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PB$beQ 内容简介 s2SV
Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 &Jj|+P-lY 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 "ymR8y' 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 4;Ucas6 {Z8GG 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 tW|0_m>{ 目录 tdxzs_V,- Preface 1 Rkg8 内容简介 2 9n\>Yieu 目录 i &"K_R(kN 1 引言 1 a($7J6]M 2 光学薄膜基础 2 r_$*euh@ 2.1 一般规则 2 mA$y$73=T 2.2 正交入射规则 3 "NA<^2W@J 2.3 斜入射规则 6 wW*7 2.4 精确计算 7 pZ|{p{_j 2.5 相干性 8 *w4#D:g 2.6 参考文献 10 46D`h!7L 3 Essential Macleod的快速预览 10 ) dk|S\ 4 Essential Macleod的特点 32 vO2WZ7E! 4.1 容量和局限性 33 <`pNdy4 4.2 程序在哪里? 33 .
KLEx]f. 4.3 数据文件 35 |3e+ K. 4.4 设计规则 35 ]?1_.Wjtt 4.5 材料数据库和资料库 37 f4P({V 4.5.1材料损失 38 <<?32r~ 4.5.1材料数据库和导入材料 39 J";N^OR{A% 4.5.2 材料库 41 hJ`Gu7 4.5.3导出材料数据 43 <">epbV6 4.6 常用单位 43 0}e?hbF%U 4.7 插值和外推法 46 (o B4* 4.8 材料数据的平滑 50 _"@:+f, 4.9 更多光学常数模型 54 N gF7$@S 4.10 文档的一般编辑规则 55 pTq DPU 4.11 撤销和重做 56 5xdeuBEY8 4.12 设计文档 57 li3,6{S# 4.10.1 公式 58 "!zJQl@ 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 $k0(iFzR1 4.10.3 沉积密度 59 hJ xL|5Uo 4.10.4 平行和楔形介质 60 9qCE{[( 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 tIDN~[1 4.10.4 性能 61 7\%JJw6h 4.10.5 保存设计和性能 64 Cs>` f,o 4.10.6 默认设计 64 R&Nl!QTJj 4.11 图表 64 [5L?#Y 4.11.1 合并曲线图 67 g=nb-A{# 4.11.2 自适应绘制 68 lj}3TbM 4.11.3 动态绘图 68 Lq>lj`> 4.11.4 3D绘图 69 \78^ O 4.12 导入和导出 73 }ZVond$y4 4.12.1 剪贴板 73 3ArHaAv{y 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 x @q.u3o9 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 hJ ^+asr 4.13 背景 77 W{'hn&vU 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 rmA?Xlh\ 4.15 生成Rugate 84 F\+AA 4.16 参考文献 91 %r1#G.2YW 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 ![K\)7 iKo 5.1 Jobs 92 7mYcO3{5{ 5.2 创建一个新Job(工作) 93 KJQ8Yhq 5.3 输入材料 94 lFt! 5.4 设计数据文件夹 95 w~v6=^ 5.5 默认设计 95 FtyT:=Kpc 6 细化和合成 97 n',X,P0 6.1 优化介绍 97 ' F.^ 8/> 6.2 细化 (Refinement) 98 AVDhgJv 6.3 合成 (Synthesis) 100 6k;5T 6.4 目标和评价函数 101 @Nsn0-B?ne 6.4.1 目标输入 102 QnOgF 3t 6.4.2 目标 103 :5/Ue,~ag 6.4.3 特殊的评价函数 104 `ZEFH7P 6.5 层锁定和连接 104 9dA+#;? 6.6 细化技术 104 Rs"=o>Qu 6.6.1 单纯形 105 C8|Ls(4Ck 6.6.1.1 单纯形参数 106 ,e'm@d$Q* 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 B1|nT?}J( 6.6.2.1 Optimac参数 108 Vv+nq_ 6.6.3 模拟退火算法 109 3?V'O6 6.6.3.1 模拟退火参数 109 `{{6vb^g 6.6.4 共轭梯度 111 >I4BysR 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 -y!Dg6A 6.6.5 拟牛顿法 112 dj(&"P 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 u~uz=Yse 6.6.6 针合成 113 ]*| hd/j 6.6.6.1 针合成参数 114 {2:baoG- 6.6.7 差分进化 114 M5:.\0_ 6.6.8非局部细化 115 n+sv2Wv: 6.6.8.1非局部细化参数 115 eG(YORkR 6.7 我应该使用哪种技术? 116 m-uXQS^@G 6.7.1 细化 116 wp1O*)/q 6.7.2 合成 117 X8Z) W?vu 6.8 参考文献 117 Uzvd*>mv 7 导纳图及其他工具 118 W'@G5e 7.1 简介 118 _Kaqx"D 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 d)uuA;n 7.2.1 四分之一波长规则 119 Vn5%%?]J 7.2.2 导纳图 120 %TN$ 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 _-RqkRI 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 'Iw`+=iVz 7.5 斜入射导纳图 141 YG0/e#5 7.6 对称周期 141 V z 7.7 参考文献 142 }bw^p.ci 8 典型的镀膜实例 143 k0j4P^d 8.1 单层抗反射薄膜 145 T U_'1 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 bX38=.up 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 #0r^<Yn 8.4 W-膜层 148 kXhd]7ru 8.5 V-膜层 149 hb*Y-$Zp 8.6 V-膜层高折射基底 150 UUWRC1EtI 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 *bpN!2 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 qfT9g>EF 8.9 四层抗反射薄膜 153 ;C*2Djb*n 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 ^NU_Tp:2^ 8.11 可见光和1.06 抗反射薄膜 155 ?yAb=zI1b 8.12 六层宽带抗反射薄膜 156 r>8`gAhx 8.13 宽波段八层抗反射薄膜 157 /'{vDxZf R 8.14 宽波段25层抗反射薄膜 158 Nk-xnTZ" 8.15十五层宽带抗反射膜 159 /Hk})o_ 8.16 四层2-1 抗反射薄膜 161 66>X$nx(z 8.17 1/4波长堆栈 162 <FkaH8,7 8.18 陷波滤波器 163 P51c Ehf 8.19 厚度调制陷波滤波器 164 _`=qc/-0 8.20 褶皱 165 y'>9'/& 8.21 消偏振分光器1 169 }!fIY7gv 8.22 消偏振分光器2 171 HHw&BN |