[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ^$=tcoQG  
T,WKoB  
Jm %ynW  
$AA~]'O>6:  
该用例展示了… ~IlF*Zz#}6  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： Hz]4AS  
倾斜光栅介质 `!nJS|  
体光栅介质 s-C!uq  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 vXyuEEe  
 's>#8;X  
S9HBr  
R%b*EBZ  
光栅工具箱初始化 G{NSAaD[  
rb:<N%*t  
cQ(}^KO  
 初始化 +X:J]-1)  
开始-> qnq%mwDeD  
光栅-> Hs"% S  
通用光栅光路图 v)@,:u)  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ;.ysCF  
光栅结构设置 1z~k1usRK  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 %bIsrQ
~B  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 Y
&vHOA  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 FOCoiocPi  
GA|/7[I}  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 8^/+wa+G  
 6
R;)  
堆栈编辑器 \npz.g^c_  
{q&@nm40  
DeOXM=&z  
Ro'jM0(KE  
堆栈编辑器 5%<TF.;-J  
koOyZ>  
 ?. zu2  
涂层倾斜光栅介质 XVQL.A7  
O.*jR`
l  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 T>#TDMU#Fm  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 +w "XNl  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 9v~1We;{$  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） ?VwK2w$&={  
"A%MVym."  
UhsO\9}qH  
z*6$&sS\>  
涂层倾斜光栅介质 fd4;mc1T  
RK?jtb=&A  
3PsxOb+  
a*Rz<08  
涂层倾斜光栅介质 fO*)LPen.z  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 y0,Ft/D  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 +x(YG(5\w  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 oG!6}5  
cX2$kIs;  
\WWG>OUh.U  
csYy7uzi  
涂层倾斜光栅介质参数 YVoao#!  
F4Rr26M  
Y|mW.  
I?^aCnU  
涂层倾斜光栅介质参数 ,1,&b_  
qtO1hZ  
nt7|f,_J  
{`a(Tl8V  
高级选项&信息 /K f L+"^|  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 V]Sgx00;  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 FtE90=$  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 +a-D#^2;  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 Qe_+r(3)k  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够  q$F)!&  
h{I`7X  
mxgqS
=`  
G(3;;F7"  
高级选项&信息 22z1g(;@  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 :WVSJ,. !  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 IAYACmlN&  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 1DUb [W8  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 @a0Q0M  
] @ufV  
#00D?nC  
QCWf.@n  
高级选项&信息 gSb,s [p&+  
0*/kGvw`i  
"v5ElYG  
rkq#7  
高级选项&信息 tj[c#@[B  
i0\)%H:z
 
6(Vhtr2(*  
RpYcD  
体光栅介质 8fh4%#,C%  
E:)Cp  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 )9B:Y;>)  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 w-ALCh8o
 
 同时，两个平面界面作为介质的边界 L/yaVU{aEb  
6|5H=*)DH  
KU]ok '  
4^[ /=J}  
体光栅介质参数 BKay*!'PX  
eeW`JG-E  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 h,t:]  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 <[ZI.+_Wt  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 QjJfE<h  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） 0\Y1}C  
nM8[  
s9i|mVtm8  
;}K62LSR  
体光栅介质参数 a~opE!|m  
N'QqJe7Z  
_w>uI57U  
p?JQ[K7i  
高级选项&信息 dw9Tf^V  
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doR4nRl9  
CW p#^1F  
高级选项&信息 /P:EWUf'  
Zj!Abji=O  
y^R4I_* z  
)c+k_;t'+  
在探测器位置处的备注 DZk1Z
Lz  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 Q+'nw9:;T  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 2"X~ju  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 ~8{sA5y  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） |55dbL$w  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 8{ gXToK  
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