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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 |'=R`@w~0
i':< Ro
 Z: 9" 7^+ 5oWR}qqFK 任务描述 nKkI
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 0xC {Lf& |{Z?a^- NJ 镀膜样品 &HZ"<y {j 关于配置堆栈的更多信息。 +~ 02j1Jx 利用界面配置光栅结构 kY4riZnm 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 }3^t,>I=,6 - 涂层厚度：10纳米 aLuxCobV - 涂层材料。二氧化硅 ,p>= WX - 折射率：扩展的Cauchy模型。 !>;p^^e  A^
t[PKM" 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 QSEf - 基板材料：晶体硅 MBDu0
[c - 入射角度。75° z+NXD4 ~ N_\V  d^WVWk K
qeSxE`E " 椭圆偏振分析仪 d5+ (@HSR
86@"BNnTh
 [D?RL `ZF Y-@K@Zu]? 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 &d 9tR\} 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 <+" Jh_N# pv P|.sw5G
椭圆偏振分析仪 [|xHXcW z9YC9m)jK
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q9yY% 总结 - 组件... @B*?owba>
ft4J.oT
 B.;/N220P r^VH [c@c  ZVVK:d Dgt GmPNzHDb 椭圆偏振系数测量 92bvmP*o4
S;MS,R 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 u==bLl=$
\zR{D}aS
 @T|mHfQ8 <<@$0RW 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 'h.{fKG]ME
{(Drw~/@
 ShxB! /s j{0_K +B 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 Wb68" )$
[l:3F<M 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 Txj%o5G O (<Wn-
 b`PAOQ * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) G5 Y 8]N x0?8AG% 仿真结果与参考文献的比较 ; mu9;ixZ
M4XnuFGB[w 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 \vs,$h
,i;kAy)
 c1'OIK C iXqc$!lTH VirtualLab Fusion技术 UsNr$MO
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