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《Essential Macleod中文手册》 ; )@~ wjB:5~n50k 目 录 56kI
5: e=m42vIB- ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 =W!/Z%^*8 第1章 介绍 ..........................................................1 ope^~+c~\ 第2章 软件安装 ..................................................... 3 12 gU{VD 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 f?X)k,m 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 YO}<Ytx 第5章 软件结构 ............................................................... 21 @Qt{jI! 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 6q.Uhe_B 第7章 设计窗口 .................................................................. 62
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*Pf 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 i2SR{e8:GF 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 dJNe+
MB` 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 lZKi'vg7 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 $c(nF01 第12章 优化和综合 ..................................................................120 wgGl[_) 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 ":QZy8f9% 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 ^RIl 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 07{)?1cod4 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 t!7-DF|N 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 ~6LN6}~|. 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 m
GYoM 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 gT6jYQ 第20章 运行表单 .................................................................... 251 8$Y9ORs4 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 {V
CWn95Z 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 \ta?b!Y),? 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 iSs:oH3l 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 3eQ&F~S 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 -=\c_\ O 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Jij*x>K>y 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 NyNXP_8 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 1tFNM[R
第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 )MTOU47U WOL:IZX% qF;|bF ?hy& > /caXvS i?^L/b`H 内容简介 J<jy2@"tXo Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 |Ds1 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 fVpMx4&F
薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 D2~*&'4y 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 aO4?m+ Qh\60f>0 目录 6i3$C W Preface 1 kc&U'&RgY 内容简介 2 'm
kLCS 目录 i 2`=7_v 1 引言 1 YS"=yye3e 2 光学薄膜基础 2 9CD_os\h 2.1 一般规则 2 I51@QJX 2.2 正交入射规则 3 z!9-: 2.3 斜入射规则 6 ln
dx"prW 2.4 精确计算 7 *b\t#meS& 2.5 相干性 8 7WZ+T"O{I 2.6 参考文献 10 o|["SYIf 3 Essential Macleod的快速预览 10 k@W1-D? 4 Essential Macleod的特点 32 Oxd]y1 4.1 容量和局限性 33 X45%e! 4.2 程序在哪里? 33 aAUvlb 4.3 数据文件 35 ,Ko!$29[ 4.4 设计规则 35 QhJiB%M 4.5 材料数据库和资料库 37 Z/+#pWBI! 4.5.1材料损失 38 tK\~A,= 4.5.1材料数据库和导入材料 39 0flRh)[J 4.5.2 材料库 41 $*fMR,~t& 4.5.3导出材料数据 43 s!$7(Q86R 4.6 常用单位 43 3)ywX&4"L 4.7 插值和外推法 46 $-sHWYZ 4.8 材料数据的平滑 50 qY!Zt_Be6 4.9 更多光学常数模型 54 =B @2#W# 4.10 文档的一般编辑规则 55 )\$|X}uny& 4.11 撤销和重做 56 Btcy)LRk 4.12 设计文档 57 8bld3p"^ 4.10.1 公式 58 U # qK. 