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可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 db )2>
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 ~?/7: S wkt4vE87 任务描述 nDrRK
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 st w@@GQ oiyvKMHz7 镀膜样品 [<B,6nAl 关于配置堆栈的更多信息。 #]Vw$X_S 利用界面配置光栅结构 ^A ]4 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 _c]}m3/ - 涂层厚度：10纳米 ?qQ{]_q1&. - 涂层材料。二氧化硅 fN9{@)2Mz - 折射率：扩展的Cauchy模型。 ]@U?hD  \9+,ynJH8z 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 %<yW(s9{ - 基板材料：晶体硅 KDN#CU - 入射角度。75° oIrc))j,$ kHK<~ srB  7] y3< t
+C=vuR 椭圆偏振分析仪 lg|6~=aQ
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 k7Nx#%xx M.g2y &8 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 4f j}d.? 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 H [+'>Id: 8i6i ynR
椭圆偏振分析仪 T)tr"<F5NP =o@}~G&HA
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{r&r^!K; 总结 - 组件... l "8g9z
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U8v 51}C`j|V3{  (F'~K,0 3\2&?VAjR 椭圆偏振系数测量 ^(Gl$GC$Mu
?3DL .U{ 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 J#d, ?
r%: :q^b3
 } ll&EB 0Y`+L6&UX 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 ,$]m1|t@z
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 6 X ]I`e [<+T@"y 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 !@V] H
nR%w5oe 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 2 zo>`;l \1R*M
 :MDFTw~ | * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) 1sUgjyGQ P w6l' 仿真结果与参考文献的比较 Fkv284,LM
r0z8? 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 ]_ L Ay
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LK}[ aV f sF|, VirtualLab Fusion技术 Z){ fie4WM
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