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《Essential Macleod中文手册》 -|"W|K?nq X"0n*UTF, 目 录 wi-O}*O
p~vq1D6 ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 %9cu(yc*} 第1章 介绍 ..........................................................1 K; ,2ag 第2章 软件安装 ..................................................... 3 7O84R^!|2 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 kmXpj3 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 v!{mpF 第5章 软件结构 ............................................................... 21 35|F?Jx.r 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 i"V2=jTeBv 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 jODx&dVr 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 =B-a]?lM 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 %eW[`uyV 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 I
CCmE#n 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 \3a(8Em 第12章 优化和综合 ..................................................................120 MBXja#(k 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 n#8N{ya5x1 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 1iyd{r7| 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 %%5K%z,R# 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 x;w&JS1V 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 4Qh\3UL~ 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 p^S]O\;M7 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 mMo<C_~w& 第20章 运行表单 .................................................................... 251 hYOUuC 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 =
zJY5@^'7 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 G$FNofQx 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 jLRUWg 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 rWzw7T~ 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 EA_6L\+8& 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 'Pyeb`AXE9 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 .b'hVOs{ 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 BIyNiol$AJ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 I`"B<=zi KFd !wZ@e =I.
b2e1z )Nv$ SH sY,q*}SLD PgZeDUPP 内容简介 3%c{eZxG= Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 lB_&Lq8G 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 E07g^y"}i 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 (KQAKEhD! 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 &Xw{%Rg p<hV7x-{ 目录 O{WJi;l Preface 1 QI\ &D)
内容简介 2 5<1,`Bq@ 目录 i 1~X~"M 1 引言 1 >9KQWeD 2 光学薄膜基础 2 LZC)vF5 2.1 一般规则 2 zQsu~8PX 2.2 正交入射规则 3 V *2=S 2.3 斜入射规则 6 CH
h]v.V 2.4 精确计算 7 OG}auM4
2.5 相干性 8 X[pk9mha 2.6 参考文献 10 ) {=2td$=$ 3 Essential Macleod的快速预览 10 8'c_&\kdv 4 Essential Macleod的特点 32 -26GOS_8z 4.1 容量和局限性 33 yj]\%3o<Z7 4.2 程序在哪里? 33 "b6ZAgxv 4.3 数据文件 35 f#9DU}2m 4.4 设计规则 35 N[G<&f9 4.5 材料数据库和资料库 37 K&{*sa r 4.5.1材料损失 38 6fxf|R\ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 ~i&Lc7Xl 4.5.2 材料库 41 F,B, D^WD 4.5.3导出材料数据 43 Q=hf,/N 4.6 常用单位 43 [;5?=X,LD 4.7 插值和外推法 46 U?dd+2^};t 4.8 材料数据的平滑 50 &W1{o&
