[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 BF<ikilR  
1!gbTeVlY  
`~`k_7t.  
>dG[G>  
该用例展示了… e 3TI|e_  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： alvrh'51  
倾斜光栅介质
\'bzt"f$j  
体光栅介质 !0cD$^7  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 O8.5}>gDn.  
C2Tyoza  
bY0|N[g  
ZQ0F$J)2~  
光栅工具箱初始化 DDH:)=;z  
D5HZ2cz|a  
#Vha7  
 初始化 }AH] th  
开始-> uRr o?m<  
光栅-> ^`>/.gL  
通用光栅光路图 # 4PVVu<  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 IobD3:D8
W  
光栅结构设置 Y.r+wc]  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 C 6AUNRpl  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 Nu7 !8[?r*  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 u-5{U-^_  
d;}nh2*  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 > "=>3  
H DFOA  
堆栈编辑器 %-0t?/>  
KyQX!,rV  
qm o9G  
q#=(e:aCb  
堆栈编辑器 $H>W|9Kg,  
\)?HJ  
Eg3q!J&Z  
涂层倾斜光栅介质 'CkIz"Wd  
9j9TPyC/2  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 :A'y+MnK<  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 7s{GbU\  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 ?m?::R
H  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） Ak"m 85B  
r? E)obE  
s6^>F/x  
ah+iZ}E%  
涂层倾斜光栅介质 7Da`   
b?QoS|<e?  
lv+TD!b   
|2n4QBH!  
涂层倾斜光栅介质 @7j AL-  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 "u^H#L>-q  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 6MMOf\   
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 <T|3`#o0  
&AbNWtCV+G  
!NvI:C_4|  
oEKvl3Hz_  
涂层倾斜光栅介质参数 =.]4;z  
$6iX   
aH/ k
Ua  
X=fYWj[H,  
涂层倾斜光栅介质参数 Ks`J([(W&  
[;),\\u,d  
f5VLw`m}.8  
EVC]sUT  
高级选项&信息 GH:jH]u!V  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 D (?DW}Rqs  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 '=8d?aeF  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ofw3S|F6  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 *kDCliL  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 41?HY{&2  
UIN<2F_  
0Y{yKL  
9c,'k#k  
高级选项&信息 My[pr_xg  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 JL}_72gs  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 8_B4?` k  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 ywm8N%]v  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 .Una+Z  
s/ qYa])  
9BBmw(M}  
Eq9
x2  
高级选项&信息 peuZ&yK+"  
EPM
-df!=  
k(7&N0V%zz  
F {4bo$~>  
高级选项&信息 >T3-  
F]]]y5t  
&n}f?  
hwBfdZ  
体光栅介质 KD7dye  
&zeyE;/Hj  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 _w+:Dv~*a  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 V0.vQ/  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Wk4s reB  
Tc &z:  
u^bidd6JRn  
cyv`B3}  
体光栅介质参数 {Y=WW7:Qx  
1&evG-#<:  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 u9GQU  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 j94=hJVKi  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 ?;+1)>{  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） a /l)qB#  
lN?qp'%H`  
>j(_[z|v3  
~>Fu5i $i  
体光栅介质参数 "
H&W}N  
37 ,  
=9["+;\e&  
(%e.:W${  
高级选项&信息 Qu"\wE^.`  
JG!m
c7  
z.9U}F  
ith 3=`3  
高级选项&信息 K'Tm_"[u  
mPN@{.(j  
RJ ||}5  
O-~7b(Z  
在探测器位置处的备注 K>r,(zgVc  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 <+Dn8  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 l7259Ro~  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 Ym{tR,g7  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） EQyC1j  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 AOWmzu{zw  
% X+:o]T  
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