-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-09-29
- 在线时间1866小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 IMDGinHAy
o%E^41M7E
 5g3D}F>OJ !!4` #Z0+# 任务描述 ' s6SKjZS
#PpmR _IX
 xu _ : < g|\]\C| 镀膜样品 VnB"0 "%w 关于配置堆栈的更多信息。 3~7X 2}qU 利用界面配置光栅结构 5P'<X p 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 D@5AI
]( - 涂层厚度：10纳米
nmn 8Y
V1 - 涂层材料。二氧化硅 WZ a ?Xb - 折射率：扩展的Cauchy模型。 _S[@d^cY  CVp`G"W: 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 O]SjShp - 基板材料：晶体硅 (c<MyuWb - 入射角度。75° l H@hV '<.@a"DnJ  T(E$0a)#
G:HPd.ay 椭圆偏振分析仪 478gl
o
#&A)%Qb g
 vnT'.cBB:^ ]D@_cxud3 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 yaiw|j`A 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 ]\ y:AkxhJ 9#CE m &c
椭圆偏振分析仪 }6;v`1Hr s3sAw~++
 bcp+7b(IB
MY]Z@ 总结 - 组件... df=G}M(
x4&<Vr
 xU4,R cgo '$@bTW  =}6yMR!4R< 5m _ $21 椭圆偏振系数测量 ai!zb2j!E
6PF7Wl7. 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 &R\t<X9 n
Q:6i
3 Nr/
 LZirw' %jgB;Y 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 k?%? EsR
5E|y5|8fb
 gr?[KD l~ 9"5J-a' 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 FwB }@)3
KiXR BFo 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 \>b
: 2 1b
 8<gYB$* S * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) u|v2J/_5Y $IZ02ZM$ 仿真结果与参考文献的比较 ZK1H%&P=R
B:-qUuS?R 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 ^W&qTSjh
O$=[m9V
 N, F mu ^ EK]z8;| VirtualLab Fusion技术 jea{BhdUr
{tq.c9+!d
 C5q
n( tv
w}wABO
 ]kXiT Yg
|
