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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) {0% /|3~LvIt= 内容简介 jz Siw z Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 B6@q`Bmw. 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 !MVf(y$ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 \Rs9B . hhz#IA6, 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 '<QFf 目录 hAt4+O&P Preface 1 ' 6)Yf}I 内容简介 2 my/KsB 目录 i 'u%vpvF 1 引言 1 l%xTF@4e 2 光学薄膜基础 2 9GsG* $-I 2.1 一般规则 2 >I-rsw2 2.2 正交入射规则 3 <Mu T7x- 2.3 斜入射规则 6 KyQTrl.qdl 2.4 精确计算 7 fg lN_ 2.5 相干性 8 *3]2vq 2.6 参考文献 10 e1y#p3 @d 3 Essential Macleod的快速预览 10 Yf/e(nV 4 Essential Macleod的特点 32 {{B'65Wu 4.1 容量和局限性 33 :iGK9I 4.2 程序在哪里? 33 VLVDi>0i 4.3 数据文件 35 2.N)N%@ 4.4 设计规则 35 zg'.f UZ 4.5 材料数据库和资料库 37 ZpMv16 4.5.1材料损失 38 \ueCbfV!Z4 4.5.1材料数据库和导入材料 39 4GH &u, 4.5.2 材料库 41 mnBTZ/ZjS 4.5.3导出材料数据 43 o5sw]R5 4.6 常用单位 43 ^Epup$ 4.7 插值和外推法 46 >&ZlCE 4.8 材料数据的平滑 50 [qxU
\OSC 4.9 更多光学常数模型 54 & ['L7 4.10 文档的一般编辑规则 55 EZzR"W/ 4.11 撤销和重做 56 NEPK 4.12 设计文档 57 .C&kWM&j 4.10.1 公式 58 fUfd5W1" 4.10.2 更多关于膜层厚度 59
NFP h}D 4.10.3 沉积密度 59 E0l&d 4.10.4 平行和楔形介质 60 ';!-a]N 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 rA^=;?7Q 4.10.4 性能 61 `.dwG3R 4.10.5 保存设计和性能 64 !
2knSS 4.10.6 默认设计 64 }K`KoM 4.11 图表 64 P;K LN9/4 4.11.1 合并曲线图 67 _n!>*A! 4.11.2 自适应绘制 68 G Y.iCub 4.11.3 动态绘图 68 ]N;nq 4.11.4 3D绘图 69 4)>UTMF 4.12 导入和导出 73 Nr+~3:3 4.12.1 剪贴板 73 dG8mE&$g 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 w<zzS:PF* 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 4 P=1)t?tX 4.13 背景 77 5`$!s17 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 GU9G5S. 4.15 生成Rugate 84 +> d;%K 4.16 参考文献 91 "FhC"}N 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 z@o6[g/*Q 5.1 Jobs 92 *M*WjEOA 5.2 创建一个新Job(工作) 93 F6{/iF 5.3 输入材料 94 ,grx'to(X 5.4 设计数据文件夹 95 Aqz $WTHW+ 5.5 默认设计 95 M2R krW# 6 细化和合成 97 e@;'# t 6.1 优化介绍 97 + !"YC 6.2 细化 (Refinement) 98 eM5-v- 6.3 合成 (Synthesis) 100 ]=ZPSLuEm% 6.4 目标和评价函数 101 w{lj'3z I 6.4.1 目标输入 102 k.2GIc:5 6.4.2 目标 103 Q[aF"5h% 6.4.3 特殊的评价函数 104 eK5~gnv, 6.5 层锁定和连接 104 UjLq[,_! 6.6 细化技术 104 EVBOubV 6.6.1 单纯形 105 U1 *P 6.6.1.1 单纯形参数 106 cHR*. 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 V6_5v+n 6.6.2.1 Optimac参数 108 )4-!]NsV 6.6.3 模拟退火算法 109 rBU)@I pDG 6.6.3.1 模拟退火参数 109 akPd#mf 6.6.4 共轭梯度 111 :8`$BbV 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 9Iq<*\V 4 6.6.5 拟牛顿法 112 \ltS~EuWU 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 dZ8ldpf8 6.6.6 针合成 113 FV7'3fIa 6.6.6.1 针合成参数 114 $T:;KcW) 6.6.7 差分进化 114 H3vnc\d~ 6.6.8非局部细化 115 NS""][# 6.6.8.1非局部细化参数 115 2<h~:
L 6.7 我应该使用哪种技术? 116 !4gHv4v; 6.7.1 细化 116 ;($xAAR 6.7.2 合成 117 PhV/WjCZ 6.8 参考文献 117 S.`hl/ 7 导纳图及其他工具 118 ;&f(7 Q+T_ 7.1 简介 118 e6H}L:; 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 ~%
t'}JDZ 7.2.1 四分之一波长规则 119 O"kb*// 7.2.2 导纳图 120 1zG6^U 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 *93=}1gN 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 J %B/(v` 7.5 斜入射导纳图 141 JUj.:n2e 7.6 对称周期 141 _Gt;= 7.7 参考文献 142 :;hX$Qz 8 典型的镀膜实例 143 $cuBd 8.1 单层抗反射薄膜 145 #H4<8B 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 $%!06w#u 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 _
W#Km 8.4 W-膜层 148 7fzH(H 8.5 V-膜层 149 6I=xjgwvf 8.6 V-膜层高折射基底 150 0S4Y3bac& 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ahZ@4v 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 _A&
[rBm| 8.9 四层抗反射薄膜 153 $bF+J8%D 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 jk_yrbLc 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 l Le& |