-
UID:317649
-
- 注册时间2020-06-19
- 最后登录2025-12-12
- 在线时间1894小时
-
-
访问TA的空间加好友用道具
|
《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) biZ=TI2P,L -p"}K~lt: 内容简介 22*~CIh~x Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 )NK#}c~5 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 oIniy{ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 \]g51U!' r$<M*z5q(\ 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 Gx*B(t]4y 目录 ?zf3AZ9 Preface 1 Res4;C 内容简介 2 -q(*)N5.2 目录 i _4T7Vg'' 1 引言 1 T7-yZSw-m 2 光学薄膜基础 2 /l+"aKW
2 2.1 一般规则 2 `dWnu3r; 2.2 正交入射规则 3 p(cnSvg 2.3 斜入射规则 6 At'M? Q@v 2.4 精确计算 7 q VavP6I 2.5 相干性 8 D< kf/hj 2.6 参考文献 10 MEM(uBYKOb 3 Essential Macleod的快速预览 10 #xfav19{. 4 Essential Macleod的特点 32 ~pHuh#> 4.1 容量和局限性 33 f\r"7j 4.2 程序在哪里? 33 G .$KP 4.3 数据文件 35 O0s,)8+z5D 4.4 设计规则 35 }=JSd@`_ 4.5 材料数据库和资料库 37 F8#MI
G 4.5.1材料损失 38 ,L
MN@G 4.5.1材料数据库和导入材料 39 $$SJLV 4.5.2 材料库 41 J*_^~t 4.5.3导出材料数据 43 \6bvk _ 4.6 常用单位 43 QpA$=' 4.7 插值和外推法 46 ;mg.} fI 4.8 材料数据的平滑 50 s:cJF 4.9 更多光学常数模型 54 lANi$
:aE 4.10 文档的一般编辑规则 55 r;{ggwY&J 4.11 撤销和重做 56 A'Z!l20_ 4.12 设计文档 57 h6bvUI+|h 4.10.1 公式 58 JpZ_cb`<E' 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 Y]^*mc0fE 4.10.3 沉积密度 59 XfflD9M 4.10.4 平行和楔形介质 60 0:-z+`RHE 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Ov4=!o= 4.10.4 性能 61 Udf\;G@ 4.10.5 保存设计和性能 64 !Pt4\ 4.10.6 默认设计 64 L,!\PV| 4.11 图表 64 zo("v*d*q 4.11.1 合并曲线图 67 kd_!S[ 4.11.2 自适应绘制 68 Hzc}NyJ 4.11.3 动态绘图 68 66sgs16k 4.11.4 3D绘图 69 nE?:nJ|%E 4.12 导入和导出 73 TtnJ
u* 4.12.1 剪贴板 73 ;#+I"Ow 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 )T? BO 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 (D6ks5Uui 4.13 背景 77 >DbG
)0| 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 W7(5z 4.15 生成Rugate 84 $at\aJ 4.16 参考文献 91 &
P%# 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 }D`ZWTjDay 5.1 Jobs 92 `Y+R9bd 5.2 创建一个新Job(工作) 93 \gK'g-)} 5.3 输入材料 94 V|F/ynJfA 5.4 设计数据文件夹 95 P)XR9&o': 5.5 默认设计 95 K>5bb 6 细化和合成 97 .gNziDO
6.1 优化介绍 97 L@jpid95 6.2 细化 (Refinement) 98
_|4QrZ$n( 6.3 合成 (Synthesis) 100 .:4*HB 6.4 目标和评价函数 101 MmU`i ,z 6.4.1 目标输入 102 |'u BkL0q 6.4.2 目标 103 }}u`*&,g 6.4.3 特殊的评价函数 104 mkPqxzxbrL 6.5 层锁定和连接 104 >e(@!\ x 6.6 细化技术 104 O_GHvLO= 6.6.1 单纯形 105
m5a'Vs 6.6.1.1 单纯形参数 106 L]Xx-S 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 wDSwcNS 6.6.2.1 Optimac参数 108 68w~I7D> 6.6.3 模拟退火算法 109 Vq/hk 6.6.3.1 模拟退火参数 109 qT:`F 6.6.4 共轭梯度 111 1(*+_TvZ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 ;CoD5F! 6.6.5 拟牛顿法 112 |/c-~|% 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 n5efHJU 6.6.6 针合成 113 S6C DK: 6.6.6.1 针合成参数 114 .W$9nbly 6.6.7 差分进化 114 @MoCEtt 6.6.8非局部细化 115 &j/,8 Z* 6.6.8.1非局部细化参数 115 ew~uOG+ 6.7 我应该使用哪种技术? 116 `Fe/=]<$ 6.7.1 细化 116 7q 5 \]J[ 6.7.2 合成 117 uZ@qlq8 6.8 参考文献 117 [}
d39 7 导纳图及其他工具 118 lPC{R k.\C 7.1 简介 118 ^^24a_+2 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 -UAMHd}4 7.2.1 四分之一波长规则 119 DHyQ:0q 7.2.2 导纳图 120 \d:Uq5d)0 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 wlh%{l 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 jq_4x[ 7.5 斜入射导纳图 141 *lu*h&Y |