-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-05-13
- 在线时间1972小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 ##]
`
yz NDXA.
 e<u~v0rDl w);Bet 任务描述 +f^|Yi
kk
CoOTe&
 5]3Mj*u\ v)zxQuH]^ 镀膜样品 Q? Xqf7y 关于配置堆栈的更多信息。 UD2 l!)rW 利用界面配置光栅结构 1yc$b+T H 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 >8` ;SEnv - 涂层厚度：10纳米 sk t9mU - 涂层材料。二氧化硅 lj *=bK - 折射率：扩展的Cauchy模型。 WZ bRR.TxO  b^P \Kky 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 @_#]7
- 基板材料：晶体硅 4 `}6W>*R - 入射角度。75° [/J(E\9 B-$ps=G+z  Fdx4jc13w
_#<7s`i 椭圆偏振分析仪 &c=
3BEh
/E Z -
 `my\59T ge{%B~x 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 wI[J> 9Qn 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 }%,LV]rGEZ 'L%)B-,n
椭圆偏振分析仪 KM
oDcA jH ( d8rfet
 wr6(C:
]vCs9* |B 总结 - 组件... 17ynFHMd,
4_ZH Y?VRd
 $j0<ef! #]w BXzu?  ;Z&w"oSJ Y^5)u/Y=U 椭圆偏振系数测量 M nW"ksH
n*eq M2 L 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 `6*1mE1K &
-D_xA10
 uX&Tn1Kg pm*i!3g' 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 d]^\qeG^p
7}Jn`^!
 Vf$q3X XpP}(A@G 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 tHH @[E+h
v *@ R U 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 "A}2iI YD; "_yH
 KyzdJ^xC" * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) 1F[W~@jW hJoh5DIE95 仿真结果与参考文献的比较 {MmK:C
SKSI\]Cc 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 J/A UOInh
YM +4:P2
 Z+S1e~~ t[b Zg 9; VirtualLab Fusion技术 n'<F'1SWv
vsbD>`I
 m^1'aO_;q
vb]H $@0
 (!diPwcv
|
