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《Essential Macleod中文手册》 \z!*)v/{- |@pJ] 目 录 %m[
:}, zA[6rYXY ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 O[[:3!6q 第1章 介绍 ..........................................................1 [AE-~+m)^ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 "<b~pfCOQk 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 rQT@:$) 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 H|>dF)%pj 第5章 软件结构 ............................................................... 21 l<
8RG@ 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 l{wHu(1 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 v{4K$o 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 9Mo(3M 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 dA-ik 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 Omo1p(y 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 !
7,rz1s73 第12章 优化和综合 ..................................................................120 0]
e= 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 U085qKyCw 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 `-!t 8BH 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 3DRbCKNL 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 VyK]:n<5Q 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 J<dr x_gc 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 [B3qZ" 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 P6w!r>?6N 第20章 运行表单 .................................................................... 251 clK3kBh~& 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 j48cI3C 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 Bv,u kQ\CH 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 $/;:Xb=q 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 4eapR|#T 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 j3|Ek 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 ]CyWL6z 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 C;2!c 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 /NFv?~</k 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 dn/0>|5OF( e$>.x<
Eq td-2[Sy <)c/PI[j F
VW&&ft N@J "~9T 内容简介 nTO,d$!Kp Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 9`4mvK/@ 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 2= FGZa*. 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 L?!*HS7m 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 ]~~PD?jh K~gt=NH 目录 HRO:U% Preface 1 5Z{i't0CQ 内容简介 2 Y$SZqW0!/ 目录 i V9Bi2\s* 1 引言 1 2Jo'!|] 2 光学薄膜基础 2 $ ;cZq 2.1 一般规则 2 >mRA|0$ 2.2 正交入射规则 3 ^qXc%hj g 2.3 斜入射规则 6 B3[;}8u> 2.4 精确计算 7 ju#/ {V;D 2.5 相干性 8 ~oO>6 2.6 参考文献 10 8Z{&b,Y4L 3 Essential Macleod的快速预览 10 c6gRXp'ID 4 Essential Macleod的特点 32 9%aBW7@SK 4.1 容量和局限性 33 B-`d7c5 4.2 程序在哪里? 33 sd|5oz) 4.3 数据文件 35 3>FeTf#: 4.4 设计规则 35 ? pq#|PI) 4.5 材料数据库和资料库 37 5, 4.5.1材料损失 38 /KDKA) 4.5.1材料数据库和导入材料 39 vAZc.=+ > 4.5.2 材料库 41 =\mAvVe 4.5.3导出材料数据 43 .OI&Zm- 4.6 常用单位 43 1fwjW0t 4.7 插值和外推法 46 G3O`r8oZcJ 4.8 材料数据的平滑 50 <u>l#weG, 4.9 更多光学常数模型 54 e7X#C) 4.10 文档的一般编辑规则 55 Zd$a}~4~ 4.11 撤销和重做 56 A.nU8 4.12 设计文档 57 67Z@Hg 4.10.1 公式 58 #
+OEO 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ~)Z{ Yj9)S 4.10.3 沉积密度 59 &&Ruy(&]I 4.10.4 平行和楔形介质 60 tQz =_;jy 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 3ZRi@=kWz 4.10.4 性能 61 }pk)\^/w/ 4.10.5 保存设计和性能 64 n.+%eYM< 4.10.6 默认设计 64 1.p2{ 4.11 图表 64 jI})\5<R 4.11.1 合并曲线图 67 :&*Y
