-
UID：317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2026-02-03
- 在线时间1925小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）是一种常用的技术，由于其对光学参数的微小变化具有高灵敏度，而被用在许多使用薄膜结构的应用中，如半导体、光学涂层、数据存储、平板制造等。在本用例中，我们演示了VirtualLab Fusion中的椭圆偏振分析器在二氧化硅（SiO2）涂层上的使用。对于系统的参数，我们参考Woollam等人的工作 "可变角度椭圆偏振光谱仪（VASE）概述。I. 基本理论和典型应用"，并研究该方法对轻微变化的涂层厚度有多敏感。 ESf7b `tS
:iNAXy
 )! *M
71 7D~O/#dcc 任务描述 ONe!'a0
,vdP
#:
 e %v4,8 L9Y wOSb. 镀膜样品 v7OV;e a$ 关于配置堆栈的更多信息。 \NQ)Po@z 利用界面配置光栅结构
2:5gMt 一般光栅组件能够对周期性结构进行建模。在各向同性的情况下，使用一个非常小的周期，以确保只有0阶会传播。二氧化硅层也是根据参考文献来定义的。 ,t&-`U]AX - 涂层厚度：10纳米 GxDF7
z%& - 涂层材料。二氧化硅 /,@v"mE7c! - 折射率：扩展的Cauchy模型。 ]3y5b9DuW  F)iG D~ 𝐴 = 1.44, 𝐵 = 0.00422𝜇𝑚², 𝐶 = 1.89𝐸 - 05𝜇𝑚4 y=qo-v59' - 基板材料：晶体硅 ~$ qJw?r
- 入射角度。75° N[bf.5T -r'seb5  KJJb^6P48W
Y& !]I84] 椭圆偏振分析仪 < ^q" 31f
# bZ=R
 `8.32@rUB. .&} 4 椭圆偏振分析仪用于计算相位差𝛥，以及反射光束的振幅分量Ψ。 g!Yh=kA'N 有关该分析仪的更多信息可在这里找到。 wfTv<WG,.E '=5_u
椭圆偏振分析仪 /Vd#q)b%T |Ge/|;.v`
 c@#zjJhW]
W#\};P
总结 - 组件... n_&)VF#n(
H1j6.i}q
 }=m?gF%3 W#_g vW  }_/h~D9-T# UpseU8Wo 椭圆偏振系数测量 P:-/3
j=QR*8* 椭圆偏振分析仪测量反射系数（s-和p-极化分量）的比率𝜌，并输出相位差𝛥，以及振幅分量Ψ，根据 f=O>\
aq \TO?
 `&[:!U2]F [*ovYpj^ 在VirtualLab Fusion中，复数系数𝑅p和𝑅s是通过应用严格耦合波分析（RCWA），也被称为傅里叶模态法（FMM）来计算。因此，在研究光栅样品的情况下，这些系数也可以是特定衍射阶数的瑞利系数。 ,zw=&)W1
$5CY<,f
 %c/"A8{ eb y* Q-4_%, 椭圆偏振对小厚度变化的敏感性 9.#R ?YP$
>37 }JUG 为了评估椭偏仪对涂层厚度即使是非常小的变化的敏感性，对10纳米厚的二氧化硅层和10.1纳米厚的二氧化硅膜的结果进行了比较。即使是厚度的微小变化，1埃的差异也高于普通椭圆偏振的分辨率（0.02°为𝑇，0.1°为𝛥*）。因此，即使是涂层中的亚纳米变化也可以通过椭偏仪来测量。 (0m$W< )0d".Q|v4
 I%C:d#p * 数值根据Woollam et al., Proc. SPIE 10294, 1029402 (1999) zp-~'kIJ |Pl {Oo+ 仿真结果与参考文献的比较 F8;4Oj
s l
@6 被研究的SiO2层厚度变化为1埃时，𝛹和𝛥的差异。 HtYR 0J
R{A/ +7!
 poFjhq
/#( Pc4c Sw#5 VirtualLab Fusion技术 )mVYqlU"
-?` l<y(
 #( J}xz;
YgOgYo{E!
 Q09~vFBg
|