4.9 更多光学常数模型 54
%trtP 4.10 文档的一般编辑规则 55 [[fhfV+H 4.11 撤销和重做 56 cB5|%@$I 4.12 设计文档 57 "D V.%7*^ 4.10.1 公式 58 G~Oj}rn 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 imE5$; 4.10.3 沉积密度 59 ,$ICv+7] 4.10.4 平行和楔形介质 60 5x/q\p-{/ 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ]sz3:p=5 4.10.4 性能 61 n1Ag o3NM 4.10.5 保存设计和性能 64 #^IEQZgH 4.10.6 默认设计 64 /?b<}am 4.11 图表 64 $~,]F
4.11.1 合并曲线图 67 BS }uv3 4.11.2 自适应绘制 68 a^+b(&;k 4.11.3 动态绘图 68 Q7PqN1jTE 4.11.4 3D绘图 69 )9@I7QG? 4.12 导入和导出 73 =Mc]FCV 4.12.1 剪贴板 73 TI-#\v9 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 G6X 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 g+ `Ie'o< 4.13 背景 77 _"`wUMee 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 "yMr\jt~- 4.15 生成Rugate 84 #mqz*=L3 4.16 参考文献 91 7{oG4X! 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 Mnpb".VU#T 5.1 Jobs 92 rnxO2 5.2 创建一个新Job(工作) 93 -0| '{ 5.3 输入材料 94 tYt/m6h 5.4 设计数据文件夹 95 tR#uDE\wR 5.5 默认设计 95 VHsNz WI 6 细化和合成 97 &o/&T{t} 6.1 优化介绍 97 1{+Ni{ 6.2 细化 (Refinement) 98 >gDsjHQ6; 6.3 合成 (Synthesis) 100 d>F=|dakL 6.4 目标和评价函数 101 ]3#_BL)M8p 6.4.1 目标输入 102 6.tppAO+ 6.4.2 目标 103 Nzc1)t= 6.4.3 特殊的评价函数 104 Ch
` Omq 6.5 层锁定和连接 104 .a:Oj3=0 6.6 细化技术 104 st36xS 6.6.1 单纯形 105 DSix(bs9 6.6.1.1 单纯形参数 106 ->vfQwBFd 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 'w.:I
TJf 6.6.2.1 Optimac参数 108 /= P!9d
{ 6.6.3 模拟退火算法 109 ?,|_<'$4T 6.6.3.1 模拟退火参数 109 {rOz[E9vm 6.6.4 共轭梯度 111 GpF, =: 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 C78d29 6.6.5 拟牛顿法 112 LJZEM;;} 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Dbyy H_ 6.6.6 针合成 113 =_cWCl^5 6.6.6.1 针合成参数 114 "/hs@4{u9 6.6.7 差分进化 114 `A80""y:M 6.6.8非局部细化 115 RCNqHYR 6.6.8.1非局部细化参数 115 URR|Q!D 6.7 我应该使用哪种技术? 116 R4}G@&Q 6.7.1 细化 116 ?MeP<5\A 6.7.2 合成 117 @6.1EK0 6.8 参考文献 117 c[ff|-<g 7 导纳图及其他工具 118 UeE& 8{=d 7.1 简介 118 oTOe(5N8a 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 sr#,S(p 7.2.1 四分之一波长规则 119 f%*-PW^* 7.2.2 导纳图 120 )." zBc# 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ..;LU:F 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 \@OKB<ra 7.5 斜入射导纳图 141 ycw'>W3.* 7.6 对称周期 141 _a*Wk 7.7 参考文献 142 ~2A<fL,- 8 典型的镀膜实例 143 7Yj\*N 8.1 单层抗反射薄膜 145 $.kIB+K 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 S%&l(=0X 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 :'GTCo$3 8.4 W-膜层 148 |c 8p{) 8.5 V-膜层 149 3{CGYd]_u 8.6 V-膜层高折射基底 150 wrsETB
c 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 1[3"| 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ?\hXJih 8.9 四层抗反射薄膜 153 @u6#Tvxy[ 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 #D//oL"u] 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 6mdJ
=b# 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 94nvh:n 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 @ n;WVG 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 a3Es7R+S 8.15十五层宽带抗反射膜 159 V^L;Nw5h 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 P'ZWAxd 8.17 1/4波长堆栈 162 WlZ[9,:p1 8.18 陷波滤波器 163 3)0*hq&83 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 ^@X
