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iB498t 内容简介 * cgI.+ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 aXoVy&x= 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 [DF,^4g 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 m_)FC-/pSl <UQe.K" 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ^G.B+dG@`x 目录 /%;mqrdk Preface 1 d&+h}O 内容简介 2 /|D*w^> 目录 i [_Qa9e 1 引言 1 vuoQz\ 2 光学薄膜基础 2 J{k79v 2.1 一般规则 2 ;oy-#p>N% 2.2 正交入射规则 3 *^:N.&] 2.3 斜入射规则 6 Mw;sLsu 2.4 精确计算 7 BBtzs^C| 2.5 相干性 8 <=>=.kmGt 2.6 参考文献 10 %|^fi8!:| 3 Essential Macleod的快速预览 10 Uk6HQQ 4 Essential Macleod的特点 32 }Nf%n@ 4.1 容量和局限性 33 |v({-*7 4.2 程序在哪里? 33 Yo|,]X>/ 4.3 数据文件 35 mD^jd+ 4.4 设计规则 35 n\^Tq<] a 4.5 材料数据库和资料库 37 23DiW#o' 4.5.1材料损失 38 C,NJb+J 4.5.1材料数据库和导入材料 39 C,v(:ZE$J7 4.5.2 材料库 41 n:{qC{D-qS 4.5.3导出材料数据 43 U
15H2-` 4.6 常用单位 43 ;n&t>pBM 4.7 插值和外推法 46 %>g3~yl 4.8 材料数据的平滑 50 oyYR-4m\ 4.9 更多光学常数模型 54 `wDl<[V 4.10 文档的一般编辑规则 55 Yi$vg 4.11 撤销和重做 56 ]hFW73FV 4.12 设计文档 57 -i%e!DgH 4.10.1 公式 58 +,#$:fs u 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Wwr;-Qa}g 4.10.3 沉积密度 59 YJJB.hR+ 4.10.4 平行和楔形介质 60 "gDb1h)8 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ]zWon~ 4.10.4 性能 61 Y07ZB'K 4.10.5 保存设计和性能 64 TX&Jt% 4.10.6 默认设计 64 !qM=a3 4.11 图表 64 kNobl 4.11.1 合并曲线图 67 IVAmV!.z 4.11.2 自适应绘制 68 @NNq z 4.11.3 动态绘图 68 i;_t I#:A 4.11.4 3D绘图 69 G}ob<`o|" 4.12 导入和导出 73 +O*/"]h 4.12.1 剪贴板 73 \E*d\hrl{ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 Lcg)UcB-# 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 TjwBv6h 4.13 背景 77 -bSSP!f 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 &i$ldR 4.15 生成Rugate 84 VCD:3U 8
4.16 参考文献 91 R'! 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 $**r(HV 5.1 Jobs 92 |4uWh 5.2 创建一个新Job(工作) 93 xT+zU} z 5.3 输入材料 94 ,I%g|'2 5.4 设计数据文件夹 95 $D|e>U 5.5 默认设计 95 3tZ]4ms} 6 细化和合成 97 X;"Sx#U 6.1 优化介绍 97 aD=A^ktx 6.2 细化 (Refinement) 98 RF%KA[Dj 6.3 合成 (Synthesis) 100 wv\w;' 6.4 目标和评价函数 101 b-{=s+: 6.4.1 目标输入 102 \<y#R~7s 6.4.2 目标 103 lna}@]oR 6.4.3 特殊的评价函数 104 VBcy9|lD 6.5 层锁定和连接 104 bqnNLs<N 6.6 细化技术 104 k=4N.*#`y 6.6.1 单纯形 105 xx{PespNt 6.6.1.1 单纯形参数 106 ~1W x= 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 +KvU$9Ad> 6.6.2.1 Optimac参数 108 d+Ek%_ 6.6.3 模拟退火算法 109 q(2K6 6.6.3.1 模拟退火参数 109 d\
1Og\U|A 6.6.4 共轭梯度 111 pJt,9e6 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 n=c
2Kc 6.6.5 拟牛顿法 112 |!"`MIw, 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 ^w c"&;=c| 6.6.6 针合成 113 YYu6W@m] 6.6.6.1 针合成参数 114 Nz],IG. 6.6.7 差分进化 114 CJJzCVj 6.6.8非局部细化 115 m6[0Kws& 6.6.8.1非局部细化参数 115 fM^qQM[lG 6.7 我应该使用哪种技术? 116 8\5 T3AF 6.7.1 细化 116 7zSLAHW 6.7.2 合成 117 2gq9k}38 6.8 参考文献 117 |,!IZ-
th 7 导纳图及其他工具 118 .QN>z-YA6: 7.1 简介 118 iTAx=SG 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Ire\i7MF: 7.2.1 四分之一波长规则 119 Xt@Z}B))pu 7.2.2 导纳图 120 7[5.> h 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 Gr^E+#; 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 glF; eT 7.5 斜入射导纳图 141 |qmu_x\ 7.6 对称周期 141 }Hxd*S 7.7 参考文献 142 lS'-xEv? 8 典型的镀膜实例 143 HP3lz,d 8.1 单层抗反射薄膜 145 HLZ;8/|48m 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 aW`Lec{. 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Ooq! 0g 8.4 W-膜层 148
s8rE$ 8.5 V-膜层 149 8@2OJ =`[ 8.6 V-膜层高折射基底 150 ^k#P5oV 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 5&q8g;XiEM 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 )>`G 8.9 四层抗反射薄膜 153 JaL%qco 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 .sj^{kGE 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 6w(6}m.L^ 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Yo("U8:XX 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 L G1r]2 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 5yiK+-iTs 8.15十五层宽带抗反射膜 159 -QmO1U 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 [ zEUH:9D 8.17 1/4波长堆栈 162 DFd%9*N 8.18 陷波滤波器 163 371
TvZ4 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 _oUHJ~&, 8.20 褶皱 165 I{*< |