[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 n Nt28n@  
5C Dk5B_  
jxog8E  
1MN!  
该用例展示了… 3^sbbm.8  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： en<~_|J  
倾斜光栅介质 8SGaS&  
体光栅介质 c[h~=0UtJ  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 n4K!Wv&u  
[X(4
( 1i  
/LD3Bb)O  
3!CUJs/W  
光栅工具箱初始化 UqP{Cyy{  
=oBpS=<7  
 ;l$$!PJ  
 初始化 |mEWN/@C  
开始-> MEDh  
光栅-> %* "+kwZ  
通用光栅光路图 ~>u.d  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 Vj*-E  
光栅结构设置 |+#Zuq  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 6nx\|F  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ]fyfL|(;  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 +jLy>=u  
jq+(2  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 D-gH_ff<]9  
vSgT36ZF  
堆栈编辑器 ]VI^
hhf  
28MMH Q  
@*6fEG{,q  
^m>4
<~/  
堆栈编辑器 1QoW/X'>.  
`Q@7,z=f  
n]4E>/\  
涂层倾斜光栅介质 nS+Rbhs  
UC!mp?   
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。
|L2>|4  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 ?cV,lak  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 '/d
51  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） xTHD_?d  
\nl(tU#j  
>xFvfuy
C  
}`tSRB7  
涂层倾斜光栅介质 `^M]|7  
? wS}'  
&o:5lxR{  
R/hf"E1  
涂层倾斜光栅介质 3jx%]S^z|  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 HbTVuf o
 
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 Bkcwl  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ({uW-%  
xl}rdnf}  
LmrdVSs_  
{:X'9NEE  
涂层倾斜光栅介质参数 {U5
sRM|I  
(v]%kXy/G  
y{<e4{ !  
:'%6
  
涂层倾斜光栅介质参数 g4?2'G5m?  
X~{6$J|]#i  
-U|c~Cqc  
-cgO]q+Oq  
高级选项&信息 ~1G^IZ6  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 RXgb/VR  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 LlTD =tJ0  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 i ;FKnK  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 E_,/)U8  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 V DF
gu  
E|O&bUMh  
N,~O+  
[,=?e  
高级选项&信息 sI>w#1.m/&  
 高级选项标签提供了结构分解的信息  s*uA3}j  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 rj4@  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 E7uIur=g!  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 >* -IIo  
'Ru(`" 1|  
M.}9)ho   
s:T%,xS  
高级选项&信息 UHl3/m7g  
oW^b,{~V  
9{Hs1MD[  
=z1Lim-  
高级选项&信息 [$y(>]~.  
h&"9v~  
vs@d)$N  
bZowc {!\  
体光栅介质 !I7$e&Uz@  
wE .H:q4&  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 h:Pfiw]  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 F^dJ{<yX  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 +t!]nE#  
y0%@^^-Ru  
d4y#n=HnnV  
(KQLh,h7  
体光栅介质参数 1?'4%>kp  
o/AG9|()4  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 e!u]l  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 )5|9EXh  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 T?3Q<[SmI  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） Nd(,oXa~  
@?B+|*cm  
}?[];FB  
V,r~%p  
体光栅介质参数 E,i^rAm  
. ,|C>^  
wNa5qp 0  
!j!w$  
高级选项&信息 jz!I +  
K^WDA]
)  
@A[)\E1  
6[m~xegG  
高级选项&信息 B
M :x`JY  
d1~#@6CIz  
K V5 '-Sv1  
"L>'X22ed  
在探测器位置处的备注 =,XCjiBeC  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 80nEQT y  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 HLyAzB~r  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 '#Wx@  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） TXImmkC  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 }Rh\JDiQ  
6uE20O<z]  
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