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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 //Tr=!TQu
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 nI_Zk.R 'T|.<u@~ 任务描述 vlj|[joXw
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9 tfv]A C7x 镀膜样品 :f/ p5 c 关于配置堆栈的更多信息。 &*)tqQeQf 利用界面配置光栅结构 ,$;CII
v 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 cF vGpZ - 涂层厚度：10纳米 Vj?.' ( - 涂层材料。二氧化硅 T. ` %1S - 折射率：扩展的Cauchy模型。 ;:$N a=  !& 'xkw ` 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 $yFur[97C - 基板材料：晶体硅 /{kyjf[o&* - 入射角度。75° swLgdk{8n Bxa],inuZ  Y6D =tb
%74 Ms 椭圆偏振分析仪 J0=`n (48B
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 U.^)|IHW W X\%FJ 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 #J LDj(a? 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 )7i?8XiSZF l
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椭圆偏振分析仪 G0(c@FBK 5W{>5.Arx)
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f` IgfJN 总结 - 组件... yh0|f94m
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qs6%  a<Ns C1 VUnEI oKM 椭圆偏振系数测量 y2qESAZ%k}
YwF6/JA 0^ 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 eh`V#%S=
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 VG8rd'Z -y\ N 9 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 p Jv?
~ F(+uJbO
 7K;dVB &iGl)dDr 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 5PPy+36<~
"w'YZO ]> 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 K4F!?# V!opnLatYS
 }agl:~C * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) ^6 LFho4 :O!G{./(_ 仿真结果与参考文献的比较 qIqk@u
a[$.B2U 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 LQh\j|e9
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 r2](~&i2 jo |q,t VirtualLab Fusion技术 eB\r/B]
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