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T;4gcJPn"M 内容简介 0bnVIG2q Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 .qb_/#Bas 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 xu_XX#9?b 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 %/6e"o U!;aM*67 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 i)ES;b4 目录 :C|>y4U&(s Preface 1 {g!exbVf 内容简介 2 ! 6p)t[s 目录 i )]>i> 1 引言 1 "j.oR}s9?# 2 光学薄膜基础 2 ;)=zvr17 2.1 一般规则 2 (4{@oM#H6 2.2 正交入射规则 3 WDH[kJ 2.3 斜入射规则 6 &,Zz 2.4 精确计算 7 x^='pEt{ 2.5 相干性 8 :,}:c%-^" 2.6 参考文献 10 qy42Y/8' 3 Essential Macleod的快速预览 10 <R`,zE@t'( 4 Essential Macleod的特点 32 ;@7#w 4.1 容量和局限性 33 c~pUhx1( 4.2 程序在哪里? 33 =-Q 4.3 数据文件 35 Z#TgFQ3u 4.4 设计规则 35 ,#
jOf{L* 4.5 材料数据库和资料库 37 Ng_rb KXC# 4.5.1材料损失 38 .X<"pd*@e 4.5.1材料数据库和导入材料 39 6(<~1{
X% 4.5.2 材料库 41 wsb=[$C 4.5.3导出材料数据 43 X_tW#` 4.6 常用单位 43 sw qky5_K 4.7 插值和外推法 46 tEWj}rX 4.8 材料数据的平滑 50 M#lVPXS 4.9 更多光学常数模型 54 9i2vWSga 4.10 文档的一般编辑规则 55 C!/8e
(!N 4.11 撤销和重做 56 )ejXeg 4.12 设计文档 57 P B6/<n9# 4.10.1 公式 58 1z};"A 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 0JZq:hUd 4.10.3 沉积密度 59 c9g \7L,Z 4.10.4 平行和楔形介质 60 xBI"{nGoN 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 Ng;b!S 4.10.4 性能 61 ukDH@/ 4.10.5 保存设计和性能 64 P#2TM 4.10.6 默认设计 64 ]-s`# 4.11 图表 64 [>Kxm 4.11.1 合并曲线图 67 "$:y03V 4.11.2 自适应绘制 68 C O%O<_C 4.11.3 动态绘图 68 )r|zi
Z {F 4.11.4 3D绘图 69 $hE'b9qx 4.12 导入和导出 73 A$"$`)P! 4.12.1 剪贴板 73 Mi/'4~0Y 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ]kplb0` 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 |C2.Zay 4.13 背景 77 tv=FFfQ 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 O*n%2Mam 4.15 生成Rugate 84 Y`O}]*{>8R 4.16 参考文献 91 (B/F6
X;o. 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 f?<M3P 5.1 Jobs 92 +$m skj0s 5.2 创建一个新Job(工作) 93 L pi_uK 5.3 输入材料 94 $
p1EqVu 5.4 设计数据文件夹 95 x]J-q5 5.5 默认设计 95 ohtn^o;C} 6 细化和合成 97 1yRd10 6.1 优化介绍 97 ^nm!NL{z^ 6.2 细化 (Refinement) 98 Z%n.:I<%ZV 6.3 合成 (Synthesis) 100 J%[N- 6.4 目标和评价函数 101 S~(VcC$K 6.4.1 目标输入 102 K~ /V 6.4.2 目标 103 vLT12v:)` 6.4.3 特殊的评价函数 104 W%XS0k}x 6.5 层锁定和连接 104 cp?P@- 6.6 细化技术 104 S| -{wC% 6.6.1 单纯形 105 e4W];7_K! 6.6.1.1 单纯形参数 106 =cKk3kJC 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 w*ktx{ 6.6.2.1 Optimac参数 108 D i1G 6.6.3 模拟退火算法 109 .Zt/e>K& 6.6.3.1 模拟退火参数 109 98}vbl31j 6.6.4 共轭梯度 111 ,G/X"t ~ 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 A`/7>'k/q[ 6.6.5 拟牛顿法 112 |2&mvjk@H 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 z`:^e1vG
6.6.6 针合成 113 wG[l9)lz 6.6.6.1 针合成参数 114 KeOBbe 6.6.7 差分进化 114 S"A_TH 6.6.8非局部细化 115 adE0oXQH" 6.6.8.1非局部细化参数 115 ,Y5 4(>>% 6.7 我应该使用哪种技术? 116 1:s~ ]F@ 6.7.1 细化 116 PWD]qtr 6.7.2 合成 117 %mvx}xV 6.8 参考文献 117 k'q
!MZU 7 导纳图及其他工具 118 i@j ?< 7.1 简介 118 i&Cqw~.H 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 u]-El}*[ 7.2.1 四分之一波长规则 119 KIY_EE$? 7.2.2 导纳图 120 WIlS^?5I< 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 ]G&\L~P 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 44{:UhJkx 7.5 斜入射导纳图 141 vlyNQ7"% 7.6 对称周期 141 cCKda3v!O 7.7 参考文献 142 <4HuV.K 8 典型的镀膜实例 143 G8-d%O p 8.1 单层抗反射薄膜 145 daJ-H 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 m/B9)JzY 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 ';!UJWYl 8.4 W-膜层 148 J
2~B<=V 8.5 V-膜层 149 I}0- 8.6 V-膜层高折射基底 150 p
8Hv7* 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 AG%es0D[H 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 |-Klh 8.9 四层抗反射薄膜 153 )4~XZt1r 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 s/^=WV 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 *<5lx[:4/x 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 H$iMP.AK 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 J@{Bv% 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 BU\NBvX$ 8.15十五层宽带抗反射膜 159 U]&%EqLS 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 F+^[8zK^ 8.17 1/4波长堆栈 162 $4)guG) 8.18 陷波滤波器 163 [/^g) ^s: 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 2YEn)A@8 8.20 褶皱 165 l{{ #tW 8.21 消偏振分光器1 169 w8Vzx8 8.22 消偏振分光器2 171 S%|'
/cFo 8.23 消偏振立体分光器 172 NPq2C8: 8.24 消偏振截止滤光片 173 @d9*<>@: 8.25 立体偏振分束器1 174 2uB26SEIl 8.26 立方偏振分束器2 177 -/*{^[ 8.27 相位延迟器 178 < |