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《Essential Macleod中文手册》 *rq*li; cIU2 qFn[ 目 录 ziM{2Fs> t!?`2Z5 ESSENTIAL MACLEOD光学薄膜设计与分析 kF|$oBQ 第1章 介绍 ..........................................................1 I{IB>j}8 第2章 软件安装 ..................................................... 3 ^z
*0 第3章 软件快速浏览 ....................................................... 6 tia}&9; 第4章 软件中的约定 ......................................................... 17 _^<vp 第5章 软件结构 ............................................................... 21 \Id8X`,eD 第6章 应用窗口 ................................................................. 44 G@7^M} 第7章 设计窗口 .................................................................. 62 7P{= Pv+ 第8章 图形窗口 .................................................................. 100 5 {! fa 第9章 3D图形窗口 .................................................................. 106 '}hSh 第10章 激活的图形窗口 .................................................... 111 v`S5[{6 第11章 表格窗口 ................................................................. 116 TK5$-6k 第12章 优化和综合 ..................................................................120 }i+C)VUX 第13章 材料管理 ........................................................................ 149 QV[&2&&^<< 第14章 多层膜 ........................................................................... 167 FWW4n_74 第15章 分析和设计工具 ........................................................180 v^C\
GDH 第16章 逆向工程 ................................................................ 200 9wL2NC31Q 第17章 报告生成器 ............................................................. 208 zdP?HJ=F 第18章 堆栈 ......................................................................... 213 ) 57'< 第19章 功能扩展 .................................................................. 229 -h8mJ D%Oi 第20章 运行表单 .................................................................... 251 RRO@r}A!y 第21章 模拟器 ...................................................................... 271 oiyvKMHz7 第22章 DWDM助手 ............................................................. 284 [<B,6nAl 第23章 MONITORLINK for EDDY LMC-10 .................................... 289 #]Vw$X_S 第24章 MONITORLINK for INFICON XTC .......................................... 297 ^A ]4 第25章 MONITORLINK for LEYCOM IV with OMS3000 ..............301 _c]}m3/ 第26章 MONITORLINK for Sycon STC .................................................307 Q
