-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-07-22
- 在线时间1977小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
O`_]n 内容简介 .PCbGPbk Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 N.vkM`Z 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 L>rW S-
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 u&'&E
=%{E^z>1 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 91ec^g 目录 %htbEKWR Preface 1 d 1 O+qS 内容简介 2 U8eU[|-8O/ 目录 i ;(s.G-9S 1 引言 1 k~]\kv= 2 光学薄膜基础 2 nIl<2H]F` 2.1 一般规则 2 kZQ$Iv+^( 2.2 正交入射规则 3 rUmnv%qTS 2.3 斜入射规则 6 ):V)Hrq?x 2.4 精确计算 7 787}s`,} 2.5 相干性 8 Oe0dC9H 2.6 参考文献 10 CYNpbv 3 Essential Macleod的快速预览 10 bQwiJ`B& 4 Essential Macleod的特点 32 mnH1-}oL
4.1 容量和局限性 33 C7!=LiK} 4.2 程序在哪里? 33 KvEZbf3f 4.3 数据文件 35 Jh%k:TrBm 4.4 设计规则 35 c#pVN](? 4.5 材料数据库和资料库 37 wtQ (R4 4.5.1材料损失 38 BgwZZ<B 4.5.1材料数据库和导入材料 39 GEAVc9V 4.5.2 材料库 41 #Y>d@ 4.5.3导出材料数据 43 )Ju$PrO 4.6 常用单位 43 cWa>rUsF 4.7 插值和外推法 46 (z'!'?v; 4.8 材料数据的平滑 50 [~ |e: 4.9 更多光学常数模型 54 Ay\!ohIS3 4.10 文档的一般编辑规则 55 fQ,(,^!; 4.11 撤销和重做 56 "Oy&6rrr 4.12 设计文档 57 "#`c\JuR] 4.10.1 公式 58 7@i2Mz/eV 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 wqp(E+& 4.10.3 沉积密度 59 $]iRfXv,l! 4.10.4 平行和楔形介质 60 }{e7wqS$&, 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 WR>2t&;E 4.10.4 性能 61 Xu\2 2/Co 4.10.5 保存设计和性能 64 Uf-`g> 4.10.6 默认设计 64 I\ y>I?X 4.11 图表 64 @0rwvyE=+3 4.11.1 合并曲线图 67 0 }aw9g 4.11.2 自适应绘制 68 hH@pA:`s 4.11.3 动态绘图 68 ^
P=CoLFa 4.11.4 3D绘图 69 LL=nMoS 4.12 导入和导出 73 \J^|H@;(@ 4.12.1 剪贴板 73 [es-&X07< 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 >5-]Ur~ 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 `!g
XA.9Uv 4.13 背景 77 {~:F1J~= 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Gnmxp%&}P| 4.15 生成Rugate 84 H>5@/0cL2 4.16 参考文献 91 g,cl|]/\d 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 (#k2S-5 5.1 Jobs 92 #oD*H:%* 5.2 创建一个新Job(工作) 93 dKTUW<C 5.3 输入材料 94 a0x/ ?)DO 5.4 设计数据文件夹 95 cc$+"7/J^c 5.5 默认设计 95 RJZ4fl 6 细化和合成 97 #$9rH
2zd 6.1 优化介绍 97 3:WXrOl 6.2 细化 (Refinement) 98 KwuNHK)- 6.3 合成 (Synthesis) 100 jP|(y]! 6.4 目标和评价函数 101 awa$o 6.4.1 目标输入 102 k ihO~< 6.4.2 目标 103 ur2`.dY>3" 6.4.3 特殊的评价函数 104 tvG/oe .1' 6.5 层锁定和连接 104 IT0*~WMZ 6.6 细化技术 104 1(z+*`"WB& 6.6.1 单纯形 105 &O.S ;b*+ 6.6.1.1 单纯形参数 106 G|Y9F|.! 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 UZ+FV;< 6.6.2.1 Optimac参数 108 I|?Z.!I| 6.6.3 模拟退火算法 109 onj:+zl 6.6.3.1 模拟退火参数 109 A">A@`} 6.6.4 共轭梯度 111 8TnByKZz 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 tJ9i{TS 6.6.5 拟牛顿法 112 vMOit,{ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 SggS8$a` 6.6.6 针合成 113 URD<KIN> 6.6.6.1 针合成参数 114 {?9s~{Dl 6.6.7 差分进化 114 pJE317 p' 6.6.8非局部细化 115 r:Xui- 6.6.8.1非局部细化参数 115 xd H*[ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 +}@HtjM 6.7.1 细化 116 If_S_A c 6.7.2 合成 117 RT)*H>| 6.8 参考文献 117 =N zA2td 7 导纳图及其他工具 118 h4^
a#%$ 7.1 简介 118 nEM>*;iE 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 @u2nG:FG 7.2.1 四分之一波长规则 119 3J{`]v5` 7.2.2 导纳图 120 \}e1\MiZ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 WeTs va+ 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 rE
bC_< 7.5 斜入射导纳图 141 0VB~4NNR 7.6 对称周期 141 pU*dE
7.7 参考文献 142 =,~h]_\_ 8 典型的镀膜实例 143 [S/]Vk|4 8.1 单层抗反射薄膜 145 ;?i(WV}ee 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 )vK
%LmP 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 rnVh
]xJ 8.4 W-膜层 148 5u\si4 BL{ 8.5 V-膜层 149 ~Cj55S+ 8.6 V-膜层高折射基底 150 +M6qbIO 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 (Ia} ]q 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 $Rsf`*0- 8.9 四层抗反射薄膜 153 +]Y&las 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 \dbjh{ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 5xi f0h-` 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Fr)G
h> 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 0*"auGuX 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 |.Bb Pfe8f 8.15十五层宽带抗反射膜 159 O=#FpPHrdw 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 #"a?3!wr 8.17 1/4波长堆栈 162 ,iU ]zN// 8.18 陷波滤波器 163 $@t-Oor; 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 I#kK! m1Q 8.20 褶皱 165 +!V*{<K 8.21 消偏振分光器1 169 92GO.xAD? 8.22 消偏振分光器2 171 dm& |