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 pFjK}JOF 4.10.3 沉积密度 59 Er?&Y,o 4.10.4 平行和楔形介质 60 gRcQt : 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 pYf-S?Y/V 4.10.4 性能 61 fI|Nc 4.10.5 保存设计和性能 64 $~T4hv : 4.10.6 默认设计 64 EXqE~afm2 4.11 图表 64 )lDD\J7 4.11.1 合并曲线图 67 {"KMs[M 4.11.2 自适应绘制 68 I-l_TpM) 4.11.3 动态绘图 68 z~s PXGb 4.11.4 3D绘图 69 }k.Z~1y 4.12 导入和导出 73 /cP"h!P}~~ 4.12.1 剪贴板 73 1bwOmhkS 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 X!EP$! 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 T]~xj4 4.13 背景 77 5`p.#
4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 Slc\&Eb 4.15 生成Rugate 84 o?Oc7$+u 4.16 参考文献 91 s!$a\ k 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 AH~E )S 5.1 Jobs 92 {E|$8)58i 5.2 创建一个新Job(工作) 93 \ @2R9,9E 5.3 输入材料 94 $/Uq0U 5.4 设计数据文件夹 95 DkDmE 5.5 默认设计 95 $6R-5oQ 6 细化和合成 97 8zW2zkv2|# 6.1 优化介绍 97 o-B$J? 6.2 细化 (Refinement) 98 dioGAai' 6.3 合成 (Synthesis) 100 [v!f<zSQK 6.4 目标和评价函数 101 1 [Bk%G@D& 6.4.1 目标输入 102 \1M4Dl5! 6.4.2 目标 103 *.w9c 6.4.3 特殊的评价函数 104 QS;f\'1bb 6.5 层锁定和连接 104 5'u<iSmBo 6.6 细化技术 104 ]u/sphPe 6.6.1 单纯形 105 )MT}+ai 6.6.1.1 单纯形参数 106 ^E>3|du]O 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 5~DJWi, 6.6.2.1 Optimac参数 108 m+z&Q 6.6.3 模拟退火算法 109 s_p!43\J 6.6.3.1 模拟退火参数 109 S~G]~gt 6.6.4 共轭梯度 111 - " 9 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 4Ftu 6.6.5 拟牛顿法 112 <<O$ G7c 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 R`-S/C 6.6.6 针合成 113 <qt|d& 6.6.6.1 针合成参数 114 C\hM =% 6.6.7 差分进化 114 JC}D`h 6.6.8非局部细化 115 }"%N4(Kd 6.6.8.1非局部细化参数 115 _Y m2/3! 6.7 我应该使用哪种技术? 116 y$M%2mh` 6.7.1 细化 116 @BMx!r5kn 6.7.2 合成 117 4E}Yt$| 6.8 参考文献 117 vtJJ#8a]
7 导纳图及其他工具 118 {?7Uj 7.1 简介 118 %E;'ln4h&, 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 Zx>=tx} 7.2.1 四分之一波长规则 119 7F~X,Dk_ 7.2.2 导纳图 120 */S_Icf 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 t sRdvFFq 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 *lJxH8 \ 7.5 斜入射导纳图 141 uCB=u[]y4 7.6 对称周期 141 YuwI&)l 7.7 参考文献 142 %J-GKpo/S 8 典型的镀膜实例 143 tfWS)y7 8.1 单层抗反射薄膜 145 :[d9tm 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 bW+:C5' 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %!#azI 8.4 W-膜层 148 a?oI>8* 8.5 V-膜层 149 )=(kBWM 8.6 V-膜层高折射基底 150 uhq8 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 w&.aQGR# 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 7a}k 8.9 四层抗反射薄膜 153 0b 54fD= 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 /dIzY0<aO 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 \z ) %$#I 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 K:WDl;8(d 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 `@yp+8 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 N6TH}~62} 8.15十五层宽带抗反射膜 159 JlJ a
# 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 PZzMHK?hP 8.17 1/4波长堆栈 162 f%8C!W]Dm 8.18 陷波滤波器 163 K@%].: 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 y>ktcuML 8.20 褶皱 165 bW:!5"_{H 8.21 消偏振分光器1 169 MpOc 8.22 消偏振分光器2 171 5~S5F3 8.23 消偏振立体分光器 172 u$`a7Lp,n 8.24 消偏振截止滤光片 173 Ew$C
;&9 8.25 立体偏振分束器1 174 !ubD/KE 8.26 立方偏振分束器2 177 wdoR%b{M 8.27 相位延迟器 178 EhBKj |y 8.28 红外截止器 179 .A|@?p[ 8.29 21层长波带通滤波器 180 WfRXP^a 8.30 49层长波带通滤波器 181 {\\Tgs 8.31 55层短波带通滤波器 182 - !
