-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-11-13
- 在线时间2001小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 }o9 Aa0$*$
a1MFjmq
 X^@[G8v% \T-~JQVj 任务描述 hGP1(pH.
S9Yt 1qb
 px9>:t[P f3
] 镀膜样品 <kD#SV %" 关于配置堆栈的更多信息。 }G1&]Wt_ 利用界面配置光栅结构 z4}
%TT@^ 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 Y&'8V dW - 涂层厚度：10纳米 ?|t/mo|K? - 涂层材料。二氧化硅 Kv+Bfh - 折射率：扩展的Cauchy模型。 !g 0cC.'  vg8O]
YF 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 LBX%H GH - 基板材料：晶体硅 Ds5N Ap:x - 入射角度。75° `% E9xcD% {&nV4c$v  < `Z%O <X
Xi~9&ed#$i 椭圆偏振分析仪 Gz dgL"M[
{:Vf0Mhb
 Z|`fHO3 j D&[Z;,CHMA 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 4S *,\ q]q 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 O2H/rFx4 } 21j
椭圆偏振分析仪 +(ny|r[# U4wpjHg
 vO$ra5Z
9p>
/?H| 总结 - 组件... t ]TyXA r~
@
u1Q-:
 xYR#% ! M v'nHFC+p  )bYez `Ei"_ W 椭圆偏振系数测量 #O</\|aH)i
<-|SIF 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 POBpJg
SLA#= K
 oO:LG%q #S i|! 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 R|t;p!T
YY!! <2_
 deM~[1e[ kGD |c=K} 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 nO@+s
F
<R ~KM=rL 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 ~_}4jnC FT_k^CC
 a paIJ+^[ * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) x<Se>+
|!5@xs*T 仿真结果与参考文献的比较 |E|T%i^}./
f%1wMOzx 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 B*Cb6'Q
+UaO<L
 k6g| 7^es2
?zE< VirtualLab Fusion技术 .jum "va%
4JK@<GBK6
 c'lIWuL)
vz,LF=s2
 x9\J1\
|
