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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 3
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MX3s s,F ;%Z%]n IS 任务描述 =r<0l=
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 fO!S^<9,- oB3," zY 镀膜样品 ELx?ph -9 关于配置堆栈的更多信息。 9!XW): 利用界面配置光栅结构 qO5.NIs 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 Qlbh Qkn - 涂层厚度：10纳米 Y,v8eOo45S - 涂层材料。二氧化硅 =~Ac=j!q - 折射率：扩展的Cauchy模型。 GJ >vL  tDuQ+|~M 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 bL=32YS - 基板材料：晶体硅 {H$F!}a - 入射角度。75° l)PEg PSRV 69Y>iPRU  R~-r8dWcw
7\'ow|)}v 椭圆偏振分析仪 6B4s6
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 X#s:C=q1 'E/vE0nN? 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 ~I0I#_$'P 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 48.2_H< (n&Hjz,Fv
椭圆偏振分析仪 .uAO k0^z dAOmqu, 6
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@@U'I ^iG 总结 - 组件... {u BpM9KT
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 #;F1+s<|QJ / jI>=:z  S.o@95M
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Ba un 椭圆偏振系数测量 =1o_:VOG
jW6~^>S 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 PI7M3\z
{nH.
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 1>W|vOv"Z? ;{]%ceetcu 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 IX eb6j8
NpRT\cx3
 _oxc~v\ < LC5NB{b\%> 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 DU g
u</21fz' 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 Rv=(D^F, #vhxW=L`=
 mA5x ke_) * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) qyMR0ai- |H&2[B"l 仿真结果与参考文献的比较 _20nOg `o
|F3 6 ^ 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 z BWn*A[4
PTe8,cD>
 BH0@WG7F pg69mKZ$ VirtualLab Fusion技术 %WrUu|xj>_
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