=v`C 8.20 褶皱 165 gWgK 8.21 消偏振分光器1 169 2b|vb}|t{ 8.22 消偏振分光器2 171 wK#UFOp 8.23 消偏振立体分光器 172 MiOSSl}; 8.24 消偏振截止滤光片 173 :sT<<LtI- 8.25 立体偏振分束器1 174 =t)eT0 8.26 立方偏振分束器2 177 e1&c_"TOih 8.27 相位延迟器 178 :X`J1E]Rjd 8.28 红外截止器 179 62vz 'b 8.29 21层长波带通滤波器 180 l@#X]3h! 8.30 49层长波带通滤波器 181 SKRD{MRsux 8.31 55层短波带通滤波器 182 m@HU;J\I 8.32 47 红外截止器 183 8a?V h^ 8.33 宽带通滤波器 184 G2L7_?/m 8.34 诱导透射滤波器 186 hDp'=}85@ 8.35 诱导透射滤波器2 188 kf5921(P 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 ITbl%q 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 <j,7Z>Rk\x 8.35 增益平坦滤波器 193 %8{' XJ! 8.38 啁啾反射镜 1 196 $g|g}>Sc 8.39 啁啾反射镜2 198 lBh {8a|2W 8.40 啁啾反射镜3 199 cVulJ6 8.41 带保护层的铝膜层 200 V<nzThM\ 8.42 增加铝反射率膜 201 I/^Lr_\ 8.43 参考文献 202 8%nTDSp&t 9 多层膜 204 /Zv }u 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 mbS
&> 9.2 内部透过率 204 dd4yS}yBlR 9.3 内部透射率数据 205 };zF& 9.4 实例 206 PwDQ<
9.5 实例2 210 A0[flIl 9.6 圆锥和带宽计算 212 @&M$`b
^ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 g]d"d 10 光学薄膜的颜色 216 L
YH9P-5H 10.1 导言 216 $~ItT1k_ 10.2 色彩 216 {I2j Lc 10.3 主波长和纯度 220 'Z&A5\~ 10.4 色相和纯度 221 )0d3sJ8 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Uw)K[T 10.6 色差 226 n!tC z<v 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 H9jj**W ;$ 10.8 颜色渲染指数 234 hR{Fn L 10.9 色差计算 235 n7{c0;)$ 10.10 参考文献 236 uNx3us- 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 mfx'Yw*{ 11.1 短脉冲 238 &$+yXN 11.2 群速度 239 O9>/WmLe 11.3 群速度色散 241 9CL&tpqv
f 11.4 啁啾(chirped) 245 Tp0Tce/ 11.5 光学薄膜—相变 245 z-,U(0 . 11.6 群延迟和延迟色散 246 \<z{@ 11.7 色度色散 246 TkQ05'Qc 11.8 色散补偿 249 U\b,W&%P 11.9 空间光线偏移 256 u(REEc~nj 11.10 参考文献 258 PqP)<d'/ 12 公差与误差 260 ^|gN?:fA} 12.1 蒙特卡罗模型 260 4`*jF'N[ 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 f8uVk|a 12.2.1 误差工具 267 g\jdR_/ 12.2.2 灵敏度工具 271 ("9)=x *5 12.2.2.1 独立灵敏度 271 S:R%%cy 12.2.2.2 灵敏度分布 275 +$<m ;@mZ 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 6w@l#p 12.3 参考文献 276 ^Nc\D7( l 13 Runsheet 与Simulator 277 _|s{G 13.1 原理介绍 277 3[ Z? `X 13.2 截止滤光片设计 277 I=lA7} 14 光学常数提取 289 ;>Kxl}+R 14.1 介绍 289 pWQ?pTh 14.2 电介质薄膜 289 5B@&]-'~ 14.3 n 和k 的提取工具 295 Y#rao:I 14.4 基底的参数提取 302 ;>YJ}:r"\ 14.5 金属的参数提取 306 61wGIN2, 14.6 不正确的模型 306 {cG&l:-r 14.7 参考文献 311 8cW]jm 15 反演工程 313 t(s']r 15.1 随机性和系统性 313 `@Qq<T}V 15.2 常见的系统性问题 314 `[`eg<xj 15.3 单层膜 314 wRWN]Vo 15.4 多层膜 314 Q4Cw{2r 15.5 含义 319 *d)B4qG 15.6 反演工程实例 319 WMYvE\" 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 3:76x 15.6.2 反演工程提取折射率 327 ="XxS|Mq3 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 ==Y^~ab;K 16.1 光学性质的热致偏移 329 |~uCLf> 16.2 应力工具 335 G`TO[p]q 16.3 均匀性误差 339 2.2 s>?\ 16.3.1 圆锥工具 339 GV%ibqOpQj 16.3.2 波前问题 341 eLl;M4d 16.4 参考文献 343 U?.VY@ 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 38JvJR yK} 17.1 引言 345
5)mn 17.2 操作数 345 V}Oxz04 18 如何在Function中编写脚本 351 sdrE4-zd 18.1 简介 351 MF>?! ! 18.2 什么是脚本? 351 G0<m3 Up 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 cp]\<p('A 18.4 基础 352 V<(cW'zA/ 18.4.1 Classes(类别) 352 Y2Y/laD 18.4.2 对象 352 QDLtilf : 18.4.3 信息(Messages) 352 ^gD&Nb |