《光学光刻和极紫外光刻》

《光学光刻和极紫外光刻》是一本最新的光刻技术专著，内容涉及该领域的各个重要方面。在介绍光刻技术应用上，涵盖了全面又丰富的内容；在论述光刻技术的物理机制和数学模型时，采用了完整而不繁琐的方法，增加了可读性。本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。本书具有全面、完整、翔实和新颖的特点，它凝聚了作者三十多年光刻领域科研和教学的精华。 jy6% CSWQ  
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uN'e~X6  
Z~v.!j0  
第1章光刻工艺概述 cE[4CCpy  
1.1微型化：　从微电子到纳米技术_1 QKe=/;  
1.2光刻技术的发展史_3 hg |DpP  
1.3投影光刻机的空间成像_5 S\mh{#Lpk  
1.4光刻胶工艺_10 3Ju<jX
oo!  
1.5光刻工艺特性_12 xMU4Av[{  
1.6小结_18 Y
Q;?N66  
参考文献_18 s_u@8e 6_  
$(G.P!/  
第2章投影光刻的成像原理 #5=Yg5   
2.1投影光刻机_20 IL&Mf9m  
2.2成像理论_21 /u5MAl.<[  
2.2.1傅里叶光学描述_21 tpU[KR[
-  
2.2.2倾斜照明与部分相干成像_26 N<9CV!_  
2.2.3其他成像仿真方法_30 +Y6=;*j$  
2.3阿贝瑞利准则及其影响_30 8
L^5bJ  
2.3.1分辨率极限和焦深_31 /0@'8f\I  
2.3.2影响_36 REli`"bR  
2.4小结_39 >]s|'HTxF  
参考文献_39 7$Jb"s  
>6KuZ_  
第3章光刻胶 zXIVHC,"{  
3.1光刻胶概述、常规反应原理和现象学描述_42 %;~Vc{Xxt/  
3.1.1光刻胶的分类_42 0p)#!$  
3.1.2基于重氮萘醌的光刻胶_45 MQ7N8@!t  
3.1.3先进的正型化学放大光刻胶_46 9-5H~<}fF  
3.1.4现象学模型_48 r".*l?=  
3.2光刻胶工艺步骤和建模方法_50 7'LKyy !"3  
3.2.1技术方面_50 6* (6>F5  
3.2.2曝光_51 'H0uvvhOp  
3.2.3曝光后烘焙_54 N8#wQ*MM>  
3.2.4化学显影_58 \C#XKk$OE  
3.3建模方法和紧凑光刻胶模型概述_61 3rBSwgRl  
3.4负型与正型光刻胶材料和工艺_65 5bKM}?=L  
3.5小结_68 oc7&iL  
参考文献_69 MAb*4e#  
zk#"n&u0  
第4章光学分辨率增强技术 Tr*3:J }  
4.1离轴照明_74 B]iPixA6  
4.1.1线空图形的最佳离轴照明形态_76 6Cfu19Dx  
4.1.2接触孔阵列的离轴照明_78 7@oM?r7td  
4.1.3从传统/参数化的照明形态到自由照明形态_80 D<U^FT  
4.2光学邻近效应校正_81 :7>oFz  
4.2.1孤立密集线宽偏差补偿_82 K2|2Ks_CS  
4.2.2线端缩短补偿_84 j*Uz.q?  
4.2.3从基于规则到基于模型的OPC和反演光刻技术_85 tpPP5C{  
4.2.4OPC模型和工艺流程_88 &6wD  
4.3相移掩模_89 <hkSbJF  
4.3.1强相移掩模：　交替型相移掩模_90 <;kcy :s  
4.3.2衰减型或弱相移掩模_97 ua%@Ay1|  
4.4光瞳滤波_100 Mu: y9o95  
4.5光源掩模协同优化_102 v]{F.N  
4.6多重曝光技术_106 JJe8x4  
4.7小结_109 EdcbWf7  
参考文献_110 aG_@--=  
[`J91=  
第5章材料驱动的分辨率增强 ?TWve)U  
5.1分辨率极限的回顾_115 RRRF/Z;))  
5.2非线性双重曝光_119 L)(JaZyV5  
5.2.1双光子吸收材料_119 xbqFek$
/r  
5.2.2光阈值材料_120 &X3G;x2;  
5.2.3可逆对比增强材料_121 O"^3,-  
5.3双重和多重成形技术_124 -d>2&)5  
5.3.1光刻刻蚀光刻刻蚀_124 G.")Bg  
5.3.2光刻固化光刻刻蚀_125 (;!92ct[?  
5.3.3自对准双重成形_126 76::X:76  
5.3.4双色调显影_127 A4uKE"WE  
5.3.5双重和多重成形技术的选项_128 b!p
]\B!  
5.4定向自组装_129 Kd r7 V  
5.5薄膜成像技术_133 #B2a?   
5.6小结_135 =y^`
yv 3  
参考文献_135 =e)t,YVm  
~%chF/H
 
