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2S-z$Bi}] 内容简介 >jm^MS= Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 cb _nlG! 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 F6
f 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 Pb/[945 j$khGR! 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 m2to94yh 目录 ]bAw>1,NVD Preface 1 ++d[YhO 内容简介 2 lFc^y 目录 i /m+.5Qz9)@ 1 引言 1 S| l%JM^ 2 光学薄膜基础 2 -KiI&Q 2.1 一般规则 2 kC0^2./p 2.2 正交入射规则 3 ^e1mK4` 2.3 斜入射规则 6 r-c1_
[Q# 2.4 精确计算 7 DMd&9EsRG 2.5 相干性 8 Q%_MO`<]$ 2.6 参考文献 10 >W=^>8u 3 Essential Macleod的快速预览 10 jxDA+7 4 Essential Macleod的特点 32 6i*LP(n 4.1 容量和局限性 33 QQX7p!~E 4.2 程序在哪里? 33 3qwSm< 4.3 数据文件 35 Rc`zt7hbJ 4.4 设计规则 35 $WZHkV 4.5 材料数据库和资料库 37 E>`gj~ 4.5.1材料损失 38 0J1&6b 4.5.1材料数据库和导入材料 39 78FK{Cr 4.5.2 材料库 41 :.W</o~\s 4.5.3导出材料数据 43 DVjsz 4.6 常用单位 43 wXU gxa 4.7 插值和外推法 46 hbTJXP~~? 4.8 材料数据的平滑 50 3b1%^@,ACy 4.9 更多光学常数模型 54 3>buZ6vh 4.10 文档的一般编辑规则 55 )W3kBDD 4.11 撤销和重做 56 ug9]^p/)^ 4.12 设计文档 57 t3;QF 4.10.1 公式 58 ,\0>d}eh! 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 (:ij'Zbz 4.10.3 沉积密度 59 $3{I'r] 4.10.4 平行和楔形介质 60 #^bn~ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ^97\TmzP{ 4.10.4 性能 61 -v?)E
S 4.10.5 保存设计和性能 64 8jfEvwY 4.10.6 默认设计 64 S)G*+) 4.11 图表 64 0`"DYJ}d 4.11.1 合并曲线图 67 m7m)BX%O 4.11.2 自适应绘制 68 ,L^ag&!4 4.11.3 动态绘图 68 qiyJ4^1 4.11.4 3D绘图 69 NC{8[*Kx5 4.12 导入和导出 73 {A8w~3F 4.12.1 剪贴板 73 km9@*@) 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 <'z.3@D 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 >Mk#19j[/ 4.13 背景 77 -bQi4 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 YEhPAQNj 4.15 生成Rugate 84 5:X^Q.f; 4.16 参考文献 91 n_46;lD 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 c"^g*i2&0 5.1 Jobs 92 khfWU 5.2 创建一个新Job(工作) 93 #=aT Sw X 5.3 输入材料 94 P(Q}r7F~( 5.4 设计数据文件夹 95 =fy'w3m 5.5 默认设计 95 F]`_ak E 6 细化和合成 97 hC...tk 6.1 优化介绍 97 T6Ks]6m_ 6.2 细化 (Refinement) 98 PW GNUNc 6.3 合成 (Synthesis) 100 3d*wZ9qz 6.4 目标和评价函数 101 nO .:f 6.4.1 目标输入 102 Hrj@I?4 6.4.2 目标 103 F)hUT@ 6.4.3 特殊的评价函数 104 38gEto#q 6.5 层锁定和连接 104 i$S*5+ 6.6 细化技术 104 wb/@g=`d 6.6.1 单纯形 105 t
gHXIr}3 6.6.1.1 单纯形参数 106 =z
+iI; 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 +pJ~<ug] 6.6.2.1 Optimac参数 108 DjQgF=; 6.6.3 模拟退火算法 109 7xjihl3 6.6.3.1 模拟退火参数 109 Bz*6M 6.6.4 共轭梯度 111 O*+,KKPt 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 VfJdCg_ 6.6.5 拟牛顿法 112 5{O9<~, 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 k|[86<&[ 6.6.6 针合成 113 SyCa~M!}> 6.6.6.1 针合成参数 114 "c0Nv8_G 6.6.7 差分进化 114 @8'LI8 \/ 6.6.8非局部细化 115 W)fh}|.5 6.6.8.1非局部细化参数 115 l. 0|>gj`0 6.7 我应该使用哪种技术? 116 {^*D5 6.7.1 细化 116 #FsoK*F 6.7.2 合成 117 I=}pT50~9 6.8 参考文献 117 `ls^fnJTpf 7 导纳图及其他工具 118 P'D'+qS 7.1 简介 118 C &-]RffA 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Gjo&~*; 7.2.1 四分之一波长规则 119 8c0ugM 7.2.2 导纳图 120 -q}I;
cH 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 #wP$LKk 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 /D
~UK"} 7.5 斜入射导纳图 141 %] [6TZ} 7.6 对称周期 141 fW8whN 7.7 参考文献 142 XI58Cy*! 8 典型的镀膜实例 143 OIdoe0JR:O 8.1 单层抗反射薄膜 145 8I,/ysT: 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 6V6,m4e 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 D}A>`6W< |