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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 $>hPB[ [
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 dzjp ,c@ |e! %6Qq3 任务描述 NoB)tAvw
E].hoq7WiB
 g=0`^APql %c<e`P; 镀膜样品 ^RAst1q7 关于配置堆栈的更多信息。 tda#9i[pkH 利用界面配置光栅结构 z\]]d?d?; 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 zVKbM3(^ - 涂层厚度：10纳米 l ~b# Y & - 涂层材料。二氧化硅 C< 3` ]l - 折射率：扩展的Cauchy模型。 v-B{7
~=#Z  tg _xk+x 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 Hz ) Xn\x - 基板材料：晶体硅 V^;2u - 入射角度。75° 5 Tag-+ WWhAm {m
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oJ734v [X 椭圆偏振分析仪 >x9@ if
aZn]8jC%
 "Rr)1x7 -N
$4\y p 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 {e~#6.$: 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 Y&!-VW ? l/VCEZP
椭圆偏振分析仪 ~Ap.#VIc' akATwSrU
 *eL&fC
+txFd c 总结 - 组件... c|RTP
5, "
 L|ZxB7xk N iw~0"-V  *lyy |3z e0;0 X7 椭圆偏振系数测量 xl2;DFiYt
Oxsx\f_ 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 \ GYrP f$
xKl\:}Ytp
 `& ufdn\j !-rG1VI_S* 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 @=r YOQj |
RwKnNIp
 |?A:[C#X D8X~qt/ 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 Rtpk_ND!
(%~^Kmfb0 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 , /2&HZd |ht:_l
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 AS4mJ UU9 * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) Xna58KF/ _cvA1Q" 仿真结果与参考文献的比较 =T!eyGE
"`Q &s 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 XM1;
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