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a!hI${Xn 内容简介 >8F{lbEe Macleod软件自带的用户手册功能全面,其介绍涵盖了软件的方方面面,能够使用户快速的了解和熟悉软件的基本操作。然而,为了顺应目前薄膜行业的需求,急需一本能够契合软件设计和实际加工需要的专业书籍,以能够帮助薄膜领域的同行高效的完成相关工作,因此,我们特别推出了《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》。 Os]!B2j14 《基于Essential Macleod软件的光学薄膜设计技术》(原著第二版)是世界著名光学薄膜专家Macleod先生40多年丰富工作经验的总结,结合当前市场占有率极高的光学薄膜设计与分析软件Essential Macleod,其内容丰富,实用性强。书中不仅有成熟的光学薄膜理论基础、计算公式和分析方法,还有关于光学薄膜技术讨论和解决方案以及全面考虑了薄膜的设计、分析、制造等各方面问题,如第8章中40个经典案例分析。本书共设置21章节,首先,从光学薄膜的基本理论出发(第2章),为大家介绍了设计一个薄膜所必备的基础知识。其次,在第3至第7章主要介绍了Macleod软件的相关操作,以帮助大家在较短的时间快速熟悉软件操作界面。最后,从第9章至21章开始重点阐述软件中的反演工程、提取光学常数、公差分析、薄膜颜色、Runsheet、Simulator、Stack等功能及模块如何与实际相结合,从而使大家将理论知识与实际经验结合起来,对实际镀膜提出实用的建议,以减少设计时间并降低生产成本。 :yFTaniJ'. 薄膜光学涵盖范围很广,书中并附设计光盘和参考文献,有兴趣者可依此深入研究,为精准起见,在不影响理解的情况下,尽最大可能保留原文意思。译者希望本书能够对从事薄膜行业的人员有所帮助,通过学习之后能够较好地完成其所承担的光学任务。然而由于个人能力之局限,书中错误纰漏之处在所难免,本书若有不周之处,尚请读者不吝赐教。 D>"{H7mY '<{oYXZW3 讯技科技股份有限公司 2015年9月3日 LB64W ;#h 目录 hM1&A Preface 1 4cVs(`g^ 内容简介 2 cx1WGbZ 目录 i UG^?a 1 引言 1 Z<,CzKs+|| 2 光学薄膜基础 2 w#gU1yu 2.1 一般规则 2 ~(l2%(3G 2.2 正交入射规则 3 7-G'8t 2.3 斜入射规则 6 |GVGny< 2.4 精确计算 7 {W:)oh> 2.5 相干性 8 yv#c=v| 2.6 参考文献 10 ;#6<bV 3 Essential Macleod的快速预览 10 ; ei<Q =[ 4 Essential Macleod的特点 32 ]<o.aMdV 4.1 容量和局限性 33 0.{oA`5N 4.2 程序在哪里? 33 yEw"8u' 4.3 数据文件 35 M~g~LhsF 4.4 设计规则 35 )W}/k$S 4.5 材料数据库和资料库 37 7}iewtdy, 4.5.1材料损失 38 0[$Mo3c+' 4.5.1材料数据库和导入材料 39 9-Nq[i" 4.5.2 材料库 41 9B?t3: 4.5.3导出材料数据 43 '#An+;x{ 4.6 常用单位 43 tr9_bl&z 4.7 插值和外推法 46 v[3hnLN% 4.8 材料数据的平滑 50 -XDP-Trk 4.9 更多光学常数模型 54 *F%ol;|Q 4.10 文档的一般编辑规则 55 <>5:u 4.11 撤销和重做 56 T0]%(F/8 4.12 设计文档 57 ]`i@~Z h\ 4.10.1 公式 58 pb2{J# 4.10.2 更多关于膜层厚度 59 }T1Xds8w)t 4.10.3 沉积密度 59 ]9yA0,z/ 4.10.4 平行和楔形介质 60 YK=#$,6 4.10.5 渐变折射率和散射层 60 <DlanczziF 4.10.4 性能 61 V[M$o 4.10.5 保存设计和性能 64 )(|0KarF 4.10.6 默认设计 64 i&s=!` 4.11 图表 64 g#KToOP 4.11.1 合并曲线图 67 2Ws/0c 4.11.2 自适应绘制 68 v BeU 4.11.3 动态绘图 68 xfF&$K" 4.11.4 3D绘图 69 /x8C70W^ 4.12 导入和导出 73 as\K(c9 4.12.1 剪贴板 73 />2$
