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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 >p3S,2SM
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 t&C0V|s79$ "^t;V+Io 任务描述 W,%qL6q V
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 b:&= W>r '1lz`CAB+ 镀膜样品 <2\Q Y 关于配置堆栈的更多信息。 `)H|
&!wT 利用界面配置光栅结构 ?YM0VB,y 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 UFE~6"t( - 涂层厚度：10纳米 8WwLKZ} - 涂层材料。二氧化硅 5 ?TjuGc - 折射率：扩展的Cauchy模型。 ?o(Y\YJf  ,27=i>> 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 6 w0r)
- 基板材料：晶体硅 "; ?^gA - 入射角度。75° UQ2;Dg G% mTa^At"  w .Kp[
z\<gm$ 1CB 椭圆偏振分析仪 !M k]%
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 =1j`VJU9 Eqh&<]q 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 oX-h7;SD 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 &wB ?ks 4hV~
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椭圆偏振分析仪 WoWBZ;+ U iu'r c/=V
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="[6Z$R 总结 - 组件... E"%G@,|3*
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 28 o!>* _MGhG{p7t  x;/%`gKn8 Oc ^bbC 椭圆偏振系数测量 bhT:MW!
!%YV0O 0 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 MtK5>mhZI`
>c@1UEwkm
 p:qj.ukw 9,U g 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 N:rnH:g+:
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j: B ? D|B 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 Edav }z
w77"?kJ9X 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 p"/B3 ^1+&)6s7V
 2o-Ie/"d \ * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) t>%J3S>'ZV ?1MaA 仿真结果与参考文献的比较 m_1BB$lyP2
nK |WzUtp 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 6\? < :Qto
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 i^DZK&B @u JIU=^6^2' VirtualLab Fusion技术 ) 3~):+
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