[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 7eY*Y"GX  
V&gUxS]*  
>:s:`Au  
Lz4iLLP  
该用例展示了… \2T@]!n  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： 7;Wj^#  
倾斜光栅介质 1w35H9\g  
体光栅介质 Ek84yme#  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 LJT+tb?K  
Yu'lD`G  
G.9?ApG9  
.L8S_Mz  
光栅工具箱初始化 {&3n{XrF(  
kfn5y#6NZ  
z}Xn>-N-  
 初始化 "8s0~[6S  
开始-> wAITE|H<zj  
光栅-> )wAqaG_d  
通用光栅光路图 b"p,~{  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 ?QZ\KY  
光栅结构设置 ~v2_vEu}JX  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 bd9]'
  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ^>[Z~G($  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 @>JO &,od  
@ %kCe>r  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 sz_|py?0  
ppS,9e-  
堆栈编辑器 c8#A^q}  
ze]2-
B4  
'AHI;Z~Gk  

D guAeK  
堆栈编辑器 ,xNuc$8Jd  
Qu!Lc:oM?  
>lRX+?  
涂层倾斜光栅介质 @2]_jW  
lQldW|S>  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ?%F*{3IP  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 {p+7Q
lgK  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 10{ZW@!7  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） JZ'`.yK:  
MWu67">"  
}h>QkV,{2  
GAV|x]R  
涂层倾斜光栅介质 2vT>hC?oHz  
-Y{P"!p0  
"^yTH/m  
xn}sh[<:P  
涂层倾斜光栅介质 -ZBk^p  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 Xh;Pbm|K  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 94LFElE3  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 ._Wm%'uX  
noV]+1#"V  
zaf%%  
I HgYgn  
涂层倾斜光栅介质参数 $xJVUV  
"8>*O;xk  
kTt;3Ia  
dr'#  
涂层倾斜光栅介质参数 '/G.^Zl9  
P'xq+Q  
x~rIr#o  
G
BV]7.  
高级选项&信息 ggIz)</  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 IMpEp}7  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 |W<wPmW_{+  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 fE8/tx](  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 y4^6I$M7V  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 Tj$D:xKf)  
/{#1w\  
"WV]| TS"]  
a`|&rggN  
高级选项&信息 bzz=8n  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 FhVi|Va  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 wK!4:]rhG  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 ]W-l1  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 *+{umfZy  
$fR[zBxA  
S;[9 hI+  
R-+k>_96|  
高级选项&信息 +q[puFfl  
<E[X-S%&  
*"2TT})  
sg RY`U.C  
高级选项&信息 yS%IE>?  
-SnP+X!  
I@76ABu^  
(sSMH6iCif  
体光栅介质 *_ {w0U)  
VC,wQb1J/  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质  df;-E  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 Rs_bM@  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 tQ=M=BPZ  
BuII|j  
}@>=,A4Y  
/"Ws3.p  
体光栅介质参数 {B8W>>E  
u|t<f`ze  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Rrmk\7/  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 LT']3w  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 {PZNJ 2~  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） t=J WD2  
eAR]~ NiW  
9&a&O Z{  
%9Br  
体光栅介质参数 xFvDKW)_X7  
m08:EXP  
z'OY6  
UT!gAU  
高级选项&信息 b.V\EOk  
jp?;8rS3  
T5(]/v,UT  
MW*@fl<@?M  
高级选项&信息 ,*ZdMw!  
A82Bn|J  
,5J-
C!C  
SUwSZ@l^|  
在探测器位置处的备注 s8 S[w   
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 xLhN3#^m  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 =g|e-XC  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 ~$xLR/{y  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） #~<cp)!3  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 e%.Xya#\  
r:Uqtqxh  
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