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《Essential Macleod中文手册》 <y#-I%ed 5ZeE& vG2 目 录 [r,a0s G q%q x4 ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 J60XUxf 第1章 介绍 ..........................................................1 70bI}/u 第2章 软件安装 ..................................................... 3 7x`dEi< 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 3aIP^I1 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 xG:eS:iT 第5章 软件结构 ............................................................... 21 PqV9k,5f 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 v5STe` 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 HE
GMwRJG 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 LV|ZZ.d h 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 LVNq@,s 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 rMRM*`Q2 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 &KinCh7l L 第12章 优化和综合 ..................................................................120 / blVm1F 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 "FA&Qm0 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 KwGk8$ U 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 w#]> Nf 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 NAd|n+[d 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ):"Z7~j= 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 S o>P)d$8+ 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 >iD&n4TK 第20章 运行表单 .................................................................... 251 d%1Tv1={ 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 gc``z9@Xg 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 NIZN}DnP 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 `K -j 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 *J^l
r"%c 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 `4^-@} 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 x'IVP[xh`A 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 XaT9`L< 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 "|P8L|
@* 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 wdS4iQD /5cFa _,*ld#'s vv='.R, D VB
53n' nx{_^sK 内容简介 j{k]8sI,H] Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 {OFbU 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 R^8L^8EL 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 (-k`|X" 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 g\9I&z~? 'a ]4]d 目录 %eJolztKZ Preface 1 #rZF4>c 内容简介 2 tA#7Xr+ 目录 i :[icd2JCw] 1 引言 1 +/!kL0[v 2 光学薄膜基础 2 IQn|0$':Z 2.1 一般规则 2 h SGI 2.2 正交入射规则 3 VVY#g%(K 2.3 斜入射规则 6 ODS8bD0!i 2.4 精确计算 7 Rb!|2h) 2.5 相干性 8 2R}9wDP 2.6 参考文献 10 QuG=am?l` 3 Essential Macleod的快速预览 10 =W+ h.? 4 Essential Macleod的特点 32 =Xwr*FTr 4.1 容量和局限性 33 s?qRy
2 4.2 程序在哪里? 33 iWCR5c= 4.3 数据文件 35 Qsv3`c 4.4 设计规则 35 5R^e 4.5 材料数据库和资料库 37 y3!r;>2k= 4.5.1材料损失 38 3&H#LGoV$ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 +Fn^@/?yC 4.5.2 材料库 41 ryhme\%l;f 4.5.3导出材料数据 43 Kob i! 4.6 常用单位 43 kjCXP 4.7 插值和外推法 46 |>w>}w`~ 4.8 材料数据的平滑 50
pwj ? 4.9 更多光学常数模型 54
t9zPUR 4.10 文档的一般编辑规则 55 1oD1ia# 4.11 撤销和重做 56 RM^3Snd=V 4.12 设计文档 57 2'R;z<_ 4.10.1 公式 58 z^@.b 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 2oY.MQD7iW 4.10.3 沉积密度 59 PwF
1Pr`r 4.10.4 平行和楔形介质 60 NO(^P+s 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 q.
