-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-08-06
- 在线时间1825小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 w[S2
] <
4@&8jZ)a
 kXFgvIpg< )[.FUx 任务描述 /U4F\pZl
BA4qQCS;5
 y)0r%= 3P2H!r 镀膜样品 {0 IEizQ|i 关于配置堆栈的更多信息。 .z^ePZ|mV 利用界面配置光栅结构 6}qp;mR
E] 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 wf)T-]e - 涂层厚度：10纳米 u ]lf~EE - 涂层材料。二氧化硅 jjN ]*{s - 折射率：扩展的Cauchy模型。 F *_g3K!!  hX# y7 m 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 #2<.0@@
TI - 基板材料：晶体硅 *e&OpVn - 入射角度。75° =;#+8w=^ TRW{` b[  9tDo 5
29
\dO9nwa? 椭圆偏振分析仪 .bE+dA6:v
A>8"8=C
 Q x}\[ ; m`k#J? 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 r -&Rjg 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 1S / KT4 3)b [C&`
椭圆偏振分析仪 9%55R >s$ 2+y<&[A8U
 $$ma1.t"
8 h 总结 - 组件... mxt fKPb
yAz`n[
 1Tz5tU9kR XUTI0  YC+}H3 3 yxP(| 椭圆偏振系数测量 gmtp/?>e
xF![3~~3[ 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 Sqw:U|h\FS
^x8*]Sz#x
 ' P5t tI#| x XkP(^ Y 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 fn(<
<FA)
/qM:;:N%j
 @AET.qGC LE#ko2#ke 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 nW#UB tZ
[*^` rQ 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 H*s_A/$ `L n,qiA
 r1dP9MT\8 * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) 0$Rl78>( B SU%.tmI 仿真结果与参考文献的比较 |-t>_+. J'
Ldqn<wNnI 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 u By[x 0
H809gm3(Z
 O_-Lm4g?4 {6}H}_( ] VirtualLab Fusion技术 EMK>7 aks
bn$a7\X-
 ,c }R*\
#2AK O/
 $hv o^$
|