S_ryL 8.32 47 红外截止器 183 ^kSqsT" 8.33 宽带通滤波器 184 !TcJ)0
8.34 诱导透射滤波器 186 23jwAsSo 8.35 诱导透射滤波器2 188 7x8
yxE 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 o;RI*I 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 ,tRj4mx 8.35 增益平坦滤波器 193 DIUjn;>k8 8.38 啁啾反射镜 1 196 TJ*T:?>e 8.39 啁啾反射镜2 198 q0\6F^;M 8.40 啁啾反射镜3 199 @KUWxFak 8.41 带保护层的铝膜层 200 ABYcH]m 8.42 增加铝反射率膜 201 OB}Ib] 8.43 参考文献 202 /wlEe>i 9 多层膜 204 4`=mu}Y2 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 wS3'?PRX 9.2 内部透过率 204 ,wPr"U+7 9.3 内部透射率数据 205 r@,2E6xn 9.4 实例 206 i{qgn%#}Y 9.5 实例2 210 HtYwEj I 9.6 圆锥和带宽计算 212 ft
Wv~Eh 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 Yz93'HDB 10 光学薄膜的颜色 216 @|T'0_' 10.1 导言 216 yaV|AB$v 10.2 色彩 216 M"To&?OI 10.3 主波长和纯度 220 e@YK@?^#N 10.4 色相和纯度 221 +qdEq_m 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 PTV:IzoW 10.6 色差 226 BfiD9ka-z 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 '/%H3A#L 10.8 颜色渲染指数 234 z([</D? 10.9 色差计算 235 9-m=*|p 10.10 参考文献 236 pI<f) r 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 a"u0Q5J 11.1 短脉冲 238 G .4X' 11.2 群速度 239 5Jnlz@P9 11.3 群速度色散 241 *DhiN 11.4 啁啾(chirped) 245 |
VDV<g5h 11.5 光学薄膜—相变 245 oe~b}: 11.6 群延迟和延迟色散 246 #A8sLkY 11.7 色度色散 246 ( &x['IR 11.8 色散补偿 249 6;5Ss?ep 11.9 空间光线偏移 256 "5$B>S(Q 11.10 参考文献 258 Ny)X+2Ae 12 公差与误差 260 ?!/kZM_ts 12.1 蒙特卡罗模型 260 1[-tD0{H 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 IV)j1 12.2.1 误差工具 267 {H'Y `+ 12.2.2 灵敏度工具 271 lU8Hd|@- 12.2.2.1 独立灵敏度 271 }\k"n{!" 12.2.2.2 灵敏度分布 275 .(2ik5A%9 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 ;i+#fQO7Q 12.3 参考文献 276 FJ?IUy 6 13 Runsheet 与Simulator 277 \Y}8S/] 13.1 原理介绍 277 8, >P 13.2 截止滤光片设计 277 e\75:oQ 14 光学常数提取 289 <1M-Ro?5k 14.1 介绍 289 Ozf@6\/t 14.2 电介质薄膜 289 ;gr9/Vl 14.3 n 和k 的提取工具 295 r",GC] 14.4 基底的参数提取 302 qJUK_6|3 14.5 金属的参数提取 306 @U}1EC{A 14.6 不正确的模型 306 Pk)1WK7E 14.7 参考文献 311 GWip-wI 15 反演工程 313 u\JNr}bL 15.1 随机性和系统性 313 4H]L~^CD 15.2 常见的系统性问题 314 r]36zX v 15.3 单层膜 314 z2>lI9D4V 15.4 多层膜 314 Thit 15.5 含义 319 jo@J}`\Zt 15.6 反演工程实例 319 iAU@Yg`pt 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 UFuX@Lu0 15.6.2 反演工程提取折射率 327 8)I^ t81 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 <c/5b]No 16.1 光学性质的热致偏移 329 0{ R=9wcc 16.2 应力工具 335 Ma"]PoP 16.3 均匀性误差 339 'uEl~> l7 16.3.1 圆锥工具 339 kMd.h[X~ 16.3.2 波前问题 341 1&Z |