-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-09-17
- 在线时间1983小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 W3K&C[f
c 4Q{
 mq xgrb7 {v{qPYNyh 任务描述 ] XX9.Xh=-
=[{YI2S
 ?M?S+@( $ qOV#,@ 镀膜样品 '@Oq WdaR 关于配置堆栈的更多信息。 7u8HcHl 利用界面配置光栅结构 " o.V`Bj 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 uFxhr2
<z - 涂层厚度：10纳米 X]up5tk ~ - 涂层材料。二氧化硅 lFvRXV^+f - 折射率：扩展的Cauchy模型。 UykOQ-2-n  }2dz];bR 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 pe(31%(h - 基板材料：晶体硅 s>y=-7:N - 入射角度。75° 15PFnk6E| Z(g9rz']0  x0aPY;,N0
[X>\! mt 椭圆偏振分析仪 9v[cy` \
N$u;Q(^
 llG^ +*Y8t .1F(-mLd 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 Vf?+->-?{ 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 XP#j9CF#. Om
#m":
椭圆偏振分析仪 Q.SLi I
fa#xEWaFr
 ]WZ_~8
| 0!oSNJ 总结 - 组件... "$)Nd+ny
nsO!
 :|%dV}j k&Z3v.  eK]g FXk rKZ1
c,y 椭圆偏振系数测量 WSA;p=_
\ ) H} 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 fAx7_}k/ m
+RIG8w]
 9rhIDA(wc M9mC\Iz[ 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 {a>a?fVU
B+e$S%HV
 &{#4^.Q 5HWVK . 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 vfb~S~|U6g
?$ rSbw 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 i={ :6K?^ F_8 <
tA6
 ]-
* 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) $L|Yll D% 8<cD+Jt j 仿真结果与参考文献的比较 8
1Ar.<
x9fNIuAQ 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 R RYm.dMIw
?Bg <74
 NZUQ
R`5 ?QzA;8 H VirtualLab Fusion技术 K \?b6;ea
j 8lWra\y
 ,,*i!%Adw
5k &tRg
 `1I @tz|
|
