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C&K(({5O 内容简介 Vblf6qaBs Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 |`9zE] 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 y]z# ?? 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 HE.Dl7{ gYIYA"xN` 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 !~DkA7i 55 目录 g<jK^\eW Preface 1 K1:)J.ca_ 内容简介 2 '$ nGtB5 目录 i leqSS}KU+ 1 引言 1 $R}iL 2 光学薄膜基础 2 Jx[e{o)o 2.1 一般规则 2 H;}ue 2.2 正交入射规则 3 97
X60< 2.3 斜入射规则 6 x-k/rZ 2.4 精确计算 7 .TU15AAc 2.5 相干性 8 6*oTT(0<p 2.6 参考文献 10 BP><G^ 3 Essential Macleod的快速预览 10 _5 -"< 4 Essential Macleod的特点 32 *wl_8Sis} 4.1 容量和局限性 33 ep1Ajz.l 4.2 程序在哪里? 33 GdwHm 4.3 数据文件 35 !f[N&se 4.4 设计规则 35 fO|u(e
4.5 材料数据库和资料库 37 VH*(>^OfF 4.5.1材料损失 38 T[K?A+l 4.5.1材料数据库和导入材料 39 j>=".^J 4.5.2 材料库 41 6EGEwx 4.5.3导出材料数据 43 s0'U[] 4.6 常用单位 43 vYun^(_- 4.7 插值和外推法 46 :7]R2JP 4.8 材料数据的平滑 50 ,$*klod 4.9 更多光学常数模型 54 rMx_ <tX X 4.10 文档的一般编辑规则 55 ov}{UP]a? 4.11 撤销和重做 56 O$ oN1 4.12 设计文档 57 g)Uh
4.10.1 公式 58 a .Vs>1 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 $O>MV 4.10.3 沉积密度 59 m=y)i]=1 4.10.4 平行和楔形介质 60 2Nszxvq, 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 z>q_]U0 4.10.4 性能 61 Tdp$laPO' 4.10.5 保存设计和性能 64 -Euy5Y 4.10.6 默认设计 64 s7gf7E#Y 4.11 图表 64 +1A<kJ 4.11.1 合并曲线图 67 Lg53
Ms% 4.11.2 自适应绘制 68 }6(:OB? 4.11.3 动态绘图 68 $a]dxRkz 4.11.4 3D绘图 69 [r~lO@ 4.12 导入和导出 73 cE#Y,-f 4.12.1 剪贴板 73 VdrF=V&] O 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 $t?e=#G 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 7tnzgtal 4.13 背景 77 ;#Nci%<J\ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 =1uI >[aN 4.15 生成Rugate 84 Y`Rf E 4.16 参考文献 91 >l[N]CQ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 vpMv 5.1 Jobs 92 3Pq)RD|hn 5.2 创建一个新Job(工作) 93 247>+:7z 5.3 输入材料 94 (\_d'Js(; 5.4 设计数据文件夹 95 qd ZYaS ~ 5.5 默认设计 95 EZFWxR/ 6 细化和合成 97 hWJc
A.A 6.1 优化介绍 97
p5hP}Z4r 6.2 细化 (Refinement) 98 8t"DQ Y-R 6.3 合成 (Synthesis) 100 h Nwb.[ 6.4 目标和评价函数 101 &ICO{#v5 6.4.1 目标输入 102 F3'G9Xf8Q= 6.4.2 目标 103 S^.=j
oI 6.4.3 特殊的评价函数 104 x]M1UBnMN 6.5 层锁定和连接 104 >skS`/6 6.6 细化技术 104 w9BH>56/" 6.6.1 单纯形 105 ;U4X
U 6.6.1.1 单纯形参数 106 Q^OzFfR6 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 glUP 6.6.2.1 Optimac参数 108 mUw,q;{ 6.6.3 模拟退火算法 109 '%4,! 6.6.3.1 模拟退火参数 109 )$i3j
1[; 6.6.4 共轭梯度 111 YKk%;U* 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 |F`'m":$m 6.6.5 拟牛顿法 112 P&VI2k 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 i=UJ*c 6.6.6 针合成 113 Wov_jVdN\ 6.6.6.1 针合成参数 114 CaMG$X&O 6.6.7 差分进化 114 bHNaaif}P 6.6.8非局部细化 115 x@ )u:0 6.6.8.1非局部细化参数 115 .BvV[`P 6.7 我应该使用哪种技术? 116 h:wD
&Fh8 6.7.1 细化 116 j.*}W4`Q_ 6.7.2 合成 117 a{=~#u8 6.8 参考文献 117 C0wq 7 导纳图及其他工具 118 vbU{Et\^ 7.1 简介 118 P[~a'u 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 :n4x}% 7.2.1 四分之一波长规则 119 Qp}<8/BM\ 7.2.2 导纳图 120 wim}}^H 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 G.8ZISN/ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 Rz<fz"/2< |