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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 RNb" O{3
1qh SN#s{_
 n(jrK9] >0 I\w$L 任务描述 m =%yZ2F;
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 d? 4-"9Y e%KCcU 镀膜样品 90!67Ap`x 关于配置堆栈的更多信息。 dA$qzQ 利用界面配置光栅结构 'E %+ O 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 V)cL=4G - 涂层厚度：10纳米 !p(N
DQm - 涂层材料。二氧化硅 )OV2CP - 折射率：扩展的Cauchy模型。 a/U4pSug  _yc &'Wq 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 nrCr9# - 基板材料：晶体硅 a<&GsDw - 入射角度。75° M[?0 ^ FBx I5w> *F  zE]h] $oi
7aeyddpM 椭圆偏振分析仪
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HI{IC!6
 $m F9os- p-B
|Gr| 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 /t_AiM,( 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 $WG< w>6 cc#>q
椭圆偏振分析仪 l6< bV#_qe 9v(k<('_
 X> ck.}F
]McDN [h: 总结 - 组件... 3zo:)N \K
<{1=4P A
 nSB@xP#& Vi<F@ji  !Bn,f2 ;<nQl,2N 椭圆偏振系数测量 |Q*{yvfEo
nBGcf(BE.$ 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 'Sjt*2blq
I.u[9CI7HU
 0v'!(&m &``nYI g/ 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 tz/NR/[
gR@," 6b3
 %q_b\K yo_;j@BGR 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 Bngvm9k3
4>t=r\"4 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 ]rc =oP; E{}Vi>@V?
 {Zr f >ST * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) 8d8GYTl b) R![4|FR 仿真结果与参考文献的比较 S~ Yu;
6G]hs gro 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 Vv3:x1S
P 2sM3C
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[ u TtP2>eh- VirtualLab Fusion技术 =Bb/Y`Q
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