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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 7(8;t o6(
Om\vMd@!
 hx %v+/ mxC;?s;~ 任务描述 ]neex|3lG
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 #OD/$f_ K7:)nv
E 镀膜样品 %T%sGDCV 关于配置堆栈的更多信息。 E,U+o $ 利用界面配置光栅结构 6SkaH<-&K 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。
xF'EiX ~ - 涂层厚度：10纳米 ,/F~ Y&1I - 涂层材料。二氧化硅 ?M9=yA - 折射率：扩展的Cauchy模型。 )23H 1  )~ J Hgl 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 #rfiD%c - 基板材料：晶体硅 k fY}S - 入射角度。75° K`zdc`/ )yZ^[uJ}3C  N
+_t-5
h2]P]@nW;W 椭圆偏振分析仪 'XjZ_ng
~Otoqu|
 :>f )g {q J1ko)$ 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 hRCJv#]HC 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 joAv {Tc Zt{[ *~
椭圆偏振分析仪 ,i`,Oy(BI rcG"o\g@+
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^%{7}g&$u 总结 - 组件... }!.(n=idZ
08\, <9
 " &?kC2Y| > jLY"  $Sip$\+* Z0" , !6nS 椭圆偏振系数测量 +lcb i
0znR0%~ 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 Js?]$V"
MH\dC9%p
 16( QR- hD!7Cl Q 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 J<h $
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 Ioa$51& 3,qr-g|;jM 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 ~H sJUro
nMUw_7Y6 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 iz PDd{[ d^
8ZeC#
 :tg)p+KB * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) c-6?2\]j@ X5$ Iyis 仿真结果与参考文献的比较 '_Fsv HQ
7[XRd9a5( 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 >} i E(
C33J5'(CA
 n;Vs_u/Nx ;[OH(! VirtualLab Fusion技术 cR<fJ[*
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