[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 6s@!Yn|?
 
b `P6Ox3  
f7&ni#^Ztj  
RuHDAJ"&a  
该用例展示了… MT{1/A;`)  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： ]3v)3Wp  
倾斜光栅介质 Hk}P  
体光栅介质 Ftyxz&-4$p  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 -RP{viGWK  
Z\0wQ;}  
3o rSk  
#VhdYDbW  
光栅工具箱初始化 /Z2u0jNArP  
{MtJP:8Jp  
c]*y
o  
 初始化 o6u^hG6~'  
开始-> 94!} Z>  
光栅-> {L$$"r,  
通用光栅光路图 "-:H$  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 }0&Fu?sP  
光栅结构设置 ndQw>  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 3ML^ dZ'  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 q>
%B @'  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 DcxT6[  
f#c}
}>V8  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 gYt=_+-  
m+M^we*R  
堆栈编辑器 UR^r>  
.nY}_&  
&DW !$b  
?<J~SF Tt  
堆栈编辑器 56Lxr{+X  
PVi;h%>Y  
Ifp8oL?S;  
涂层倾斜光栅介质 2H;#L`Z*  
[Vbdsu9  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 F*G]Na@6D  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 M[985bl  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 hrX/,D -c  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） b\\lEM>o1  
KEy8EB  
K7s[Fa6J  
GYtgw9 "Y  
涂层倾斜光栅介质 g8/ ,E-u  
8}BM`@MG  
+/_XSo  
SOPair <r  
涂层倾斜光栅介质 y=Eb->a){  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 _ow7E\70  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 zn/>t-Bc  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 /QB;0PrE  
a,fcK
e&B  
`\##M=  
_*z^PkH  
涂层倾斜光栅介质参数 fNda&  
pa^_D~  
BJ_"FG  
;pL!cG@  
涂层倾斜光栅介质参数 #HP-ne; #  
IPTFx )]G  
X#by Dg  
p! k~ufU  
高级选项&信息 |)d%3s\  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 M]%dFQ  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 pSAtn  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ?}KD<R  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 \R9izuc9  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 3;jxIo$,  
3{qB<*!p"G  
e)s l  
-~RGjx  
高级选项&信息 K#6@sas  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 HP7~Zn)c  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 P(-   
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 `'3&tAy  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 Z0M,YSnz  
GwA\>qXw  
#I MaN%  
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&nF>  
高级选项&信息 |Ch,C  
amExZ/  
3_9CREZCl  
HNc/p4z  
高级选项&信息 O46v  
;,uATd|  
{2Ew^Li  
-Ju;
i<  
体光栅介质 _B^X3EOc  
;xUo(^t7>  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Z0v?3v}9^  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 LN.*gGl  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Cb|1Jtb
 
o\><e1P  
$y.0h(  
@d^DU5ats>  
体光栅介质参数 vgDpo@fz8  
O8>&J-+2  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Jqgm>\y  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 G=Lg5`3;,  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 _E8Cvaob  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） m6^#pqSL  
d@$bPQQ$,  
+Q"~2_q5/;  
h-O;5.m-P  
体光栅介质参数 !Ea9 fe  
O#):*II`9  
av5a2r0W1  
 y<m[9FC}  
高级选项&信息 z`$c4p6G6  

VR1[-OE  
'Q7^bF^  
8lDb<i  
高级选项&信息 $B<:SuV#  
IsJx5GO  
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8WI@]1F  
9c*B%A8J  
在探测器位置处的备注 MwQ4&z#wh  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 Y-st2r[,  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 Qm*ZOz'i  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 ~#P]NWW%.  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ux!YVvTPd  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 |v : )9  
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