[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 n^3NA|A  
-(|7`U  
1NB2y[  
)+VHt  
该用例展示了… c g3Cl[s  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 5n-9#J$  
倾斜光栅介质 0#2T0zk  
体光栅介质 &! 5CwEIF  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 JsHxQ0Tw  

d8VWi*  
V7Vbl?*n  
A?^A
*e  
光栅工具箱初始化 & bp#1KR)  
~pDRF(  
8N</Yi|n  
 初始化 >;T$#LZ  
开始-> .eZPp~[lAN  
光栅-> p=#'B*'w  
通用光栅光路图 &/z
+A{Hi  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 g]oc(RM  
光栅结构设置 /gMa"5?,  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 .rD#1)O  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 #3 }5cC8_  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 ?[a7l:3-[  
`!5tH?bX  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 UeutFNp  
P'FPe55F  
堆栈编辑器 Y`E{E|J  
>llwNT  
S|O%h}AH;  
J7 Oa})-+'  
堆栈编辑器 Lqz}&A   
8iII)+  
@ ~0G$  
涂层倾斜光栅介质 v#T?YK  
cP$wI;P  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 k:(e79  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 p4<M|1Z&  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 OXa5Jg}=  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） UeK,q>i  
0k.#  
2\$WP-)%  
gz)wUQ|W  
涂层倾斜光栅介质 h>mBkJ {  
g9grfN  
Ot4;,UZ  
=F!",a~  
涂层倾斜光栅介质 !z"a_  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 ^bY^x+d  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 7#~m:K@  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 |P[D2R}  
l{D,O?`Av  
b>>=d)R  
NL>[8
#  
涂层倾斜光栅介质参数 sEgeS9a{  
}.Na{]<gh  
] _]6&PZXk  
OJC*|kN-#^  
涂层倾斜光栅介质参数 Jte:l:yjtA  
[/#k$-  
ki][qvXJ  
nw]e_sm  
高级选项&信息 !m/Dd0  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 k:HSB</}  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 aLyhxmn ^)  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ]Pg?(lr6)  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 NIXcib"tG  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 qkR,<"C|`  
VES4x%r=  
#k|g9`  
l52n/w#qFB  
高级选项&信息 >sl1 cC  
 高级选项标签提供了结构分解的信息
C\hZ;Z1  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 uN?O*h/(  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 8d*<Aki?;  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ?#{2?%_  
4d3]pvv  
4-
?`#  
( _F  
高级选项&信息 w|UKMbRMU]  
Stp*JU  
GXvo't@N  
Wp~4[f`,  
高级选项&信息 KohQ6q  
%>*0.)wG  
I5<#SW\a?  
D*2
p  
体光栅介质 LZAj4|~,m  
77bZ  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 !kk %;XSZ  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 @x>$_:]  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Q17o5##x7  
576-X_a,  
i!+3uHWu`)  
JI#Enh!Lv  
体光栅介质参数 c%,6L<[  
HZQ3Ht3Vh  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 zZjLt1  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 {p_vR/yN  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 :\= NH0M  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） uP'w.nA&2  
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ZUG  
=K<I)2   
+Gwe%p Q  
体光栅介质参数 nJ0eZBgB]  
`/j|Rb|eow  
Dqcu$V]  
E1 gTrMo  
高级选项&信息 DP'Dg /D  
3[O =2  
#WmAkzvq  
N(/<q
v  
高级选项&信息 )Ai%wCzw*  
R{y{
  
[q{Txe  
Y>!W&Gtu  
在探测器位置处的备注 e8uIh[+ 0  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 TOF62,
 
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 .p*D[o2 9  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 $=QO_t)?  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） NF.6(PG|  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ,(kXF:  
7a_n\]t465  
}Z$G=;3#