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AIl4]F5I 内容简介 I_)*)d44_ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 83~ i:+; 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 'Ye v}QM 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 j F"YTr6 rnFM/GAy 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 GV|9H]_,I 目录 w?vVVA Preface 1 9-1#( Y6S 内容简介 2 8kL4~(hY 目录 i *V^ #ga#A 1 引言 1 i%Z2wP.o 2 光学薄膜基础 2 VL+C&k v] 2.1 一般规则 2 j`*N,*ha 2.2 正交入射规则 3 ITJ q 2.3 斜入射规则 6 _, AzJ^ 2.4 精确计算 7 'm=*u
SJK 2.5 相干性 8 W_M'.1 t 2.6 参考文献 10 W`rNBfG> 3 Essential Macleod的快速预览 10 yq[Cq=rBk 4 Essential Macleod的特点 32 0'Z\O
4.1 容量和局限性 33 H[Q_hY[>V 4.2 程序在哪里? 33 EOKzzX7 S 4.3 数据文件 35 SS|z*h
Z 4.4 设计规则 35 Zi$ziDz& 4.5 材料数据库和资料库 37 U]~^Z R 4.5.1材料损失 38 i8X`HbmN 4.5.1材料数据库和导入材料 39 3:/'n 4.5.2 材料库 41 H jNxqaljt 4.5.3导出材料数据 43 B6P|Z%E;D6 4.6 常用单位 43 hqSJ(gs{ 4.7 插值和外推法 46 |aToUi.Q% 4.8 材料数据的平滑 50 Y$8JM 4.9 更多光学常数模型 54 O;Y:uHf 4.10 文档的一般编辑规则 55 Q/>L_S 4.11 撤销和重做 56 I8Vb-YeS 4.12 设计文档 57 #_
C 4.10.1 公式 58 ov#7hxe 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 I3S9Us-\ 4.10.3 沉积密度 59 `BFIC7a 4.10.4 平行和楔形介质 60 R5_i15< 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 JWP*>\P 4.10.4 性能 61 ZUXr!v/R:1 4.10.5 保存设计和性能 64 7cg*|E@ 4.10.6 默认设计 64 zW |=2oX2 4.11 图表 64 7EhN u@5- 4.11.1 合并曲线图 67 'BMy8 4.11.2 自适应绘制 68 cTZ.}eLh 4.11.3 动态绘图 68 xvLn'8H. 4.11.4 3D绘图 69 n";02?@F 4.12 导入和导出 73 ;(6g\'m 4.12.1 剪贴板 73 {Z;t ^:s# 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 #1-xw~_ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 5x2Ay=s 4.13 背景 77 ?wpB` 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 a@d=>CT$ 4.15 生成Rugate 84 ITuq/qts]A 4.16 参考文献 91 CDy^UQb 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 @MR?6 n*k 5.1 Jobs 92 6qvp*35Cx 5.2 创建一个新Job(工作) 93 O OFVnu 5.3 输入材料 94 HHk)ZfWRo 5.4 设计数据文件夹 95 Ma-\^S= 5.5 默认设计 95 _#$9 y1bd 6 细化和合成 97 {[Q0qi = 6.1 优化介绍 97 u<ySd? 6.2 细化 (Refinement) 98 \6|/RFT 6.3 合成 (Synthesis) 100 ^
?hA@{T/1 6.4 目标和评价函数 101 CENVp"C/` 6.4.1 目标输入 102 v]:=K-1n 6.4.2 目标 103 *y[PNqyd 6.4.3 特殊的评价函数 104 ']6VB,c` 6.5 层锁定和连接 104 ?@6b>='! 6.6 细化技术 104 )4Q?aMm 6.6.1 单纯形 105 0Rxe~n1o 6.6.1.1 单纯形参数 106 :HViX:]H 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 jZfx Jm 6.6.2.1 Optimac参数 108
Fnx`Ri 6.6.3 模拟退火算法 109 DmqX"x%P 6.6.3.1 模拟退火参数 109 m@Ev~~; 6.6.4 共轭梯度 111 /Wk9-uH 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 "L"150Ih 6.6.5 拟牛顿法 112 _,h@:Xij 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 BF|(!8S$U 6.6.6 针合成 113 &7?R+ZGo 6.6.6.1 针合成参数 114 79J-)e9 6.6.7 差分进化 114 omZO+=8Q 6.6.8非局部细化 115 t/i5,le 6.6.8.1非局部细化参数 115 WUdKLx%F 6.7 我应该使用哪种技术? 116 kW=z+ 6.7.1 细化 116 T0HuqJty 6.7.2 合成 117 ]J1S#Q5' 6.8 参考文献 117 2R-A@UE2 7 导纳图及其他工具 118 \~rlgxd 7.1 简介 118 dmrps+L 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 rWtZj}A 7.2.1 四分之一波长规则 119 $*[{J+t_ 7.2.2 导纳图 120 |BMV.Zi 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 w6|9|f/ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 n
?[/ufl 7.5 斜入射导纳图 141 D.!~dyI.,$ 7.6 对称周期 141 ?gGt2O1J 7.7 参考文献 142 dHnR_. 8 典型的镀膜实例 143 z|R,& |