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]gPx%c 内容简介 geyCS3
:p Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 n zaDO-2! 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 Gxe)5,G 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 ZiuD0#"! qWr=Oiu 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 qLLrR,: 目录 5CK\Z'c~! Preface 1 QHO n?e
内容简介 2 b_ZvI\H 目录 i 0 j!<eN= 1 引言 1 }~@/r5Zl 2 光学薄膜基础 2 ZUHW*U. 2.1 一般规则 2 W'vek uM 2.2 正交入射规则 3 ^x O](,H 2.3 斜入射规则 6 o
i'iZX 2.4 精确计算 7 6t; ;Fz 2.5 相干性 8 fphCQO^#vW 2.6 参考文献 10 M(+Pd_c6 3 Essential Macleod的快速预览 10 ^oPFLez56 4 Essential Macleod的特点 32 BT[|f[1 4.1 容量和局限性 33 ASy?^Jrs5 4.2 程序在哪里? 33 apm%\dN 4.3 数据文件 35 GZaB z#U 4.4 设计规则 35 |E6_TZ#= 4.5 材料数据库和资料库 37 Ne<S_u2nT 4.5.1材料损失 38 Fj<*!J$, 4.5.1材料数据库和导入材料 39 >|%3j,<U 4.5.2 材料库 41 +g?uvXC& 4.5.3导出材料数据 43 'M6+(`x 4.6 常用单位 43 }'wZ)N@ 4.7 插值和外推法 46 A-4;$
QSm 4.8 材料数据的平滑 50 m@kLZimD 4.9 更多光学常数模型 54 vcQl0+& 4.10 文档的一般编辑规则 55 [(*Eg!?W= 4.11 撤销和重做 56 hev;M)t 4.12 设计文档 57 QD%xmP 4.10.1 公式 58 ~vDa2D<9% 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 X9?)P5h= 4.10.3 沉积密度 59 k vZ w4Pk 4.10.4 平行和楔形介质 60 P.Bwfa 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 ,TWlg 4.10.4 性能 61 5T.U=_ag 4.10.5 保存设计和性能 64 <Mvniz 4.10.6 默认设计 64 P0>2}/;o 4.11 图表 64 (^iF)z 4.11.1 合并曲线图 67 ep"{{S5g 4.11.2 自适应绘制 68 \VhG'd3k 4.11.3 动态绘图 68 P x Q] $w 4.11.4 3D绘图 69 =M-=94 4.12 导入和导出 73 A3tv'-e9 4.12.1 剪贴板 73 K!\v?WbF 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 [(Z(8{3i 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 }y*D(` 4.13 背景 77 HUjX[w8 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 9Zd\6F, 4.15 生成Rugate 84 `Ns@W? 4.16 参考文献 91 b%MZfaU 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 *y?6m,38V 5.1 Jobs 92 ( gg )? 5.2 创建一个新Job(工作) 93 bj@sci(1? 5.3 输入材料 94 stK}K-=` 5.4 设计数据文件夹 95 B /uaRi% 5.5 默认设计 95 BhDg\oxZ 6 细化和合成 97 `l'T/F\ 6.1 优化介绍 97 U%bm{oVn 6.2 细化 (Refinement) 98
tgG
8pL 6.3 合成 (Synthesis) 100 m2^vH+wD 6.4 目标和评价函数 101 s i2@k 6.4.1 目标输入 102 'i$._Tx 6.4.2 目标 103 roc DO8f 6.4.3 特殊的评价函数 104 (<>??(VM 6.5 层锁定和连接 104 db,?b>,EE 6.6 细化技术 104 "XxmiK 6.6.1 单纯形 105 eEBNO*2 6.6.1.1 单纯形参数 106 `Gv\"|Gn 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 34Gu @" 6.6.2.1 Optimac参数 108 V~*>/2+ 6.6.3 模拟退火算法 109 Tk[]l7R~ 6.6.3.1 模拟退火参数 109 pW.WJ`Rk 6.6.4 共轭梯度 111 VK*_pEV,} 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 W7A!QS 6.6.5 拟牛顿法 112 U9T}iI 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 k%gj 6.6.6 针合成 113 v#{Nh8n 6.6.6.1 针合成参数 114 ?=4oxPe 6.6.7 差分进化 114 F%a&|X 6.6.8非局部细化 115 GdUsv 6.6.8.1非局部细化参数 115 '8zd]U 6.7 我应该使用哪种技术? 116 wbF`wi? 6.7.1 细化 116 Kd 1=mC 6.7.2 合成 117 oS$7k3s
fj 6.8 参考文献 117 @"NP`# 7 导纳图及其他工具 118 %XN;S29d5W 7.1 简介 118 ]QR]#[Tn' 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 xP~GpVhLF 7.2.1 四分之一波长规则 119 V
H`_ 7.2.2 导纳图 120 7"2BZ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 2?%4|@*H? 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 %T>@Ldt 7.5 斜入射导纳图 141 Uf+y$n- 7.6 对称周期 141 ,w6?Ap 7.7 参考文献 142 `AE6s.p? 8 典型的镀膜实例 143 e0y.J 8.1 单层抗反射薄膜 145 |MKR&%Na 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 #2i$:c~ 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 %[KnpJ{\ 8.4 W-膜层 148 g7?[}?]3"p 8.5 V-膜层 149 N KgEs 8.6 V-膜层高折射基底 150 1Q
FsT 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 (*r2bm2FPO 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 2~/`L=L 8.9 四层抗反射薄膜 153 Z*w({k7] 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ]vB^% 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 Dti-*LB1 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 p/_W*0/i 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 H+I,c1sF 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 pSC{0Y$g 8.15十五层宽带抗反射膜 159 ^PFiO 12 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 D3aX\ NGP 8.17 1/4波长堆栈 162 $]#8D>E& |