Io 4.11.2 自适应绘制 68 /SDN7M]m! 4.11.3 动态绘图 68 J^t-p U 4.11.4 3D绘图 69 \@IEqm6 4.12 导入和导出 73 -3-*T) 4.12.1 剪贴板 73 f.Wip)g 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 )IN!CmpN 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 D c5tRO 4.13 背景 77 Mf 'T\^-! 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 LIzdP,^pc 4.15 生成Rugate 84 )F_0('=t 4.16 参考文献 91 1Pya\To,m 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 kg0X2^#b 5.1 Jobs 92 Sg#$
B#g 5.2 创建一个新Job(工作) 93 OP:i;%@c 5.3 输入材料 94 p5RnFe l 5.4 设计数据文件夹 95 fC6zDTis8A 5.5 默认设计 95 3$<u3Zi6 6 细化和合成 97 -G\svwv@) 6.1 优化介绍 97 n=t50/jV3= 6.2 细化 (Refinement) 98 K&T[F! 6.3 合成 (Synthesis) 100 }le}Vuy\s 6.4 目标和评价函数 101 T22
4L.? 6.4.1 目标输入 102 1Q[I $=-F 6.4.2 目标 103 ['~E _z 6.4.3 特殊的评价函数 104 6-"@j@l5< 6.5 层锁定和连接 104 >4 n\ 6.6 细化技术 104 BQ8vg8e]B 6.6.1 单纯形 105 (<bYoWrK# 6.6.1.1 单纯形参数 106 ?w^MnK0U) 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 q<Tx'Y a 6.6.2.1 Optimac参数 108 B{}<DP. 6.6.3 模拟退火算法 109 H?]%b!gQG 6.6.3.1 模拟退火参数 109 hA'i|;|ZYc 6.6.4 共轭梯度 111 r{+P2MPW 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 !U6q;'
)- 6.6.5 拟牛顿法 112 CGyw '0S 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 Sj=x.Tr\ 6.6.6 针合成 113 Nuc;Y 6.6.6.1 针合成参数 114 CjFnE 6.6.7 差分进化 114 * A<vrkHz 6.6.8非局部细化 115 *'?aXS -'r 6.6.8.1非局部细化参数 115 rdQKzJiX=U 6.7 我应该使用哪种技术? 116 I
68Y4s 6.7.1 细化 116 r6WSX;K 6.7.2 合成 117 <8J_[
S 6.8 参考文献 117 HB|R1<t;HB 7 导纳图及其他工具 118 !841/TR b 7.1 简介 118 ?/@U#Qy 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 e\8|6<o[ 7.2.1 四分之一波长规则 119 Jy^.L$bt 7.2.2 导纳图 120 - uk}Fou 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ]Rk4"i 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 }}?,({T|n 7.5 斜入射导纳图 141 1hTE^\W 7.6 对称周期 141 7\0}te 7.7 参考文献 142 Ji#eA[ 8 典型的镀膜实例 143 -- >q=hlA 8.1 单层抗反射薄膜 145 *J D-|mK 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 s(.H"_a 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 {s7
3(B" 8.4 W-膜层 148 "
""k}M2A 8.5 V-膜层 149 c1Rn1M,2k 8.6 V-膜层高折射基底 150 i)!2DXn 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 qr@<'wp/ 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 s~p(59 8.9 四层抗反射薄膜 153 SSQB1c 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 y2`}, 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 c0ue[tb 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 <5 )F9.$ 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 -I0J-~# 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 ]&;K:#J 8.15十五层宽带抗反射膜 159 4 (c{%% 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 {*PbD;/f 8.17 1/4波长堆栈 162 xYd]|y 8.18 陷波滤波器 163 (=-6'23q) 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 *)Us
8.20 褶皱 165 YB}m1g` 8.21 消偏振分光器1 169 ?hmuAgOtbh 8.22 消偏振分光器2 171 <B&vfKO^h 8.23 消偏振立体分光器 172 1w!O&kn 8.24 消偏振截止滤光片 173 C~-.zQ$ 8.25 立体偏振分束器1 174 $Ph#pM( 8.26 立方偏振分束器2 177 |Vo{ {) 8.27 相位延迟器 178 ,;@vVm'} 8.28 红外截止器 179 }' p"q) 8.29 21层长波带通滤波器 180 R>D [I. 8.30 49层长波带通滤波器 181 9;7|MPbR 8.31 55层短波带通滤波器 182 i5 0c N<o 8.32 47 红外截止器 183 l`<1Y| 8.33 宽带通滤波器 184 G' '9eV$ 8.34 诱导透射滤波器 186 *x-@}WY$U 8.35 诱导透射滤波器2 188 z -c1,GOD 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 Qv
