-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-08-04
- 在线时间1821小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 7<T1#~w4L
Hz*5ZIw
 A *$JF>`7 CWTPf1?eB 任务描述 nD8 Qeem@
*v' d1.Z
 -| "[S"e X3 bPBv 镀膜样品 Z4^O`yS9+ 关于配置堆栈的更多信息。 fbG+.' 利用界面配置光栅结构 [eb?Fd~WB] 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 / bxu{| . - 涂层厚度：10纳米 j.?c~ F h - 涂层材料。二氧化硅 '@ $L}C#OI - 折射率：扩展的Cauchy模型。 1[;
7Ay  O3YD
jas 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 Ap :mc: - 基板材料：晶体硅 - kGwbV} - 入射角度。75° ,[}
X K9 @%oHt*u  o#D;H[' A
_uYidtxo= 椭圆偏振分析仪 qM$4c7'4P6
B"@3Q av3
 hLv~ N} F&Bh\C)] 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 ~yGD("X 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 t-;zgW5mwF ag_RKlM3
椭圆偏振分析仪 !a.|URa7 :aIS>6
 hR g?H
V!{}%;f 总结 - 组件... ccdP}|9e
B2R^oL' }
 5~pQ$- -/ ltnx)j  )w t mc4' l\HLlwYO 椭圆偏振系数测量 @X|Mguq5
} xy>uT 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据
W0 &x0
A=P Jg!
 $o uw *|< G2 E 4 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 --> ~<o
Un~8N
 t1Zc r#b> 1GaM!OC 9 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 Cwh*AK q(
:j)v=qul 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 KkIgyLM TEzMFu+V
 &2P+9j > * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) WLy%| {/ Fad.!%[ 仿真结果与参考文献的比较 ~fht [S?@M
Ik\n/E E 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 xsO
"H8
&c| 3v!
 <27:O,I &tJ!cTA.- VirtualLab Fusion技术 LwI A4$d
O 7Z?y*
 ^5GyW`a}
DO^ J=e
 xpU7ZY
|