i2BoOd 4.10.4 性能 61 '.Ww*N 4.10.5 保存设计和性能 64 U`{'-L. 4.10.6 默认设计 64 Cxn<#Kf\-< 4.11 图表 64 ~|W0+ &): 4.11.1 合并曲线图 67 @UbH;m 4.11.2 自适应绘制 68 YH_mWN\Wu 4.11.3 动态绘图 68 JCL+uEX4S 4.11.4 3D绘图 69 qG=?+em 4.12 导入和导出 73 {VBn@^'s 4.12.1 剪贴板 73 N)F&c!anh 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 pKSn
3-A 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 ;3 N0) 4.13 背景 77 4r'QP .h 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 f9+J} 4.15 生成Rugate 84 i=m5M]Ef 4.16 参考文献 91 ;m/h?Y~ 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 4CUoXs' 5.1 Jobs 92 yH\3*#+ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 +[LG> 5.3 输入材料 94 &E{CQ#k 5.4 设计数据文件夹 95 uL\b*rI 5.5 默认设计 95 Xv1SRP# 6 细化和合成 97 [r[IWy(} 6.1 优化介绍 97 & XS2q0-x 6.2 细化 (Refinement) 98 }rWEa^ 6.3 合成 (Synthesis) 100 hxCSE$f4 6.4 目标和评价函数 101 3K8#,TK3 6.4.1 目标输入 102 +"sjkdum1 6.4.2 目标 103 2sezZeMV 6.4.3 特殊的评价函数 104 HDmjt+3&n 6.5 层锁定和连接 104 H@+1I?l 6.6 细化技术 104 kIC$ai6. 6.6.1 单纯形 105 7P+qPcRaP 6.6.1.1 单纯形参数 106 J^!2F}: 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ,M4G_U[ 6.6.2.1 Optimac参数 108 C:*=tD1 6.6.3 模拟退火算法 109 Q9i&]V[` 6.6.3.1 模拟退火参数 109 k-:wM`C 6.6.4 共轭梯度 111 }9Th` 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 TFfV?rBI 6.6.5 拟牛顿法 112 `l#|][B)g$ 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 =:w]EpH" 6.6.6 针合成 113 R6(sWN- 6.6.6.1 针合成参数 114 1*x;jO>Hk 6.6.7 差分进化 114 tzTnFV 6.6.8非局部细化 115 @r.w+E= 6.6.8.1非局部细化参数 115 R m&^[mv 6.7 我应该使用哪种技术? 116 Fjs:rZ#{ 6.7.1 细化 116 r<%ua6@ 6.7.2 合成 117 t!=qt* 6.8 参考文献 117 xj ?#]GR 7 导纳图及其他工具 118 [NxC7p:Lo 7.1 简介 118 KQf=t0Z=Ce 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 J]!&E~Y 7.2.1 四分之一波长规则 119 s6DmZ^Y% 7.2.2 导纳图 120 Kl'u 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 >3C4S 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 |;(95 7.5 斜入射导纳图 141 Q[vQT?J7 7.6 对称周期 141 EbfE/_I 7.7 参考文献 142 `{Jo>L. 8 典型的镀膜实例 143 <UEta>jj 8.1 单层抗反射薄膜 145 (&B`vgmb 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 'bd|Oww1u 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 @#j?Z7E| 8.4 W-膜层 148 H|.cD)&eYy 8.5 V-膜层 149 ir{li?kV 8.6 V-膜层高折射基底 150 #VvU8"u 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Q)IL]S 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 '^{:HR#i 8.9 四层抗反射薄膜 153 rA\6y6dFs 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ee}HQ.