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《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(第二版 精装) ( &m1* f #h0O3 内容简介 @16y%]Q-E# Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 V.3#O^S 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 TJNE2 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ]}SV%*{% fp||<B 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 yHM29fEZk 目录 '0 Ys`Qo Preface 1 7h9oY<W 内容简介 2 [vtDtwL 目录 i #~j $J 1 引言 1 >]}VD "\ 2 光学薄膜基础 2 36'J9h\ 2.1 一般规则 2 /,7#%D 2.2 正交入射规则 3 JK)|a@BtOT 2.3 斜入射规则 6 toF6 Z 2.4 精确计算 7 -6 v?iiZr 2.5 相干性 8 G%gdI3h1Z
2.6 参考文献 10 H?opG<R=ek 3 Essential Macleod的快速预览 10 akw:3+` 4 Essential Macleod的特点 32 R GV{KL 4.1 容量和局限性 33 VII`qbxT 4.2 程序在哪里? 33 )FB<gCh7X 4.3 数据文件 35 PvUY
Q>Kw 4.4 设计规则 35 R7Tl1!,h 4.5 材料数据库和资料库 37 xG~-. 4.5.1材料损失 38 tc;$7F ; 4.5.1材料数据库和导入材料 39 yMNOjs'c { 4.5.2 材料库 41 M-Nn \h$, 4.5.3导出材料数据 43 hW,GsJ, 4.6 常用单位 43 *y"|/_
* 4.7 插值和外推法 46 >&<D.lx 4.8 材料数据的平滑 50 !4F@ !.GG! 4.9 更多光学常数模型 54 p38s&\-kEN 4.10 文档的一般编辑规则 55 T5~Qfl?Y 4.11 撤销和重做 56 oi3Ix7 4.12 设计文档 57 UL7%6v{'* 4.10.1 公式 58 TuMZHB7h; 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 XSZjuQ<[3 4.10.3 沉积密度 59 uJ*|SSN~ 4.10.4 平行和楔形介质 60 w*SF Q_6YE 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 r~;.8qs 4.10.4 性能 61 VAxk?P0j6 4.10.5 保存设计和性能 64 0A~f
^ 4.10.6 默认设计 64 :+DAzjwO< 4.11 图表 64 HV3wU EI3 4.11.1 合并曲线图 67 /-pop]L 4.11.2 自适应绘制 68 y(#F&^| 4.11.3 动态绘图 68 @7PE&3 4.11.4 3D绘图 69 I@a7!ugU65 4.12 导入和导出 73 -JF|770i 4.12.1 剪贴板 73 DA4!-\bt@ 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 U|h@Pw z 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Q!%CU8!`& 4.13 背景 77 ;rta#pRn 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80
qf]OSd 4.15 生成Rugate 84 I|[aa$G 4.16 参考文献 91 }\ui}\ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ;Wr,VU] 5.1 Jobs 92 Z42v@?R.!W 5.2 创建一个新Job(工作) 93 }Lwj~{ 5.3 输入材料 94 13{"sY:PT# 5.4 设计数据文件夹 95 ;lWy?53=@ 5.5 默认设计 95 T{K+1SPy4 6 细化和合成 97 -ap;Ul? 6.1 优化介绍 97 eEe8T=mD 6.2 细化 (Refinement) 98 <Q-ufF85) 6.3 合成 (Synthesis) 100 S+OI?QS 6.4 目标和评价函数 101 m9>nvrQ 6.4.1 目标输入 102 g?o$:>c 6.4.2 目标 103 TAJ 9Y< 6.4.3 特殊的评价函数 104 7!N5uR 6.5 层锁定和连接 104 VF==F_l 6.6 细化技术 104 lR^dT4 6.6.1 单纯形 105 7#|NQ=yd 6.6.1.1 单纯形参数 106 7erao- 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 GrQAho 6.6.2.1 Optimac参数 108 Y.*lO 6.6.3 模拟退火算法 109 t@19a6:Co 6.6.3.1 模拟退火参数 109 k~?}z.g( 6.6.4 共轭梯度 111
3x9C] 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 M[*:=C)H 6.6.5 拟牛顿法 112 f,a4LF 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 $kz5)vj " 6.6.6 针合成 113 "RX?"pB 6.6.6.1 针合成参数 114 \M532_w 6.6.7 差分进化 114 6k3l/ ~R 6.6.8非局部细化 115 (&hX8 6.6.8.1非局部细化参数 115 Iq}h}Wd 6.7 我应该使用哪种技术? 116 j1iC1=`ZM 6.7.1 细化 116 K;xW/7? 6.7.2 合成 117 +m7x>ie) 6.8 参考文献 117 ];2eIe
7 导纳图及其他工具 118 Q#r 0DWo\ 7.1 简介 118 SCH![Amq 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Tk2kis(n 7.2.1 四分之一波长规则 119 jh0$:6 `C 7.2.2 导纳图 120 2nieI*[ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 mVL,J=2 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 tx1jBh:e= 7.5 斜入射导纳图 141 =K>Z{%i 7.6 对称周期 141 -5 W0 K} 7.7 参考文献 142 x[^A9 8 典型的镀膜实例 143 835Upj> 8.1 单层抗反射薄膜 145 #f~a\}$I 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 )?bb]hZg?O 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 \mu9ikZ< 8.4 W-膜层 148 jRkq^} 8.5 V-膜层 149 W=\dsdnu* 8.6 V-膜层高折射基底 150 ,"VQ0Z1 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 _~(Xd@c( 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 .XB] X 8.9 四层抗反射薄膜 153 ZAH<!@qh 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 +?:V\niQI 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 hw'2q9J| 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 MH Yf8HN 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 !Cy2>6v7 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ge oN4 8.15十五层宽带抗反射膜 159 N]<gHGj} 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 ck~xj0 8.17 1/4波长堆栈 162 `j<tI6[e 8.18 陷波滤波器 163 S+y2eP G 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ,;-*q}U 8.20 褶皱 165 U[D<%7f 8.21 消偏振分光器1 169 5#o,]tP 8.22 消偏振分光器2 171 [;f"',)y, 8.23 消偏振立体分光器 172 W7o/
8.24 消偏振截止滤光片 173 FOA%(5$4 8.25 立体偏振分束器1 174 U.F65KaKF 8.26 立方偏振分束器2 177 y4L9Cxvs 8.27 相位延迟器 178 *a%PA(%6 8.28 红外截止器 179 T!a[@,)_
8.29 21层长波带通滤波器 180 Mv=cLG?X 8.30 49层长波带通滤波器 181 a& |