第6章极紫外光刻 {'8td^JEE  
6.1EUV光源_141 ^/~ZP?%]  
6.2EUV和多层膜中的光学材料特性_143 b1TIVK3m  
6.3EUV掩模_146 g?.y7!m  
6.4EUV曝光设备和图像形成_151 6b2Z}B  
6.5EUV光刻胶_156 fV#,<JG  
6.6EUV掩模缺陷_157 #Z. QMWq  
6.7EUV光刻的光学分辨率极限_161 'kOkwGf!  
6.7.16.xnm波长的超极紫外光刻_162 _jb'HP  
6.7.2高数值孔径EUV光刻_162 c>Tf@Aog>  
6.7.3低k1技术：　EUV光刻的光学分辨率增强技术_166 DaS~bweMw  
6.8小结_167 %*zV&H   
参考文献_168 C547})  
v,'k2H  
第7章投影成像以外的光刻技术 1=Kt.tuf  
7.1非投影式光学光刻：　接触式和接近式光刻_176 $Ge0<6/  
7.1.1图像形成和分辨率限制_176 3,'LW}  
7.1.2技术实现_179 (#?O3z1@"  
7.1.3先进的掩模对准光刻_182 gvFJ~lL  
7.2无掩模光刻_186 ExhK\J  
7.2.1干涉光刻_186 }a!ny  
7.2.2激光直写光刻_189 ;`O9YbP#  
7.3无衍射限制的光刻_194 eQz.N<f"  
7.3.1近场光刻_195 h`
dHk]O  
7.3.2利用光学非线性_198 +Wl]1 c/  
7.4三维光刻_203 ppo.#p0w  
7.4.1灰度光刻_203 kQ]4Bo  
7.4.2三维干涉光刻_205 #<~oR5ddlb  
7.4.3立体光刻和三维微刻印_206 ;Fo7 -kK  
7.5浅谈无光刻印_209 u6 QW*8b4  
7.6小结_210 =xQPg0g  
参考文献_211 RBz"1hRo`  
H&8~"h6n  
第8章光刻投影系统：　高级技术内容 :>}7^1I  
8.1实际投影系统中的波像差_220 E-%$1=;  
8.1.1波像差的泽尼克多项式表示_221 R4X9g\KpAt  
8.1.2波前倾斜_226 &pQ[(|=(  
8.1.3离焦像差_226 lVuBo&  
8.1.4像散_228 a@Vk(3Rx_  
8.1.5彗差_229 |$;4/cKfy  
8.1.6球差_231 LF`]=.Q  
8.1.7三叶像差_233
EKO~\d  
8.1.8泽尼克像差小结_233 !?R#e`}  
8.2杂散光_234 TMD\=8Na  
8.2.1恒定杂散光模型_235 q %j8Js  
8.2.2功率谱密度（PSD）杂散光模型_236 pTaC$Ne  
8.3高数值孔径投影光刻中的偏振效应_239 ZeY|JH1  
8.3.1掩模偏振效应_240 E,F^!4 rJ$  
8.3.2成像过程中的偏振效应_241 Ml9m#c  
8.3.3光刻胶和晶圆堆栈界面的偏振效应_243 eIy:5/s  
8.3.4投影物镜中的偏振效应和矢量成像模型_246 $vK,Gugcx  
8.3.5偏振照明_248 =`*@OJHH  
8.4投影光刻机中的其他成像效应_250 Y}xM&%  
8.5小结_250 r@zs4N0WP  
参考文献_251 <2oMk#Ng^  
DE7y\oO]  
第9章光刻中的掩模和晶圆形貌效应 (f^/KB=  
9.1严格电磁场仿真的方法_256 >Tjl?CS  
9.1.1时域有限差分法_257 nGwon8&]]
 
9.1.2波导法_260 urE7ZKdI  
9.2掩模形貌效应_262 dGj0;3FI%  
9.2.1掩模衍射分析_263 KgbBa2@+  
9.2.2斜入射效应_266 YcV^Fqi!  
9.2.3掩模引起的成像效应_268 .%dGSDru  
9.2.4EUV光刻中的掩模形貌效应及缓解策略_272 g-jg;Ri  
9.2.5各种三维掩模模型_277 5Ok3y|cEx  
9.3晶圆形貌效应_279 q"@#FS  
9.3.1底部抗反射涂层的沉积策略_279 $a8,C\me?  
9.3.2靠近栅极的光刻胶底部残余_281 ~ o2Z5,H  
9.3.3双重成形技术中的线宽变化_282 4DDBf j  
9.4小结_283 %I9f_5BlT8  
参考文献_283 T`pD
jT  
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第10章先进光刻中的随机效应 ]'?Ue7  
10.1随机变量和过程_288 ji>LBbnHdE  
10.2现象_291 OiXO<1'$  
10.3建模方法_294 6FJ*eWPC  
10.4依存性及其影响_297 PNd'21N  
10.5小结_299 @)0  
参考文献_299 94et ]u%7  
专业词汇中英文对照表 7
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