8]X 第27章 MONITORLINK for SC Technology 820 ..................................... 311 :V9Q<B^ 第28章 MONITORLINK for APPLIED VISION PLASMACOAT ............... 312 LW=qX%o{ 第29章 软件授权(License)系统 ............................................................... 316 Q4mtfpiDx ]yOM 6C$+D SlsNtaNt |]kiH^Ap 'M%iS4b{IM 内容简介 '&CZ%&(Gw Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 i3 js'?7E 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 zfU Do`V~ 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ?"b __(3 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 X0*+]tRg 2Wcu. 目录 kV8R.Baf3 Preface 1 i?_Q@uA~<: 内容简介 2 l<_v3/3 目录 i RlfI]uCDM 1 引言 1 L'y0$ 2 光学薄膜基础 2 P.(UbF d' 2.1 一般规则 2 QmBHD;Gf 2.2 正交入射规则 3 X[J<OTj`$ 2.3 斜入射规则 6 WGV]O| 2.4 精确计算 7 -t_&H\_T 2.5 相干性 8 D u<P^CE 2.6 参考文献 10 y95
#t 3 Essential Macleod的快速预览 10 ]FR#ZvM>x 4 Essential Macleod的特点 32 0,0WdJAe 4.1 容量和局限性 33 Xp;'Wa"@ 4.2 程序在哪里? 33 ccv 4.3 数据文件 35 0yjYjIk"T 4.4 设计规则 35 #8d#Jw 4.5 材料数据库和资料库 37 bP:u`!p
-i 4.5.1材料损失 38 eI|FrBq% 4.5.1材料数据库和导入材料 39 >u%Bn\G 4.5.2 材料库 41 K%9!1' 4.5.3导出材料数据 43 ?r;F'%N= 4.6 常用单位 43 c%<81Y= 4.7 插值和外推法 46 T c-fO
/0 4.8 材料数据的平滑 50 w[2E:Nj 4.9 更多光学常数模型 54 i% 0qN 4.10 文档的一般编辑规则 55 Tu:lIy~A 4.11 撤销和重做 56 "P5,p"k:) 4.12 设计文档 57 !le#7Kii 4.10.1 公式 58 +fvVora 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 ^Oj^7.T+ 4.10.3 沉积密度 59 j+.E#:tu" 4.10.4 平行和楔形介质 60 d3oRan}z 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 JA >&$h 4.10.4 性能 61 r 8N<<^ 4.10.5 保存设计和性能 64 T&dc)t`o 4.10.6 默认设计 64 6\h*SBI?( 4.11 图表 64 #E4oq9{0*W 4.11.1 合并曲线图 67 <MxA;A 4.11.2 自适应绘制 68 TGpdl`k\T 4.11.3 动态绘图 68 o &b\bK%E 4.11.4 3D绘图 69 ]_>38f7h 4.12 导入和导出 73 Xk^<}Ep)c 4.12.1 剪贴板 73 o/U}G,|G 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 +MS*YpPW 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 9aID&b+ 4.13 背景 77 rp]H&5.* 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 <{V{2V# 4.15 生成Rugate 84 JpQV7}$ 4.16 参考文献 91 K/& 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 m=`V 5.1 Jobs 92 'fb&3 5.2 创建一个新Job(工作) 93 $9@Z\0
5.3 输入材料 94 IFSIQ
q 5.4 设计数据文件夹 95 2V @ pt 5.5 默认设计 95 nCldH|>5w 6 细化和合成 97 +C$wkx] 6.1 优化介绍 97 BQMo*I>I 6.2 细化 (Refinement) 98 UuJ gB) 6.3 合成 (Synthesis) 100 *XXa9z 6.4 目标和评价函数 101 Swv
=gu 6.4.1 目标输入 102 m,J9:S<5; 6.4.2 目标 103 -P]onD
6.4.3 特殊的评价函数 104 \a:-xwUu< 6.5 层锁定和连接 104 o>M&C
X+j$ 6.6 细化技术 104 J@Nq 6.6.1 单纯形 105 ZYl*-i&~? 6.6.1.1 单纯形参数 106 >+BLD 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 ~\R+p~> 6.6.2.1 Optimac参数 108 (.M &nN'Ce 6.6.3 模拟退火算法 109 9@(V!G 6.6.3.1 模拟退火参数 109 b<g9L4s 6.6.4 共轭梯度 111 6K.0dhl>`B 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 r-}C !aF] 6.6.5 拟牛顿法 112 P= 26! b 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 #w[Ie+ 6.6.6 针合成 113 CIt@xi#I 6.6.6.1 针合成参数 114 orF8% 6.6.7 差分进化 114 w##$SaTI 6.6.8非局部细化 115 &W y9% 6.6.8.1非局部细化参数 115 o
