-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-04-29
- 在线时间1766小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 tmgZNg
\b6vu^;p
 86f8b{_e" t}X+P`Ovq 任务描述 ZQ)vvD <
v1aE[Q
' ]__V[ K2@],E?e%| 镀膜样品 p?H2 W- 关于配置堆栈的更多信息。 JE=3V^k 利用界面配置光栅结构 "">{8 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 i%3q*:A]2 - 涂层厚度：10纳米 "IA :,j.#g - 涂层材料。二氧化硅 % s),4 - 折射率：扩展的Cauchy模型。 yLY$1#Sa  C lWxL#L6~ 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 .:(T}\]R - 基板材料：晶体硅 \<kQ::o1y - 入射角度。75° `Re {j{~s 1> 'xmp+#  3 :mZ1+
Dwa.ZY}- 椭圆偏振分析仪 XbYST %| .
~LU$ n o^
 ["~T)d' 4DV@- 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 qbq.r&F& 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 + :;6kyM6X gaC [%M
椭圆偏振分析仪 Oe YZLC( ` s|^
 k* e $_
_(J4 总结 - 组件... \}EJtux q
m;oCi }fL
 DPBWw[ R^Y>v5jAe  w%uM=YmuT rGgP9
( 椭圆偏振系数测量 Mq Q'Kjo
2"pFAQBw~i 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 ,UATT]>
Dwbt^{N ^
 8\BYm|%aa 7Rl/F1G o} 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 9FcH\ 2J
l % 0c{E~
 ~aL&,0 /:+MUw7~ 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 (3
]!ZV
(RafidiH 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 :} N;OS _ 8<_dNt'91
 ;uyQ R8 * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) fIii *f
k3IvAXu 仿真结果与参考文献的比较 vhz Q. >
~n{lu'SIX2 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 -o B` v'
5$%CRm
 flS_rY5 Ox^VU2K;&. VirtualLab Fusion技术 ofy)}/i
~M9&SDT/lB
 -5u. Ix3
IiZX IG4H
 ~=/.ZUQNX
|