}Ja 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 qk{+Y 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 O x),jc[/ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 +W%3VV$ 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 9n#lDL O 8.15十五层宽带抗反射膜 159 U.GRN)fL4 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 G<$N*3 8.17 1/4波长堆栈 162 6CV9ewr 8.18 陷波滤波器 163 Y'{F^VxA/ 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 NQmdEsK 8.20 褶皱 165 D}MCVNd^ 8.21 消偏振分光器1 169 W>o>Y$H 8.22 消偏振分光器2 171 ${F4x "x 8.23 消偏振立体分光器 172 3J_BuMV 8.24 消偏振截止滤光片 173 4Zn" K}q 8.25 立体偏振分束器1 174 /Xm4%~b_gj 8.26 立方偏振分束器2 177 |>~pA} 8.27 相位延迟器 178 WAUgbImc{ 8.28 红外截止器 179 M%z$yU`ac 8.29 21层长波带通滤波器 180 `3e>JIl"0 8.30 49层长波带通滤波器 181 PB(q9gf"1} 8.31 55层短波带通滤波器 182 %B~@wcI)W 8.32 47 红外截止器 183 Pm/Rc 8.33 宽带通滤波器 184 YApm)O={ 8.34 诱导透射滤波器 186 TF%MO\! 8.35 诱导透射滤波器2 188 b6?&h:{k 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 v,d
bto0 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 >+FaPym 8.35 增益平坦滤波器 193 vve L|j 8.38 啁啾反射镜 1 196 Rn_FYP 8.39 啁啾反射镜2 198 >X_5o^s2s 8.40 啁啾反射镜3 199 [e`e bn[C 8.41 带保护层的铝膜层 200 #/0d 8.42 增加铝反射率膜 201 =v{Vl5&>? 8.43 参考文献 202 0a}a 9 多层膜 204 O63:t$Yx# 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 m>9j dsqB 9.2 内部透过率 204 -(lCM/h 9.3 内部透射率数据 205 vACJE 9.4 实例 206 +pY--5t 9.5 实例2 210 $4:Se#nl 9.6 圆锥和带宽计算 212 sKwUY{u\M 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 $1uT`>% 10 光学薄膜的颜色 216 ZZ324UuATX 10.1 导言 216 sW&5Mu- 10.2 色彩 216
B2^*Sr[ 10.3 主波长和纯度 220 #GuN.`__n, 10.4 色相和纯度 221 z(n Ba]^[F 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 uZml.#@4 10.6 色差 226 =$-+~ 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 Q;?rqi
, 10.8 颜色渲染指数 234 "O/
6SV 10.9 色差计算 235 yi;pn Z 10.10 参考文献 236 s3[\&zt 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 O?$]/d 11.1 短脉冲 238 w2) @o>w 11.2 群速度 239 V [Wo9Y\ 11.3 群速度色散 241 x
K ;#C 11.4 啁啾(chirped) 245 P$zhMnAAN 11.5 光学薄膜—相变 245 )Ah 7 11.6 群延迟和延迟色散 246 FEA t6 11.7 色度色散 246 ctMH5"F&1 11.8 色散补偿 249 0=k 11.9 空间光线偏移 256 Ku?1QDhrF* 11.10 参考文献 258 _P9*78 12 公差与误差 260 X$*]$Ge> 12.1 蒙特卡罗模型 260 I+/fX0-Lib 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 Kz"&:&R" 12.2.1 误差工具 267 8l*h\p:Q 12.2.2 灵敏度工具 271 X?.tj
Z, 12.2.2.1 独立灵敏度 271 k] A(nr 12.2.2.2 灵敏度分布 275 d*_rJE}B 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 Ip|=NQL> 12.3 参考文献 276 abw5Gz@Ag 13 Runsheet 与Simulator 277 M.67[Qj~"u 13.1 原理介绍 277 BB imP 13.2 截止滤光片设计 277 L:\>)6]Ls 14 光学常数提取 289 <DN7 14.1 介绍 289 3<>DDY2bl 14.2 电介质薄膜 289 .q<5OE(f 14.3 n 和k 的提取工具 295 yRR[M@Y 14.4 基底的参数提取 302 p$}/~5b}4 14.5 金属的参数提取 306 t=fr`|! 14.6 不正确的模型 306 _%u t# 14.7 参考文献 311 ~? :>=x 15 反演工程 313 .=zBUvy 15.1 随机性和系统性 313 >P ~j@Lv 15.2 常见的系统性问题 314 "?^#+@LV 15.3 单层膜 314 2(f-0or( 15.4 多层膜 314 I)MRAo 15.5 含义 319 c8Nl$|B 15.6 反演工程实例 319 ]wwN mmE 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 ]app 9 15.6.2 反演工程提取折射率 327 w:ASB>,! 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 DWS#q|j`" 16.1 光学性质的热致偏移 329
=fJ /6 16.2 应力工具 335 W5/|.} 16.3 均匀性误差 339 ?)H:.]7-x 16.3.1 圆锥工具 339 & |