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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) kfg9l?R$I< o{?s\)aBa 内容简介 Cz
Jze Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 CP'?Om2 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 1'R]An BV 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 4iRcmsP &I:5<zK{ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 &voyEvX/S 目录 Cz+>S3v M Preface 1 W<xu*U(A 内容简介 2 #)hM]=,e 目录 i L/"XIMI*Xg 1 引言 1 -j`tBv) 2 光学薄膜基础 2
5pI2G 2.1 一般规则 2 tV9nC 2.2 正交入射规则 3 B~V^?." 2.3 斜入射规则 6 0tC+? 2.4 精确计算 7 uYhm
F p 2.5 相干性 8 gsqlWfa 2.6 参考文献 10 8U*}D~%! 3 Essential Macleod的快速预览 10 |(*ReQ?= 4 Essential Macleod的特点 32 \d2Ku10v[ 4.1 容量和局限性 33 :xm,Ok 4.2 程序在哪里? 33 TPt<(-}W 4.3 数据文件 35 )Pakb!0H@t 4.4 设计规则 35 vp1IYW 4.5 材料数据库和资料库 37 -{>JF 4.5.1材料损失 38 *@S:f"i 4.5.1材料数据库和导入材料 39 kTT!gZP$ 4.5.2 材料库 41 G}&B{Ir 4.5.3导出材料数据 43 6UG7lH!M 4.6 常用单位 43 [DC8X P5< 4.7 插值和外推法 46 ^J< I
Ia4 4.8 材料数据的平滑 50 t Q385en 4.9 更多光学常数模型 54 x?9rT 0D 4.10 文档的一般编辑规则 55 D/'kYoAEO 4.11 撤销和重做 56 >Olg
lUzA 4.12 设计文档 57 %(MaH 4.10.1 公式 58 7](,/MeGG 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 WId"2W3M 4.10.3 沉积密度 59 B<u6Z!Pp2 4.10.4 平行和楔形介质 60 2%'{f 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ARGtWW~: 4.10.4 性能 61 J70#pF 4.10.5 保存设计和性能 64 O; 7`*}m 4.10.6 默认设计 64 2w>WS# 4.11 图表 64 J cL4q\g 4.11.1 合并曲线图 67 Z,^`R] 9 4.11.2 自适应绘制 68 }A\s`Hm 4.11.3 动态绘图 68 xeF0^p7Z 4.11.4 3D绘图 69 S}f3b N 4.12 导入和导出 73 brx
7hI 4.12.1 剪贴板 73 y[:\kI 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ON.C%-T- 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 `w` f[dU- 4.13 背景 77 u9ObFm$7 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 2a|9D\ 4.15 生成Rugate 84 %nk]zf.. 4.16 参考文献 91 {4J:t_<nKO 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 M{cF14cQ 5.1 Jobs 92 cVYDO*N2T 5.2 创建一个新Job(工作) 93 @E;'Ffo 5.3 输入材料 94 %N$,1=0* 5.4 设计数据文件夹 95 r"sK@ 5.5 默认设计 95 K4~z@.
G6* 6 细化和合成 97 iZ}Afj 6.1 优化介绍 97 I
.jB^ 6.2 细化 (Refinement) 98 W/DSj : 6.3 合成 (Synthesis) 100 bnHQvCO3$ 6.4 目标和评价函数 101 XHs>Q>` 6.4.1 目标输入 102 +z}O*,M"q 6.4.2 目标 103 h+=xG|1R[5 6.4.3 特殊的评价函数 104 w.Cw)#N 6.5 层锁定和连接 104 <qJI]P 6.6 细化技术 104 `G7LM55 6.6.1 单纯形 105 wX5Yo{ 6.6.1.1 单纯形参数 106 < %@e<,8 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Wi7!J[ B 6.6.2.1 Optimac参数 108 $cjwY$6 6.6.3 模拟退火算法 109 ;w>Dqem 6.6.3.1 模拟退火参数 109 WzG]9$v & 6.6.4 共轭梯度 111 a,mG5bQ! 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 \ OPJ*/U 6.6.5 拟牛顿法 112 [hzw..?g 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 _=0%3Sh 6.6.6 针合成 113 jB)RvvMU5 6.6.6.1 针合成参数 114 O?\UPNb:K 6.6.7 差分进化 114 $d0xJxM 6.6.8非局部细化 115 "/H B# 6.6.8.1非局部细化参数 115 :kU#5Aj gK 6.7 我应该使用哪种技术? 116 DBTeV-G9~R 6.7.1 细化 116 YX*NjXL 6.7.2 合成 117 5i71@?q; 6.8 参考文献 117 JTGA\K 7 导纳图及其他工具 118 wavyREK 7.1 简介 118 &[
oW"Q{ 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 p>M8:, 7.2.1 四分之一波长规则 119 pQ~Y7 7.2.2 导纳图 120 Ln-UN$2~F 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 kXW5bR 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 eBT+| 7.5 斜入射导纳图 141 $-^
;Jl 7.6 对称周期 141 {ovt
6C 7.7 参考文献 142 BjX*Gm6l 8 典型的镀膜实例 143 +az=EF 8.1 单层抗反射薄膜 145 r?9D/|` 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 T-MC|>pv 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 .+3~
w 8.4 W-膜层 148 ,c]<Yu 8.5 V-膜层 149 !2=m
|, 8.6 V-膜层高折射基底 150 OQnb^fabY 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 =;L44.,g 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 (#e,tu 8.9 四层抗反射薄膜 153 K92nh/}y 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ~K$dQb]) 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ]g] ]\hS 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 \9t/*%: 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 ZuLW%z. 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 op8[8pt% 8.15十五层宽带抗反射膜 159 E+Eug{+ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 pNFVa<D 8.17 1/4波长堆栈 162
M4H~]Ftn 8.18 陷波滤波器 163 :<p3L!?8y 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 P>}OwW 8.20 褶皱 165 ntr& |