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(LzVWz m 内容简介 7 sv
3=/` Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 &GF@9BXI3 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 f
QSP]? 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 5[3vup? }t }y 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 lt\.
)Y>4 目录
>5Y%4++( Preface 1 Y=+pz^/" 内容简介 2 z+IBy+ 目录 i tQ=P.14>: 1 引言 1 c\cPmj@ 2 光学薄膜基础 2 4X tIMa28 2.1 一般规则 2 %O]]La 2.2 正交入射规则 3 KITC,@xE_O 2.3 斜入射规则 6 JB.f7- 2.4 精确计算 7 Dy`;]-b6u 2.5 相干性 8 *Ii_dpJ 2.6 参考文献 10 !Au'WJfE 3 Essential Macleod的快速预览 10 $m{-I= 4 Essential Macleod的特点 32 *HiN:30DZ 4.1 容量和局限性 33 .!|\Y!]^r 4.2 程序在哪里? 33 g{{DC )> 4.3 数据文件 35 j4pxu/2 4.4 设计规则 35 XFJGL!wWm[ 4.5 材料数据库和资料库 37 (JV [7u - 4.5.1材料损失 38 %
NSb8@ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ]\DZW4?' 4.5.2 材料库 41 r6_g/7.- 4.5.3导出材料数据 43 FI|jsO 3 4.6 常用单位 43 PM]|S` 4.7 插值和外推法 46 w)}' {]P"c 4.8 材料数据的平滑 50 BMaw]D 4.9 更多光学常数模型 54 8SH&b8k<< 4.10 文档的一般编辑规则 55 })~M}d2LXB 4.11 撤销和重做 56 ')eg6IC0&T 4.12 设计文档 57 ZSWKVTi 4.10.1 公式 58 ux>wa+XFa 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 q|N,?f9 4.10.3 沉积密度 59 yhTC?sf< 4.10.4 平行和楔形介质 60 3vdhoS| 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 d2'1
6.lV 4.10.4 性能 61 VINb9W}G[ 4.10.5 保存设计和性能 64 '0ks`a4q 4.10.6 默认设计 64
mE1m 4.11 图表 64 ,%Go.3i[ 4.11.1 合并曲线图 67 {,;R\)8D 4.11.2 自适应绘制 68 3+:F2sjt 4.11.3 动态绘图 68 z[vHMJ
0 4.11.4 3D绘图 69 M/?*?B 4.12 导入和导出 73 Ht`kmk;I) 4.12.1 剪贴板 73 C[X2]zr 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 /O`<?aP% 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 (AIgW 4.13 背景 77 *I)F5M 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 pUV4oyGV
4.15 生成Rugate 84 1s\ 4.16 参考文献 91 =[_=y=G 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 $X\deJ1Hi 5.1 Jobs 92 |f+`FOliP 5.2 创建一个新Job(工作) 93 _|^cudRv 5.3 输入材料 94 n,Gvgf 5.4 设计数据文件夹 95 |[+/ ]Y 5.5 默认设计 95 "@s</HGo 6 细化和合成 97 vyS8yJUY 6.1 优化介绍 97 Xzn}gH] 6.2 细化 (Refinement) 98 W)~}o<a)[ 6.3 合成 (Synthesis) 100 A
WS[e$Mt2 6.4 目标和评价函数 101 lEXER^6 6.4.1 目标输入 102 ==!k99`f, 6.4.2 目标 103 _GW, 9s^A 6.4.3 特殊的评价函数 104 /^M|$JRI 6.5 层锁定和连接 104 yiO/0n Mp 6.6 细化技术 104 ?GT,Y5 6.6.1 单纯形 105 V'M#."Of/ 6.6.1.1 单纯形参数 106 |~]@hs~ 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 z%lLbKSe 6.6.2.1 Optimac参数 108 a[Y\5Ojm 6.6.3 模拟退火算法 109 l$:?82{ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 K| w\KX0 6.6.4 共轭梯度 111 G2 {R5F ! 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ehTRw8"R 6.6.5 拟牛顿法 112 L]e@./C$ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 &x.n>O 6.6.6 针合成 113 96#aGh> 6.6.6.1 针合成参数 114 {kOTQG?y 6.6.7 差分进化 114 E{8-VmY 6.6.8非局部细化 115 ]1)#Y 6.6.8.1非局部细化参数 115 ;N?raz2mEi 6.7 我应该使用哪种技术? 116 '_fj:dy 6.7.1 细化 116 w l#jSj%pd 6.7.2 合成 117 bAwFC2jO[ 6.8 参考文献 117 H"b}lf 7 导纳图及其他工具 118 o,yZ1" 7.1 简介 118 3uy^o 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 aH'=k?Of; 7.2.1 四分之一波长规则 119 v/G)E_ 7.2.2 导纳图 120 Qj3l>O 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 N@x5h8 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 wQw&.)T 7.5 斜入射导纳图 141 H[J5A2b 7.6 对称周期 141 tO~o-R 7.7 参考文献 142 AAc*\K 8 典型的镀膜实例 143 *-,jIaL; 8.1 单层抗反射薄膜 145 lU8X{SV! 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 LUKt!I0l 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 4S\S t< 8.4 W-膜层 148 Vg^,Ky, 8.5 V-膜层 149 f7v|N) 8.6 V-膜层高折射基底 150 c 4
bo 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 "?Yf3G: \0 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 /I~(*X 8.9 四层抗反射薄膜 153 XtftG7r9S 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 La8 D%N 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 g$T%
C? 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 h
{M=V 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 &:[hUn8jU 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 %(ms74R+ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 t2hI^J0y 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 cL+bMM$4r~ 8.17 1/4波长堆栈 162 r 3FUddF' 8.18 陷波滤波器 163 uGY(` 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 \rSofn#c 8.20 褶皱 165
H$!sK 8.21 消偏振分光器1 169 `%$l
b:e 8.22 消偏振分光器2 171 |'!9mvt= 8.23 消偏振立体分光器 172 F-GrQd:O= 8.24 消偏振截止滤光片 173 xY@< |