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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) MX-(;H `gIlS^Q 内容简介 6e6~82t8/ Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 ]urrAIK 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 \lVxlc0{? 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 CY&Z*JI"'B :?VM1!~ga 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 t0*JinKI 目录 R&13P&:g Preface 1 Nb2]}; O 内容简介 2 }|
BnG"8 目录 i $okGqu8z.O 1 引言 1 UwuDs2
t 2 光学薄膜基础 2 0Bx.jx0? 2.1 一般规则 2 ad). X:Qs 2.2 正交入射规则 3 tl |Qw";I 2.3 斜入射规则 6 ~l~ai>/ 2.4 精确计算 7 /F;b<kIy8 2.5 相干性 8 vDgf} 2.6 参考文献 10 LEoL6ga 3 Essential Macleod的快速预览 10 __\Tv>Y 4 Essential Macleod的特点 32 \e%H5Wx 4.1 容量和局限性 33 sGjYL>* 4.2 程序在哪里? 33 )x1LOMe 4.3 数据文件 35 ;6g &_6 4.4 设计规则 35 z\Vu`Yz 4.5 材料数据库和资料库 37 rmj?jBKQU 4.5.1材料损失 38 3+gp_7L 4.5.1材料数据库和导入材料 39 &h.E
B 4.5.2 材料库 41 KS($S(Fi 4.5.3导出材料数据 43 &u-H/CU% 4.6 常用单位 43 <S'5`-& 4.7 插值和外推法 46 " >QNiR! 4.8 材料数据的平滑 50 JTw\5j 4.9 更多光学常数模型 54 xWX1P%` 4.10 文档的一般编辑规则 55 XkZ82w#b 4.11 撤销和重做 56 =p 9d4smbn 4.12 设计文档 57 !BD+H/A.{ 4.10.1 公式 58 md_9bq/w 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 @#q>(Ox% 4.10.3 沉积密度 59 ]+O];*T 4.10.4 平行和楔形介质 60 ?ic 7M 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 .,t"iC:E 4.10.4 性能 61 %zx=rn(K 4.10.5 保存设计和性能 64 l?:!G7ie 4.10.6 默认设计 64 Fw!CssW 4.11 图表 64 (J(JB}[X, 4.11.1 合并曲线图 67 V
QE *B 4.11.2 自适应绘制 68 >'3J. FY 4.11.3 动态绘图 68 &KC^Vn3Nj 4.11.4 3D绘图 69 LyM" 4.12 导入和导出 73 uop|8n1 4.12.1 剪贴板 73 2x-67_BHY= 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 j8*fa 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 x{IxS?.j+ 4.13 背景 77
Bd$i%.r 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 W)^0~[`i 4.15 生成Rugate 84 eC:?j`H- 4.16 参考文献 91 :d7Ju.*J 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 %jKbRiz1u 5.1 Jobs 92 f8u m.Xnp6 5.2 创建一个新Job(工作) 93 d4h1#MK 5.3 输入材料 94 k
9 Xi|Yj 5.4 设计数据文件夹 95 J1kG'cH05 5.5 默认设计 95 |IL..C 6 细化和合成 97 Iuk!A?XV 6.1 优化介绍 97 ?5d7J,"<h 6.2 细化 (Refinement) 98 <%fcs"Mb 6.3 合成 (Synthesis) 100 {f;] 6.4 目标和评价函数 101 i;!#:JX 6.4.1 目标输入 102 D_fgxl 6.4.2 目标 103 ,TY&N- 6.4.3 特殊的评价函数 104 _MfXN$I?} 6.5 层锁定和连接 104 Z'EXq.hk 6.6 细化技术 104 Jsf-t 6.6.1 单纯形 105 Ar4@7 6.6.1.1 单纯形参数 106 9$F '*{8 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 Qzbelt@Wx
6.6.2.1 Optimac参数 108 KTX;x2r 6.6.3 模拟退火算法 109 ]i\C4* 6.6.3.1 模拟退火参数 109 >q0c!,Ay 6.6.4 共轭梯度 111 "I.PV$Rxl 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 5(kRFb'31F 6.6.5 拟牛顿法 112 hawE2k0p( 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 |U}al[ 6.6.6 针合成 113 X!r9 6.6.6.1 针合成参数 114 Tdvw7I-q 6.6.7 差分进化 114 G%N3h'zDi 6.6.8非局部细化 115 e>W}3H5w0 6.6.8.1非局部细化参数 115 W#1t%hT$ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 C"w>U 6.7.1 细化 116 ,<]X0;~oB 6.7.2 合成 117 |ho|Kl `= 6.8 参考文献 117 ao>`[- 7 导纳图及其他工具 118 K1c@]]y) 7.1 简介 118 <a_Q1 l 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 i6F`KF'i& 7.2.1 四分之一波长规则 119 M5DW!^ 7.2.2 导纳图 120 :Z0m " 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 >W%tEc 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 ?ysC7(( 7.5 斜入射导纳图 141 S0+nQM% 7.6 对称周期 141 j_2- 7.7 参考文献 142 Dk&@AjJga 8 典型的镀膜实例 143 8jyg1NN D 8.1 单层抗反射薄膜 145 qF!oP 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 *G|w#-\.c 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 JGjqBuz#A* 8.4 W-膜层 148 kI5`[\ 8.5 V-膜层 149
h"<-^=b 8.6 V-膜层高折射基底 150 &sJZSrk| 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 !9+xKr99 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 6`$HBX%.K 8.9 四层抗反射薄膜 153 8t3,}}TJ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 [43:E*\$ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 >q{E9.~b 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 Q)}_S@v|% 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 9Yg=4>#$ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 <4!SQgL 8.15十五层宽带抗反射膜 159 e)I-|Q4^% 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ]mEY/)~7 8.17 1/4波长堆栈 162 Vo*38c2 8.18 陷波滤波器 163 Na8%TT> 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 =m{]Xep 8.20 褶皱 165 8P8@i+[]W 8.21 消偏振分光器1 169 \%fl`+` 8.22 消偏振分光器2 171 ,[6N64fy 8.23 消偏振立体分光器 172 : ]&O |