3 G* 6.7 我应该使用哪种技术? 116 ,|R\ Z,s 6.7.1 细化 116 -[lOf 6.7.2 合成 117 &C E){jC 6.8 参考文献 117 gDsb~>rb| 7 导纳图及其他工具 118 cr{f*U6` 7.1 简介 118 "IdN *K 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 XuW>GT/ 7.2.1 四分之一波长规则 119 [1`&\C_E 7.2.2 导纳图 120 dBp)6ok#c 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 z`@|v~i0` 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 mvW,nM1Y 7.5 斜入射导纳图 141 7gbu7"Qc 7.6 对称周期 141 g"v-hTx 7.7 参考文献 142 uHO>FM, 8 典型的镀膜实例 143 8DJoQl9 8.1 单层抗反射薄膜 145 |NWo.j>4- 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 <bOi } 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 TzY[-YlvF 8.4 W-膜层 148 (ft$ R? 8.5 V-膜层 149 }7|UA%xz 8.6 V-膜层高折射基底 150 6M_,4>
- 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 Hk|wO:7Be 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 p# (5
; 8.9 四层抗反射薄膜 153 sq'bo8r 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 0W>,RR) 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 `GT{=XJfY 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 +(|
,Ke 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 f+W %X 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 <@2g.+9 8.15十五层宽带抗反射膜 159 jG&gd<^ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 b$1W> 8.17 1/4波长堆栈 162 LYyOcb[x 8.18 陷波滤波器 163 N(^
q%eHp 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 -|A`+1-R+ 8.20 褶皱 165 p!3!&{ 8.21 消偏振分光器1 169 s:\FlQ0 8.22 消偏振分光器2 171 Qc]Ki3ls 8.23 消偏振立体分光器 172 gCY%@?YyN 8.24 消偏振截止滤光片 173 ,O/ t6' 8.25 立体偏振分束器1 174 CQm(N 8.26 立方偏振分束器2 177 zU,Qph
,< 8.27 相位延迟器 178 .a`(?pPr, 8.28 红外截止器 179 +&h<:/ V 8.29 21层长波带通滤波器 180 o&"nF+, 8.30 49层长波带通滤波器 181 8!(09gW'> 8.31 55层短波带通滤波器 182 `8D}\w<eI 8.32 47 红外截止器 183 %gE*x
# 8.33 宽带通滤波器 184 gG6j>%y 8.34 诱导透射滤波器 186 3=~0m 8.35 诱导透射滤波器2 188 i@p0Jnh| 8.36 简单密集型光波复用(DWDM)滤波器 190 3c.,T 8.37 高级密集型光波复用技术(DWDM)滤波器 192 YE5B^sQ1 8.35 增益平坦滤波器 193 m3i+b 8.38 啁啾反射镜 1 196 i j+)U` 8.39 啁啾反射镜2 198 Q9h;`G
7t 8.40 啁啾反射镜3 199 U}2b{ 8.41 带保护层的铝膜层 200 NhYce> 8.42 增加铝反射率膜 201 ruQ1Cph 8.43 参考文献 202 B6#^a 9 多层膜 204 (Ld,<!eN0 9.1 多层膜基本原理—堆栈 204 #.^A5`k 9.2 内部透过率 204 soXIPf 9.3 内部透射率数据 205 W2F *+M 9.4 实例 206 nkn4VA?" 9.5 实例2 210 yO`HL'SMo 9.6 圆锥和带宽计算 212 &3_.k 9.7 在Design中加入堆栈进行计算 214 1Vy8TV3D 10 光学薄膜的颜色 216 KJ;;825? 10.1 导言 216 78fFAN` 10.2 色彩 216 Q'qz(G0 10.3 主波长和纯度 220
Hlj_oDL 10.4 色相和纯度 221 84eqT[I' 10.5 薄膜的颜色和最佳颜色刺激 222 \x9.[?;=e 10.6 色差 226 /pS Y ~* 10.7 Essential Macleod中的色彩计算 227 e;G}T%W 10.8 颜色渲染指数 234 mW&hUPRx 10.9 色差计算 235 ;S.o`z1GI 10.10 参考文献 236 oDBv5 11 镀膜中的短脉冲现象(Short-Pluse Phenomena) 238 (AI
4a+ 11.1 短脉冲 238 ?6T\uzL +% 11.2 群速度 239 /_l$h_{DH 11.3 群速度色散 241 'V#$PZx 11.4 啁啾(chirped) 245 X&14;lu%p 11.5 光学薄膜—相变 245 'NYW`, 11.6 群延迟和延迟色散 246 #l?E2
U4WL 11.7 色度色散 246 y1c2(K>tu 11.8 色散补偿 249 p]E \!/ 11.9 空间光线偏移 256 n/Fx2QC{ 11.10 参考文献 258 UHT2a9rG 12 公差与误差 260 <tx`#, 12.1 蒙特卡罗模型 260 )~[rb<:)b 12.2 Essential Macleod 中的误差分析工具 267 QRKr2:o{ 12.2.1 误差工具 267 ziTE*rNJ 12.2.2 灵敏度工具 271 ?)V?6"fFP 12.2.2.1 独立灵敏度 271 s5cY> 12.2.2.2 灵敏度分布 275 !/RL.`!> 12.2.3 Simulator—更高级的模型 276 :.bBV]6q 12.3 参考文献 276 O
!
