[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 'MKkC(]4  
/:>f$k4~h  
9bjjo;A  
x]%e_  
该用例展示了… DLE|ctzj[7  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： a
Kaqi}IT  
倾斜光栅介质 ~BCSm]j  
体光栅介质 
7\^b+*  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 gcr,?rE<  
E66e4?"  
?PWD[mQE\  
xMtl<Na   
光栅工具箱初始化 MxxYMR  
NTiJEzW}  
A<iF37.  
 初始化 ?[Q;275  
开始-> H;,cUb  
光栅->  D@qq=M  
通用光栅光路图 r6]r+!63"  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 mKZ?H$E%%  
光栅结构设置 V~5vVY_HG&  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 aEX;yy*  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 [7]p\'j  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 Kv+E"2d  
5d|*E_yu  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 {a_=4a  
HhNH"b&  
堆栈编辑器 5<4njo?k  

}*$-rieg  
[?W3XUJ,Y  
m&,
d8Gss^  
堆栈编辑器 /'E+(Y&:J  
e}/c`7M  
BmUEo$w  
涂层倾斜光栅介质 Gyy:.]>&  
PK3)M'[  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 n_v c}ame  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 0"u*Kn  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 bEbO){Fe  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） a%ec:
%  
M6AQ8~z  
*~4uF  
GfQMdLy\Z  
涂层倾斜光栅介质 D.qbzJz  
S~YrXQ{_>-  
 ceVej'  
&Z=}
H0y q  
涂层倾斜光栅介质 w[PW-m^`  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 [$.oyjd  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 ~,R_  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 .IpwTke'  
k4pvp5}%  
RZ
|s[bU  
bLu6|YB  
涂层倾斜光栅介质参数 '4HwS$mW3  
4s`*o/it  
0g]ABzTn  
L4.yrA-]C%  
涂层倾斜光栅介质参数 Js^ADUy  
)^%,\l-!  
PhKJ#DRbr  
JEY%(UR8  
高级选项&信息 3dadeu^{A  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 QHMXQyr(  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 6xnJyEQUM  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 q7 Uu 8JXF  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 9]NsWd^^  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 /;HytFP  
qK|r+}g|&  
 +tfmBZl^  
?{_dW
=AQ1  
高级选项&信息 \jq1F9,  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 .h~)|"uzW  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 zRvYN  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 J9poqp@`MG  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 9IMRWtZWT  
22tY%Y9  
;1{S"UY  
IA8kq =W  
高级选项&信息 z_JZx]*/  
4pA<s-  
wZfR>|f  
:Oq!.uO  
高级选项&信息 |r0j>F
 
 Kn\Oj=4  
C6'[Tn  
 PJkMn  
体光栅介质 1`aFL5[0$  
ml?+JbLg0  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Mqw&%dz'_  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 '^Sa|WXq  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 y"@~5e477$  
A FfgGO  
;C{2*0"H|  
IHxX:a/iv  
体光栅介质参数 <PV @JJ"  
[&+wW  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 4,$x~m`N  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 B>?. Nr  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 6"_FjS3Sl  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ;PS[VdV  
/-BplU*"9  
p[Q
   
{Qw,L;R  
体光栅介质参数 $: Qi9N
 
FpW{=4yk  
!(SaE'  
GVEjB;  
高级选项&信息 II~D66 bF  
aYPzN<"%  
I"@5=m5  
yRvq3>mU  
高级选项&信息 W&bh&KzCW  
||Lqx#e=  
(5G^"Srw  
pOH_ CXw  
在探测器位置处的备注 M6 0(yTm  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面
Pi+,y  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 +8BH%f}X  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 j/^0q90QO  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） !Rsx)  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 &N
Glkn  
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