[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 lbAhP+B  
s\;/U|P_  
=Dq&lm,n  
rel
t7sK  
该用例展示了… 8ao-]QoMZ  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 5_;-Qw  
倾斜光栅介质 6M >@DRZ'|  
体光栅介质 5sT3|yq  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 9rMO=  
5GM-*Ak@  
:K6JrS  
Yj@Sy  
光栅工具箱初始化 aZb\uMePK  
zP,r,ok7  
,ucRQ&P  
 初始化 G[>
NP#P  
开始-> (u&x.J  
光栅-> lEHx/#qt9  
通用光栅光路图
Z<;W*6J  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 "J"=<_?  
光栅结构设置 1b%Oi.;  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 EnWv9I<  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 w1tM !4r  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 /wLBmh1"  
`E$vWZq}  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 TLsF c^X  
f8;?WSGyD2  
堆栈编辑器 PZ|I3z  
LTe ({6l0  
t$$YiO  
T_D3WHp  
堆栈编辑器 r]!#v{#.  
Uoe{,4T  
xq((]5Py  
涂层倾斜光栅介质 "OenYiz  
{IgH0+z  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 8JY0]G6  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 JN/=x2n.  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 t"4* ]S  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） WAxNQfEe  
S($/Ov  
.aT@'a{F  
;<M}ZL@m  
涂层倾斜光栅介质 "%Ok3Rvv  
{d.z/Buu  
A^,E~Z!x  
ui>jJ(  
涂层倾斜光栅介质 2jyWkAP'  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 &<;T$Y  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 vQ}ZfP  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率  @*eY~  
B/;>v  
[_JdV(]$  
`TPIc  
涂层倾斜光栅介质参数 q5_zsUR=  
&{? M} 2I  
;8^k=8  
=_`q;Tu=  
涂层倾斜光栅介质参数 jQV[zcM  
n}UJ-\$  
xfeED^?  
VZt%cq  
高级选项&信息 mS'Ad<  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 ^UKAD'_#%O  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 C7dq=(p&  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 hV(^Y)f  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 3JGrJ!x  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ',R%Q0Q  
&)OI
!^ (  
bN/8~!  
IB&G#2M<  
高级选项&信息 7"'RE95  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 Zp7Pw  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 9jjeZc'  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 JH\:9B+:L  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 )xy>:2!#Y  
rci,&>L"  
Rj";?.R*e  
GM2}]9  
高级选项&信息 b\0>uU  
Z5'^81m$o  
2VY7?1Ab(@  
mI7lv;oN<5  
高级选项&信息 hZ1enej)  
/''=V.-N  
)!-gT  
y-26\eY^P  
体光栅介质  skl3/!  
}W'j Dz7O  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 +UDt2  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 5! );4+  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Zy+ERaF|]  
F{jxs/~  
F9eEQ{L  
c~tl0XU1  
体光栅介质参数 %w^*7Oi  
:O413#8  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ?TpjU*Cxy  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 }OEL] 5  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 ]6M<c[H>  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） OpaRQ=  
e$s&B!qJ  
kqKT>xo4EZ  
1*p6UR&  
体光栅介质参数 _h<rVcl!wX  
x[lIib
1s  
z6U'"T"a  
`n>|rd  
高级选项&信息 ^>an4UJt  
`F/R:!v  
KS8@A/f  
kKlNhP(  
高级选项&信息 ufk2zL8y  
nT> v  
l1T`[2  
MxpAh<u!vF  
在探测器位置处的备注 C"kfxpCi  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 )K?7(H/j  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 G4c@v1#%.  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 #qVTB@d  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） /4(HVua  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 bhpaC8|  
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