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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 pU!o7>p
)=Q)BN[
 (Bo bB]~a \NqEw@ 91B 任务描述 8)VgS &B~
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 = zl= SLe K"2|[ 5 镀膜样品 G5tday~3 关于配置堆栈的更多信息。 jvVi% k 利用界面配置光栅结构 !D o,>gO 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 *g;-H&` - 涂层厚度：10纳米 fRm}S>Nibb - 涂层材料。二氧化硅 8#` 6M5 - 折射率：扩展的Cauchy模型。 * \HRw +cL  &&L"&Rc 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 =raA?Bp3;( - 基板材料：晶体硅 E-1"+p - 入射角度。75° (}:C+p
'I j|e[s ? d  xiyxr R;
<SVmOmJ-K 椭圆偏振分析仪 M@p"y q
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 V8O.3fo`[` 50a\e 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 mo1
puU 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 NfE.N&vI_c D*vm
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椭圆偏振分析仪 4(vyp.f W>spz~w%j
 `dJ DucD
gUB{Bh($Y 总结 - 组件... }iI bc A
Q1>zg, r
 tiLu75vj KIL18$3J  v\ZBv zd 4x'AC%&Qi 椭圆偏振系数测量 h e )ulB
S*%iiD) 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 PdY>#Cyh
{4p tu~8
 ew#T8F[ w 7tC|^#G 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 r3I,11B
oTOfK }
 `HUf v@5 {TZE/A3D, 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 b2h":G|s
}sMW3'V 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 -Gsl[Rc0H; J"[3~&em
 ~,}s(`~ * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) g=A$< k F>:%Cyo0! 仿真结果与参考文献的比较 L(WOet( '
\iMyo 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 Q?;C4n4]l
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v`)m">e*w VirtualLab Fusion技术 i+~QDo (Pi
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