?Q2pD!L{ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 2=EKAg=S 7.2.1 四分之一波长规则 119 <X*8Xzmv 7.2.2 导纳图 120 T(F8z5s5 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 gZv<_0N 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ;"z>p25=T 7.5 斜入射导纳图 141 X3yr6J[ ^ 7.6 对称周期 141 (=9&"UH 7.7 参考文献 142 B?Skw{& 8 典型的镀膜实例 143 g!ww;_ 8.1 单层抗反射薄膜 145 1O4"MeF 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 wP*Z/}Uum+ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Pa< |