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Ij$)RSPtH 内容简介 7h1"^}M& Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 o@@w^## 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 i -V0Lm/ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 _U=S]2QW O<iI 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 5|m9:Hv[# 目录 7X:hIl Preface 1 (\q[gyR 内容简介 2 1 ?]J;9p 目录 i h~.V[o7= 1 引言 1 J<-Fua^ 2 光学薄膜基础 2 T=yCN#cqQ` 2.1 一般规则 2 }JJ::*W2n 2.2 正交入射规则 3 DsG !S* 2.3 斜入射规则 6 [R$liN99z; 2.4 精确计算 7 .)nCOwR6p 2.5 相干性 8 Wlxk 2.6 参考文献 10 Z[bv0Pr 3 Essential Macleod的快速预览 10 M->Kz{h?j 4 Essential Macleod的特点 32 6fQ*X~| p 4.1 容量和局限性 33 2?pM5n 4.2 程序在哪里? 33 [sptU3,2U 4.3 数据文件 35 v5gQ9 4.4 设计规则 35 L`JY4JM" 4.5 材料数据库和资料库 37 0Sz/c+ 6 4.5.1材料损失 38 'U*udkn 2] 4.5.1材料数据库和导入材料 39 95% :AQLV 4.5.2 材料库 41 ILIRI[7( 4.5.3导出材料数据 43 2PI #ie4 4.6 常用单位 43 {8W |W2o$! 4.7 插值和外推法 46 R3cG<MjmK 4.8 材料数据的平滑 50 R=QM; 4.9 更多光学常数模型 54 34]%d<;A 4.10 文档的一般编辑规则 55 .>a$g7Rj 4.11 撤销和重做 56 np&HEh 6 4.12 设计文档 57 rcpvH}N: 4.10.1 公式 58 7~ILRj5Nq 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 gFgcxe6 4.10.3 沉积密度 59 <6gU2@1 4.10.4 平行和楔形介质 60 s>V*=#L 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 mURX I'JkX 4.10.4 性能 61 :nTkg[49pJ 4.10.5 保存设计和性能 64 *Y^5M"AB_ 4.10.6 默认设计 64 CVi<~7Am\ 4.11 图表 64 l!Nvn$hm 4.11.1 合并曲线图 67 EsS!07fAM: 4.11.2 自适应绘制 68 xDNw/' 4.11.3 动态绘图 68 1.xw'i 4.11.4 3D绘图 69 WJP`0f3 4.12 导入和导出 73 #0xm3rFy4 4.12.1 剪贴板 73 s'_$j$1 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 mn,=V[f 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 xU:PhhS 4.13 背景 77 I(F1S,7 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 `<bCq\+` 4.15 生成Rugate 84 vBV"i9n 4.16 参考文献 91 ?m`R%>X" 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 d8 3+6d 5.1 Jobs 92 VK"[=l 5.2 创建一个新Job(工作) 93 G`&'Bt{Z* 5.3 输入材料 94 I]s:Ev[~ 5.4 设计数据文件夹 95 `7+tPbjs 5.5 默认设计 95 6S` ,j 6 细化和合成 97 g=)U_DPRi 6.1 优化介绍 97 )GQD*b 6.2 细化 (Refinement) 98 u_$6LEp- 6.3 合成 (Synthesis) 100 D}3cW2!9 6.4 目标和评价函数 101 {5?!`<fF 6.4.1 目标输入 102 c|8KT 6.4.2 目标 103 axt6u)4%7: 6.4.3 特殊的评价函数 104 47$-5k30 6.5 层锁定和连接 104 a2IV!0x 6.6 细化技术 104 h?M'7Lti 6.6.1 单纯形 105 <L[ *hp 6.6.1.1 单纯形参数 106 +/1P^U / 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 5k_Mj*{6 6.6.2.1 Optimac参数 108 L8%=k%H(1 6.6.3 模拟退火算法 109 9;'>\ImI 6.6.3.1 模拟退火参数 109 #0#V$AA> 6.6.4 共轭梯度 111 aa'0EU: 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 !dYX2!lvT 6.6.5 拟牛顿法 112 ]*t*/j;N 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 u:p:*u_^I 6.6.6 针合成 113 kY0g}o'< 6.6.6.1 针合成参数 114 Bil;@,Z# 6.6.7 差分进化 114 K[Ws/yc^a 6.6.8非局部细化 115 6-Vl#Lyb 6.6.8.1非局部细化参数 115 $/-wgyP3m+ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 /61ag9pN 6.7.1 细化 116 BBZ)H6TzL 6.7.2 合成 117 w2RESpi 6.8 参考文献 117 =[O<.'aG- 7 导纳图及其他工具 118 ACMpm~C8Gu 7.1 简介 118 (>kBmK1Aj 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Z\oAE<$ 7.2.1 四分之一波长规则 119 bE%mgaOh 7.2.2 导纳图 120 }*{\)7g 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 U(=f5|- 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 rA>R` 7.5 斜入射导纳图 141 0*'`%W+5 7.6 对称周期 141 p3'mJ3MA 7.7 参考文献 142 J,& |