[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ?~Ed n-"Y  
Lm{ o=v  
2y7q x1$C  
<({eOh5N  
该用例展示了… VdOd:w  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： h>%JG'DV  
倾斜光栅介质 `LU,uz  
体光栅介质 ;<@O^_+  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 %R"/`N9R,  
#R PB;#{  
zwrZ^  
GO3YXO33  
光栅工具箱初始化 "#k(V=y  
#*M$,ig  
<
~X6D?  
 初始化 cH-
Zj  
开始-> PW<wjf,rQ  
光栅-> RWQW/Gwx  
通用光栅光路图 % P)}(e6y  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 "wC5hj]  
光栅结构设置 VEEeQy
  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 TXl9c6  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 `gs,JJ6N  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 i4r~eneP
 
@N{Ht)1r  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 DmPsltpzQ  
1O7ss_E  
堆栈编辑器 kj=2+)!E7  
Du4#\OK  
F X2
`p_  
Ol[IC  
堆栈编辑器 =xet+;~ji  
&Q+V I/p  
#p`7gFl  
涂层倾斜光栅介质 QaBXzf   
/iuNdh  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 bK1`a{  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 @}!$NI8  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 qM !q,
Q  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） h*Tiv^a  
!`=?<Fl  
!I/kz }N@  
pdiZ"pe  
涂层倾斜光栅介质 rO%+)M$A  
E8<i PTJs  
tp2 _OQAQ  
X6'&X  
涂层倾斜光栅介质 <!>}t a  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 'B6H/d
>  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 2wsZ&y%  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 x,_Ucc.  
1&"1pH  
K(<P" g(  
}TL"v|ny6;  
涂层倾斜光栅介质参数 bM3e7olWS  
R\amcQ 9  
xyz86r ^u  
^D[;JV  
涂层倾斜光栅介质参数 iH0c1}<k$  
<);u]0
  
CI'5JOqP  
h!~yYNQ"  
高级选项&信息 >@uYleD(  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 [1CxMk~"[  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 TaT&x_v^~a  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 { rn~D5R  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 )D*xOajo+l  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ?3N86Qj  
s%|J(0  
V'/%)oU\"  
R"([Y#>m  
高级选项&信息 sTyGi1  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 v4aGL<SO  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 Z U
v_u6aD  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 b] V=wZ o  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 @7'gr>_E  
[?*^&[  
IPR396J+-  
>,vuC4v-  
高级选项&信息 jqedHnx  
r |/9Dn%  
h
+(s/o?\  
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高级选项&信息 _P1-d`b0 a  
|D:0BATRP  
w2[
R&hJ  
iX p8u**  
体光栅介质 {*9i}w|2  
K? k`U,
 
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 EMbsKG  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 t+ ]+Gn  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 S(l^TF  
{o`5&EoM  
^pa).B.`T  
g*M3;G  
体光栅介质参数 ;@hP*7Lm  
$h9!"f[|j  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Rw`s O:eZ  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 H l@rS  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 M(f'qFY=K  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ><qE5D[  
v%^H9aK_  
QCw<* Id+  
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体光栅介质参数 *TkABUL  
]\lw^.%  
Nfh(2gK+  
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高级选项&信息 H<"j3qt  
a\MJbBXv  

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t {}1f  
高级选项&信息 psVRdluS   
O"Q=66.CR  
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M$7/  
OHw6#N$\  
在探测器位置处的备注 xj<SnrrC]u  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 w[&BY  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 VbYapPu4b!  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 )LG/n  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） X(\RA.64  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 SEmD's  
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