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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 _t<&#D~
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 OiI [w8 06@^knm 任务描述 _`yd"0 Ux
m~;fklX S
 \7W>3 r[xj,eIb 镀膜样品 +a$'<GvP 关于配置堆栈的更多信息。 5\RTy}w3x 利用界面配置光栅结构 u6o:~=WwM 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 r0ml|PX - 涂层厚度：10纳米 , 'WhF- - 涂层材料。二氧化硅 VOc_7q_= - 折射率：扩展的Cauchy模型。 O;RsYs9  C9^[A4O@X! 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 7_Yxz$m - 基板材料：晶体硅 t)|*-= - 入射角度。75° ovv<7` l*^J}oY  KU,K E tf
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c 椭圆偏振分析仪 U5 X\RXy~
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 4 .7 YIM (S1c6~ 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 sywSvnPuYZ 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 N ] KS \ \Fd6Q_
椭圆偏振分析仪 IXE`MLc
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;pk4Voo$ 总结 - 组件... uSnG= tB
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 WXJEAje ,;3#}OGg  y|r+< 4n55{ ?Z 椭圆偏振系数测量 i?+ZrAx>
ZL!,s# 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 Z)
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 _5<d'fBd $~x#Q?-y 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 Swugt"`nN
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 ?HD(EGdx bv %Bo4s 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 m\9R;$ \
"*08?KA 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 _ ~q!<-Z gcS ?r :
 jA<(#lm; * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) kV >[$6 @9,=|kxK 仿真结果与参考文献的比较 r Ga@!^hk
NC ]]`O2r@ 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 &j}08aK%
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 :P,g, z{wW6sgP r VirtualLab Fusion技术 e}@V R<h
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