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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 %s~MfK.k
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 XW6Ewrm=vT ^B2>lx \n 任务描述 5haJPWG|'
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 79<{cexP [QA@XBy6 镀膜样品 Hep]jxp+ 关于配置堆栈的更多信息。 m4(:H(Za 利用界面配置光栅结构 U3MfEM!x 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 O3#4B!J$E - 涂层厚度：10纳米 I,D24W4l - 涂层材料。二氧化硅 q#Az\B: - 折射率：扩展的Cauchy模型。 +\G/j ]3f  qve2?,i8hM 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 g$e b@0$ - 基板材料：晶体硅 W: 8_S%~d - 入射角度。75° PgAC3%M6 Cul^b_UmP#  cYyv
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LBT{I)-K 椭圆偏振分析仪 ;1}~(I#Y
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 6s BS;+C b Mi,z3z 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 xN 0n0 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 a6"Pe07t 6rMGl zuRo
椭圆偏振分析仪 &Cp)\` [y qcz Gv2%!
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HMJx[ yD 总结 - 组件... l'T3RC,\
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 Ua]shSjyI J3cbDE%^m  s QfP8}U j`Fsr?]/ 椭圆偏振系数测量 8r(S=dA
%,$/wh)<V 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 vtG_ A{l
4F EOV,n
 vttmSdY l'HrU 1_7Y 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 wQJY,|.
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 d:} a FP[ H2` aw3 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 >t')ZSjRs
n; ;b6s5 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 Fp..Sjh
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 } Wjb0V * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) .^8 x> ~ jdiFb~5R 仿真结果与参考文献的比较 E#X1P #$pW
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'$8 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 #` )zD"CO
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 5xL%HX[S >u#c\s VirtualLab Fusion技术 O0Y/y2d
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