-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-05-13
- 在线时间1972小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 \\D~Yg\#
pr-{/6j6
 wBcD L/(> 7 #,+Q(2 任务描述 Pc]c8~
TBQ`:`g^m
 r)mm8MI!Z `.dT k L 镀膜样品 U6=m4]~Z 关于配置堆栈的更多信息。 $gZ|=(y&r 利用界面配置光栅结构 >t8eVMMa 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 _>5BFQ_ - 涂层厚度：10纳米 Smk]G))o{ - 涂层材料。二氧化硅 %!rsu-W:Y - 折射率：扩展的Cauchy模型。 iA ZtV'VQ)  #G#gB 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 I{cn ,,8 - 基板材料：晶体硅 c_^H;~^rL - 入射角度。75° q #\eL~k JsPuxu_  v;K\#uc_
wU#Q>ut'% 椭圆偏振分析仪 u gfV'
vJq`l3&
 "Ln\ZYB] ^ O` 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 h V8A<VT 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 % 9WWBxS hrAI@.Bo
椭圆偏振分析仪 xEiW]Eo rfPJBD{Ve
 $9J"r9@@
L, kF] 总结 - 组件... TOuFFR
fg1 zT~
 pI^n("| a,tP.Xsl  vMI \$E & k<f* n s 椭圆偏振系数测量 r-V./M@L
$i` YtV 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 <St`"H
-FPl",f=r
 (nzzX?`nY M>^IQ 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 7 )]G"m{
bVrvb`0
 ~lL ($rE nAYjSE 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 bC{~/ JP
= G_6D 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。
aqN.5'2\ "N;|~S)w!
 ])JJ`Z 8Bk * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) {J]|mxo )2A4vU-IR. 仿真结果与参考文献的比较 _Dv^~e1c
}0TY 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 p)ONw"sb
`l}-S |a
 j{PX ~/ :s5g6TR VirtualLab Fusion技术 y\[=#g1(@
fS ~.K9
 @K/I a!Lw
x\%eg w
 >&VL2xLy
|