XwP 4.12.2 不通过剪贴板导入 76 ??e#E[bI 4.12.3 不通过剪贴板导出 76 Z$m2rZ# 4.13 背景 77 PuoJw~^h 4.14 扩展公式-生成设计(Generate Design) 80 ZX5A%`<M 4.15 生成Rugate 84 ,%b1 ]zZQ 4.16 参考文献 91 (!&O4C5 5 在Essential Macleod中建立一个Job 92 4U y>#IL 5.1 Jobs 92 [sO<6?LY 5.2 创建一个新Job(工作) 93 <+1w'- 5.3 输入材料 94 ]v,y(yl 5.4 设计数据文件夹 95
E#X!*q& 5.5 默认设计 95 Y*X6lo 6 细化和合成 97 bHo?Rw!. 6.1 优化介绍 97 f}9`iN=k 6.2 细化 (Refinement) 98 Jm1AJ4mw 6.3 合成 (Synthesis) 100 -mYI[AG) 6.4 目标和评价函数 101 XJ1nhE 6.4.1 目标输入 102 4.kkxQR7r 6.4.2 目标 103 K|J#/ 6.4.3 特殊的评价函数 104 /a/uS3& 6.5 层锁定和连接 104 S?z j&XY3 6.6 细化技术 104 zB7dCw 6.6.1 单纯形 105 d?qO`-
~$ 6.6.1.1 单纯形参数 106 AJ1$$c 6.6.2 最佳参数(Optimac) 107 hB<z]sl 6.6.2.1 Optimac参数 108 )mZy>45 6.6.3 模拟退火算法 109 ?(L?X&)v 6.6.3.1 模拟退火参数 109 g8*|"{ 6.6.4 共轭梯度 111 ~)CU m[:oM 6.6.4.1 共轭梯度参数 111 W:( Usy 6.6.5 拟牛顿法 112 m?CjYqvf 6.6.5.1 拟牛顿参数: 112 owVUL~ 6.6.6 针合成 113 F-OZIo 6.6.6.1 针合成参数 114 ::b;4QL 6.6.7 差分进化 114 xupdjT%4 6.6.8非局部细化 115 @5@{Es1u 6.6.8.1非局部细化参数 115 7Sv5fLu2 6.7 我应该使用哪种技术? 116 x=r6vOj 6.7.1 细化 116 ?lna8]t 6.7.2 合成 117 !-o||rt 6.8 参考文献 117 YG+Yb{^" 7 导纳图及其他工具 118 \Nn%*?f 7.1 简介 118 H.S|njn:r 7.2 薄膜作为导纳的变换 118 E|}Nj}(* 7.2.1 四分之一波长规则 119 }z2-|"H 7.2.2 导纳图 120 %;B'>$O 7.3 用Essential Macleod绘制导纳轨迹 124 CxN@g' 7.4 全介质抗反射薄膜中的应用 125 T`DlOi]Z_ 7.5 斜入射导纳图 141 VrL>0d&d 7.6 对称周期 141 +|w~j#j9` 7.7 参考文献 142 2Rp{]s$jo 8 典型的镀膜实例 143 8@#Y
<{ 8.1 单层抗反射薄膜 145 #IJKMSGw?E 8.2 1/4-1/4抗反射薄膜 146 ng6p#F,3 8.3 1/4-1/2-1/4抗反射薄膜 147 Y##P9^zH1 8.4 W-膜层 148 -Af`AX 8.5 V-膜层 149 XD>@EYN<X 8.6 V-膜层高折射基底 150 z4UQ:z@ 8.7 V-膜层高折射率基底b 151 ! yUKNR 8.8 高折射率基底的1/4-1/4膜层 152 ]lG\t'R 8.9 四层抗反射薄膜 153 AiI# " 8.10 Reichert抗反射薄膜 154 *Bz& |