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    [技术]检查微型晶片的光学系统 [复制链接]

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    只看楼主 正序阅读 楼主  发表于: 2023-02-27
    成像系统>包括光栅 J|q_&MX/  
    x M[#Ah)  
    任务/系统说明 =+L>^w#6=  
    srkOa d  
    ]mh+4k?b  
    l{AT)1;^  
    亮点  zVa+5\Q  
    X[ (J!"+  
    c2f$:XiM  
    `7A@\Ha3  
     在复杂光学系统中,包含光栅(如,非常大的数值孔径(NA)) F&~vD  
     严格分析光栅衍射效率 *X-$* ~J0  
     考虑入射光的方向分布 )1,&YJM*6l  
    I$LO0avvH2  
    说明:光源 /{va<CL  
    rY= #^S  
    3Cl9,Z"&6$  
    5=986ci$U  
    说明:光束分束器 u\wd<<I']  
    OXB-.<  
    jayoARUB  
    :[39g;V}c  
    说明:检测透镜系统 g1|c?#fwo  
    {;/o4[jlg  
    _@;N<$&  
    k N+(  
    说明:微型晶片 "!?bC#d#(  
    ZM?r1Z4  
    K=)R!e8  
    H/&Q,9sU21  
    说明:检测物镜 -EaZ<d[|0  
    mg(56)  
    0Kk*~gR?  
    ]IV; >94[  
    说明:探测器 HWBom8u0  
    LH;G :  
    -c@ 5qe>  
    Qg!*=<b  
    结果:3D光线追迹(只有0级) J.l%H U  
    %5gJ6>@6Z  
    B_2>Yt"  
    >JOvg*a?"  
    结果:3D光线追迹(所有级) eHe /w9`$R  
    !e `=UZe1  
    9A(K_d-!H  
    UD`Z;F  
    结果:光线追迹 =[+&({  
    CF"3<*%x  
    ooSd6;'  
    x?'%  
    结果:场追迹 m!g8@YI  
    *XO KH+_u  
    VAE?={-  
    vq7%SEkES  
    结果:线性偏振光的场追迹 3+5\xRq  
    :q<%wLs  
    `kSCH; mwP  
     
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