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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 QD0upYG
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 cS98%@ DR 6#+&_ #9 任务描述 Rx$5#K!%M
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 .[1"Med J ~M 6^% 镀膜样品 93|u.
@lEy 关于配置堆栈的更多信息。
Efsfuv 利用界面配置光栅结构 *`:zSnu 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 nn@"6 8]g - 涂层厚度：10纳米 T!uK _ - 涂层材料。二氧化硅 l>RW&C&T - 折射率：扩展的Cauchy模型。 & p 1Et  a;eV&~ 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 nT0FonK> - 基板材料：晶体硅 sK hX0,s& - 入射角度。75° T`{W$ 4XS %,rUN+vW  ! 2WRxM
)o'&f"/ 椭圆偏振分析仪 *yqEl
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 r%hnl9 C,R_` % b% 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 5taYm' 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 UNcS\t2N ^'=J'Q
椭圆偏振分析仪 J7Bf H,o jb8v3L
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y; Up@.IG 总结 - 组件... 6R 1){,8
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Vkdc hc  :Vc+/ZyW 4,kT4_& , 椭圆偏振系数测量 n%I%O7
Bry\"V"'g 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 $ D8eCjUm
( Kh<qAP_n
 X#<#7. -E#!`~&V 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 f5+a6s9
ba^cw }5
 U ]lXw+& /i|T \ 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 <;:M:{RZY
I ;N)jj`b 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 >h/J{T(P>h m98j`t
 RQ# g n * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) .,[zI@9 Sc;WraEn2 仿真结果与参考文献的比较 2-i>ymoOS
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CY 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 3Xaw
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`6qT3v [>+(zlK" VirtualLab Fusion技术 pPm[<^\# S
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