WvS9] 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 j Gp&P 8.35 增益平坦滤波器 193 ]iYO}JuX 8.38 啁啾反射镜 1 196 QJy1j~9x 8.39 啁啾反射镜2 198 Al1}Ir 8.40 啁啾反射镜3 199 3}}8ukq 8.41 带保护层的铝膜层 200 k`((6 8.42 增加铝反射率膜 201 2Krh& 8.43 参考文献 202 xj[v$HP 9 多层膜 204 X`20=x 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 FnPn#Cv>* 9.2 内部透过率 204 w `nm}4M 9.3 内部透射率数据 205 dczq,evp 9.4 实例 206 7J;\&q' 9.5 实例2 210 wq7h8Z}l 9.6 圆锥和带宽计算 212 "Q`Le{ 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 vW-o%u* 10 光学薄膜的颜色 216 gHtflS 10.1 导言 216 L0)w~F
?m 10.2 色彩 216 2YQ;Kh"S
10.3 主波长和纯度 220 `>- 56 % 10.4 色相和纯度 221 PjP6^" 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 Y?6}r;< 10.6 色差 226 ti^=aB
10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 TbD
$lx3> 10.8 颜色渲染指数 234 QM24cm
T 10.9 色差计算 235 H]}mg='kI 10.10 参考文献 236 t2Px?S? 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 kni{1Gr 11.1 短脉冲 238 cGyR_8:2cv 11.2 群速度 239 \fsNI T/ 11.3 群速度色散 241 PLJDRp 2o 11.4 啁啾(chirped) 245 u2S8DuJ 11.5 光学薄膜—相变 245 *nK4XgD 11.6 群延迟和延迟色散 246 UX'q64F! 11.7 色度色散 246 mM r$~^P: 11.8 色散补偿 249 ^3ai}Ei3 11.9 空间光线偏移 256 # w@FBFr@ 11.10 参考文献 258 }}Zg/( 12 公差与误差 260 )KY4BBc 12.1 蒙特卡罗模型 260 HB,?}S#TP 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 EbeSl+iMx_ 12.2.1 误差工具 267 v|KGzQx$.* 12.2.2 灵敏度工具 271 ;H3~r^>c 12.2.2.1 独立灵敏度 271 rd;E /:`5 12.2.2.2 灵敏度分布 275 Z2 Vri 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 :Q,~Nw> 12.3 参考文献 276 au]W*;x 13 Runsheet 与Simulator 277 azzG 13.1 原理介绍 277 ma xpR>7`j 13.2 截止滤光片设计 277 5IA3\G}+ 14 光学常数提取 289 1gnLKf c 14.1 介绍 289 d)3jkHYEjj 14.2 电介质薄膜 289 }KYOde@ 14.3 n 和k 的提取工具 295 gCF9XKW 14.4 基底的参数提取 302 e=s({V 14.5 金属的参数提取 306 dOK]Su 14.6 不正确的模型 306 a)*(**e$*i 14.7 参考文献 311 lvRTy|%[ 15 反演工程 313 2r!- zEV 15.1 随机性和系统性 313 *+k
yuY J 15.2 常见的系统性问题 314 @
M4m!;rM 15.3 单层膜 314 +^jm_+ 15.4 多层膜 314 .mNw^>:cq 15.5 含义 319 3kT?Y7<fv 15.6 反演工程实例 319 )W6l/ 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 0e07pF/! 15.6.2 反演工程提取折射率 327 `t\\O 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 |N}* 16.1 光学性质的热致偏移 329 6b%IPbb 16.2 应力工具 335
7|yEf 16.3 均匀性误差 339 (J?_~(,`" 16.3.1 圆锥工具 339 &'`ki0Xh; 16.3.2 波前问题 341 g<ov` bF 16.4 参考文献 343 "bB0$>0, 17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 )G;Hf?M 17.1 引言 345 R!
n7g8I% 17.2 操作数 345 =7#"}%4Q 18 如何在Function中编写脚本 351 $E!f@L 18.1 简介 351 ~N/a\%` 18.2 什么是脚本? 351 f~,Ml*Zp 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 "Ec9.#U/ 18.4 基础 352 |#{ i7>2U 18.4.1 Classes(类别) 352 ?~IdPSY 18.4.2 对象 352 K-"`A.:S 18.4.3 信息(Messages) 352 ujl?! 18.4.4 属性 352 '?
-N 18.4.5 方法 353 XH(-anU"!P 18.4.6 变量声明 353 R+t]]n6# 18.5 创建对象 354 [c -|`d^ 18.5.1 创建对象函数 355 <$pv;]n 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 Tm9sQ7Oj( 18.5.3 丢弃对象 356 7KGb2V< t 18.5.4 总结 356 ,6#%+u}f 18.6 脚本中的表格 357 , Y,^vzX6 18.6.1 方法1 357 sxS%1hp3 18.6.2 方法2 357 c<lEFk!g 18.7 2D Plots in Scripts 358 e2BC2K0 18.8 3D Plots in Scripts 359 x4MTE?hT 18.9 注释 360
/fLm
)vN 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 Q1{9>NI 18.11 一个更高级的脚本 362 $RB
p!7 18.12 <esc>键 364 '/9q7?[E! 18.13 包含文件 365 KX3A| 18.14 脚本被优化调用 366 v,8Q9<=O 18.15 脚本中的对话框 368 x%O6/rl 18.15.1 介绍 368 ,t;US.s([. 18.15.2 消息框-MsgBox 368 717G
CL@ 18.15.3 输入框函数 370 r&Qa;-4Pl 18.15.4 自定义对话框 371 ZR-64G=L, 18.15.5 对话框编辑器 371 ^ fyue~9u 18.15.6 控制对话框 377 34[TM 3L]. 18.15.7 更高级的对话框 380 p@Cas 18.16 Types语句 384 !! )W` 18.17 打开文件 385 +V9xKhR;x 18.18 Bags 387 @/ nGc9h 18.13 进一步研究 388 Ml;` *; 19 vStack 389 yGSZ;BDW:K 19.1 vStack基本原理 389 @$t\yBSK 19.2 一个简单的系统——直角棱镜 391 ]zCD1*) 19.3 五棱镜 393 fBh/$ 19.4 光束距离 396 @|sBnerE 19.5 误差 399 ;< |