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#dd-rooQuD 内容简介 T%opkyP>= Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 UP8=V>T02 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 0Rme}&$ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 'ot,6@~x> :k-(%E]( 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 7AOjlC9R} 目录 "#3p=}] Preface 1 >z,SN 内容简介 2 A#WvN> 目录 i S~Z`?qHWh 1 引言 1 &3o[^_Ti 2 光学薄膜基础 2 W@T_-pTCjK 2.1 一般规则 2 !,I530eh7 2.2 正交入射规则 3 Q9\6Pn ]T 2.3 斜入射规则 6 :epjJ1mW 2.4 精确计算 7 ftw@ nQNU 2.5 相干性 8 XW^Sw;[efZ 2.6 参考文献 10 *<5zMSZO 3 Essential Macleod的快速预览 10 ",pN.<F9O 4 Essential Macleod的特点 32 `X =2Ff 4.1 容量和局限性 33 .Lvg
$d 4.2 程序在哪里? 33 )(aj 4.3 数据文件 35 -t5DcEAb$ 4.4 设计规则 35 Uc?4!{$X 4.5 材料数据库和资料库 37 a9w1Z4 4.5.1材料损失 38 ^EG@tB $< 4.5.1材料数据库和导入材料 39 /F3bZ3F 4.5.2 材料库 41 Bl
>)G X\l 4.5.3导出材料数据 43 gmU0/z3& 4.6 常用单位 43 1>$}N?u:T 4.7 插值和外推法 46 kJOSGrg 4.8 材料数据的平滑 50 ?puZqVu5 4.9 更多光学常数模型 54 ~I_v { 4.10 文档的一般编辑规则 55 V*|#j0}b 4.11 撤销和重做 56 60A
E~ 4.12 设计文档 57 MmvMuX]#) 4.10.1 公式 58 e@GR[0~ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 M<sY_<z 4.10.3 沉积密度 59 }'FNGn.~# 4.10.4 平行和楔形介质 60 m V U(b, 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ,J(+%#$UT 4.10.4 性能 61 dWCU Z,6} 4.10.5 保存设计和性能 64 .&Vyo<9Ck 4.10.6 默认设计 64 l5}b.B^w 4.11 图表 64 %U4w@jp 4.11.1 合并曲线图 67 hlgBx~S[ 4.11.2 自适应绘制 68 &>0ape 4.11.3 动态绘图 68 T9N&Nh7 3 4.11.4 3D绘图 69 Je5UVf3>2& 4.12 导入和导出 73 LvtZZX6! 4.12.1 剪贴板 73 s[ CnJZ\q 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 @eQo 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 yD0,q%B`} 4.13 背景 77 @
k`^Z5tN 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 'A|OVyH 4.15 生成Rugate 84 /j{`hi 4.16 参考文献 91 X~H~k1 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 +Y:L4` 5.1 Jobs 92 r%QnV0L^ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 sbZ^BFqp 5.3 输入材料 94 Tt0:rQ. 5.4 设计数据文件夹 95 CUS^j 5.5 默认设计 95 <Bmqox0 6 细化和合成 97 }iK_7g`yKa 6.1 优化介绍 97 ,sM>{NK9R 6.2 细化 (Refinement) 98 vfh0aW-O 6.3 合成 (Synthesis) 100 +h*.%P}o 6.4 目标和评价函数 101 P@u&~RN9f+ 6.4.1 目标输入 102 >-~2:d\M3 6.4.2 目标 103 pO~VI$7 6.4.3 特殊的评价函数 104 [\j@_YYd 6.5 层锁定和连接 104 &SzLEbU! 6.6 细化技术 104 T%Vg0Y)P; 6.6.1 单纯形 105 wR"4slY_% 6.6.1.1 单纯形参数 106 Mohy;#8Wk 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 m-~eCFc 6.6.2.1 Optimac参数 108 ()E:gqQ
6.6.3 模拟退火算法 109 6iozb~!Rr 6.6.3.1 模拟退火参数 109 h%hE$2 6.6.4 共轭梯度 111 ;T|y^D 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 /R_*u4}iD 6.6.5 拟牛顿法 112 $rZ:$d.C 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 `f@VX
:aL} 6.6.6 针合成 113 Y'.WO[dgf 6.6.6.1 针合成参数 114
O$> <E8q 6.6.7 差分进化 114 )6S;w7 6.6.8非局部细化 115 .CrrjS w 6.6.8.1非局部细化参数 115 2Qoj>Wy{ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 "!yKX(aTX 6.7.1 细化 116 -V'`;zE6 6.7.2 合成 117 A/ eZ!"Y 6.8 参考文献 117 iw,F)O 7 导纳图及其他工具 118 NZ\aK}?~! 7.1 简介 118 j15TavjGh 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 MuQBn7F{c 7.2.1 四分之一波长规则 119 iw Hy!Vi-5 7.2.2 导纳图 120 sFEkxZi< 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 cI)XXb4 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 [\h k_(} 7.5 斜入射导纳图 141 qM`XF32A$ 7.6 对称周期 141 $RQ7rL3g{ 7.7 参考文献 142 u5f+%!p 8 典型的镀膜实例 143 (3RU|4Ks 8.1 单层抗反射薄膜 145 >`jsUeS 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 Tl#Jf3XY} 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 q2I;Ly\3o 8.4 W-膜层 148 XA[GF6W,Y 8.5 V-膜层 149 s*g yk 8.6 V-膜层高折射基底 150 #\+TKK 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 fwy-M: 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 s$Il; 8.9 四层抗反射薄膜 153 LhZWK^!{S 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 CI+dIv> 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 n'/w(o$& 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 lu^c^p; 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 +uF!.!} 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 E"Z9 NDgl# 8.15十五层宽带抗反射膜 159 (K$K;f$"r 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 B|IQ/g? 8.17 1/4波长堆栈 162 k'N `5M) 8.18 陷波滤波器 163 ?VMj;+'tr 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 p}KZ#"Q 8.20 褶皱 165 _tR%7%3* 8.21 消偏振分光器1 169 &jg |