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    [技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

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    只看楼主 倒序阅读 楼主  发表于: 2023-02-20
    光栅结构广泛用于多个应用,如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法(FMM),VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中,通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的,可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中,解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 BF<ikilR  
    1!gbTeVlY  
    ` ~`k_7t.  
    >dG[G>  
    该用例展示了… e 3TI|e_  
     在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构,如: alvrh'51  
    倾斜光栅介质 \'bzt"f$j  
    体光栅介质 !0cD$^7  
     如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 O8.5}>gDn.  
    C2Tyoza  
    bY0|N[ g  
    ZQ0F$J)2~  
    光栅工具箱初始化 DDH:)=;z  
    D5HZ2cz|a  
    # Vha7  
     初始化 }AH] th  
    开始-> uR r o?m<  
    光栅-> ^`>/.gL  
    通用光栅光路图 # 4PVVu<  
     注意:对于特殊类型光栅的使用,如体光栅,可以直接选择特定的光路图 IobD3:D8W  
    光栅结构设置 Y.r+wc]  
     首先,需要定义基底(底座)材料和厚度 C 6AUNRpl  
     在VirtualLab中,光栅结构在所谓的堆栈中定义 Nu7 !8[?r*  
     堆栈可以固定到基底的一边或两边 u-5{U-^_  
    d;}nh2*  
     这个例子中,第一个界面上的堆栈已经选中 > "=>3  
    H DFOA  
    堆栈编辑器 %-0t?/>  
    KyQX!,rV  
    qm o9G  
    q#=(e:aCb  
    堆栈编辑器 $H>W|9Kg,  
    \)?HJ  
    Eg3q!J&Z  
    涂层倾斜光栅介质  'CkIz"Wd  
    9j9TPyC/2  
     在目录分类“LightTrans定义”中,可以找到涂层倾斜光栅介质。 :A'y+MnK<  
     这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 7s{GbU\  
     在这个例子中,由熔融石英制成的光栅(具有含铬的涂层)位于玻璃基质上 ?m? ::RH  
     在堆栈编辑器视图中,不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示(暗色意味折射率高) Ak"m 85B  
    r? E)obE  
    s6^>F/x  
    ah+iZ}E%  
    涂层倾斜光栅介质 7Da`   
    b?QoS|<e?  
    lv+TD!b   
    |2n4QBH!  
    涂层倾斜光栅介质 @7j AL-  
     堆栈周期允许控制整个配置的周期 "u^H# L>-q  
     该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 6MMOf\   
     在简单光栅结构的案例中,推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 <T|3`#o0  
    &AbNWtCV+G  
    !NvI:C_4|  
    oEKvl3Hz_  
    涂层倾斜光栅介质参数 =.]4;z  
    $6iX   
    aH/ k Ua  
    X=fYWj[H,  
    涂层倾斜光栅介质参数 Ks`J([(W&  
    [;) ,\\u,d  
    f5VLw`m}.8  
    EVC]sUT  
    高级选项&信息 GH:jH]u!V  
     在传输菜单中,多个高级选项可用 D (?DW}Rqs  
     传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 '=8d?aeF  
     可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ofw3S |F6  
     这可能是有用的,如果考虑金属光栅 *kDCliL  
     相比之下,在电介质光栅中,默认设置已经足够 41?HY{&2  
    UIN<2F_  
    0Y{yKL  
    9c,'k#k  
    高级选项&信息 My[pr_xg  
     高级选项标签提供了结构分解的信息 JL}_72gs  
     层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化,默认设置适用于几乎所有的光栅结构 8_B4?` k  
     更多地,提供了关于层数和过渡点的信息 ywm8N%]v  
     分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述,折射率由颜色尺度描述 .Una+Z  
    s/ qYa])  
    9BBmw(M}  
    Eq9x2  
    高级选项&信息 peuZ&yK+"  
    EPM-df!=  
    k(7&N0V%zz  
    F {4bo$~>  
    高级选项&信息 >T3-  
    F]]]y5t  
    &n}f?  
    hwBfdZ  
    体光栅介质 KD7dye  
    &zeyE;/Hj  
     另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 _w+:Dv~*a  
     界面允许配置折射率的调制,这由全息曝光产生 V0.vQ/  
     同时,两个平面界面作为介质的边界 Wk4s reB  
    Tc &z:  
    u^bidd6JRn  
    cyv`B3}  
    体光栅介质参数 {Y=WW7:Qx  
    1&evG-#<:  
     为了描述体光栅,VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 u9GQU  
     首先,需要选择全息介质,这提供了初始折射率 j9 4=hJVKi  
     其次,折射率调制的周期和取向由入射角(α)和信号波的参考波长控制 ?; +1)>{  
     更多地,根据入射角引入量化的波矢空间,数值计算量可以显著的减少(也可以查阅更多关于体光栅的文件) a /l)qB#  
    lN?qp'%H`  
    >j(_[z|v3  
    ~>Fu5i $i  
    体光栅介质参数 " H&W}N  
    37 ,  
    =9["+;\e&  
    (%e .:W${  
    高级选项&信息 Qu"\wE^.`  
    JG!mc7  
    z.9U}F  
    ith 3 =`3  
    高级选项&信息 K'Tm_"[u  
    mPN@{.(j  
    RJ ||}5  
    O-~ 7b(Z  
    在探测器位置处的备注 K>r,(zgVc  
     在VirtualLab中,探测器默认位于空气中基底的后面 <+Dn8  
     如果光栅包含在复杂的光学装置中,这是必要的 l7259Ro~  
     然而,完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应,这在现实中不会发生 Ym{tR,g7  
     因此,对于合理的光栅效率的计算,在基质材料中设置探测器是合适的(正如大多数光栅评估软件) EQyC1j  
     这避免了这些干涉效应的不必要的影响 AOWmzu{zw  
    % X+:o]T  
    eJVjuG  
     
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