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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 V;m3=k0U
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 6V)# Yf T<OLfuV 任务描述 U+K_eEI0_I
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 b7$?'neH/. M 1^pW 6 3 镀膜样品 Uz0mSfBp 关于配置堆栈的更多信息。 Gqs8$[ o 利用界面配置光栅结构 Z'EZ PuZ!' 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 MV/JZ;55 - 涂层厚度：10纳米 ! } 1p:@ - 涂层材料。二氧化硅 GB -=DC6 - 折射率：扩展的Cauchy模型。 /XXW4_>  mBNa;6w?{* 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 +h
=lAHn& - 基板材料：晶体硅 (]ORB0kl - 入射角度。75° f.,-K IiF K1Tzy=Z9j  lU@ni(69d
3}H94H)]a 椭圆偏振分析仪 8]0^OSS
? 0%lB=qQ
 .G^ .kg , '?-GZ0oM 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 Tkd4nRo~ 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 _uRgKoiy s?=J#WV1y
椭圆偏振分析仪 XpM#0hm j tZ@`io
 Xd jxt?*
)q#b^( v 总结 - 组件... @]A4 {
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 ~ oOOCB <uA|nYpp  Jl}$) ' Q.!8q3` 椭圆偏振系数测量 39u!j|VH
f$P pFSY4 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 md<%Z4+
N?~K9jGx(
 /P,J);Y -0>@jfP^D 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 /9 [nogP
= uOFaZ 4
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z1t B=9|g1e 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 ')go/y`YK
,cpPXcz ?, 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 L!5%;!>.P lGs fs(
 8TuOf(qE * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) #.) qQ8*( 7XdLZ4ub 仿真结果与参考文献的比较 W[+E5I
K^9!Qp 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 c,e
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0e 3 aWn
 G:f]z;Xdp aN.Phn: VirtualLab Fusion技术 RM,r0Kv17Y
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