iN 13 Runsheet 与Simulator 277 nc/F@HCB 13.1 原理介绍 277 %-J}m 13.2 截止滤光片设计 277 p38RgEf 14 光学常数提取 289 O@-|_N*;K 14.1 介绍 289 e[l#r>NT 14.2 电介质薄膜 289 3 =-XA2zJ 14.3 n 和k 的提取工具 295 H05xt$J 14.4 基底的参数提取 302 \;bDDTM 14.5 金属的参数提取 306 G'IRqO*] 14.6 不正确的模型 306 /JbO $A 14.7 参考文献 311 /|#" ;QsPN 15 反演工程 313 '"M9`@Y3^ 15.1 随机性和系统性 313 ]b'"l 15.2 常见的系统性问题 314 f)#rBAkt 15.3 单层膜 314 bTep TWv 15.4 多层膜 314 (F=q/lK$ 15.5 含义 319 "l[ c/q[ 15.6 反演工程实例 319 `),ACkU>U 15.6.1 边缘滤波片的逆向工程 320 gPqdl6#c 15.6.2 反演工程提取折射率 327 }>$3B5} 16 应力、张力、温度和均匀性工具 329 Of.%rpgy 16.1 光学性质的热致偏移 329 (t_%8Eu 16.2 应力工具 335 h}&1
7M 16.3 均匀性误差 339 ![Ll$Lr 16.3.1 圆锥工具 339 Gk-49|qIV 16.3.2 波前问题 341 Pe?=M[u2 16.4 参考文献 343 :[d*
17 如何在Function(模块)中编写操作数 345 ffI
z>Of: 17.1 引言 345 HVH <S 17.2 操作数 345 `PS^o# 18 如何在Function中编写脚本 351 Hkzx(yTi 18.1 简介 351 !cNw8"SIU 18.2 什么是脚本? 351 B:rzM:BQ 18.3 Function中脚本和操作数对比 351 1WUlBr/k 18.4 基础 352 hmp!|Q[) 18.4.1 Classes(类别) 352 -F`uz,wZ 18.4.2 对象 352 P TMJ.; 18.4.3 信息(Messages) 352 _>RTefL5 18.4.4 属性 352 D/&nEMp6 18.4.5 方法 353 UiQF4Uc" 18.4.6 变量声明 353 mTgsvC 18.5 创建对象 354 K'U8ft*_ 18.5.1 创建对象函数 355 n7VQi+i' 18.5.2 使用ThisSession和其它对象 355 T%O2=h\} E 18.5.3 丢弃对象 356 [DD#YL\P 18.5.4 总结 356 RH~I/4e 18.6 脚本中的表格 357 .!Q*VTW 18.6.1 方法1 357 SL5QhP 18.6.2 方法2 357 J. $U_k 18.7 2D Plots in Scripts 358 @XQItc< 18.8 3D Plots in Scripts 359 ,~*pPhQ8m 18.9 注释 360 X|4_}b> x 18.10 脚本管理器调用Scripts 360 1+v!)Y>Z& 18.11 一个更高级的脚本 362 *IQQsfL) 18.12 <esc>键 364 LOi/+;> 18.13 包含文件 365 \'.|7{Xu 18.14 脚本被优化调用 366 }s@vN8C 18.15 脚本中的对话框 368 [m0G;%KR/ 18.15.1 介绍 368 ;!pSYcT, 18.15.2 消息框-MsgBox 368 S1U>Q~ZPA 18.15.3 输入框函数 370 $SfYO!n7Q 18.15.4 自定义对话框 371 dM)x|b3z 18.15.5 对话框编辑器 371 Ef\& |