[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 Qb<i,`SN  
)9F-h8 &"  
wBZ=IMDu\  
LVKvPi  
该用例展示了… -
V0_%Smc  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： r(;oDdVc  
倾斜光栅介质 !.1oW
(  
体光栅介质 rx2?y3pv  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 6"fYSn>  
85CH% I#  
nMXk1`|/)x  
pgbm2mT9  
光栅工具箱初始化 mM&Sq;JJ;  
m;-FP 2~  
CXt9 5O?  
 初始化 Qt`hUyL  
开始-> +GCN63nX  
光栅-> O b'B?  
通用光栅光路图 y4*i V;"  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 su;u_rc,  
光栅结构设置 xi['knUi2-  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 Pyh+HD\  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 zh`!x{Z?^  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 ~C[p}MED  
6. N?=R  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 eewhT^  
'%Og9Bgd+  
堆栈编辑器 e RY2.!  

Mo?eVtZ  
!5,>[^y3  
;1qE:x}
'H  
堆栈编辑器 DfYOGs]@  
:})(@.H  
Ku;|Dz/=o  
涂层倾斜光栅介质 hOYm =r  
9/A$3#wF  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 (Z:(f~;  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 EWOS6Yg7  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 W\]bh'(  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 'Cv,:Q  
+m?;,JGt  
}/tT=G]91  
o95)-Wb  
涂层倾斜光栅介质 d4ANh+}X"_  
z4t.-9(C  
[/dGOl+  
?%RAX CK  
涂层倾斜光栅介质 fP 1V1ao  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 $+(Df|)  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 [zXKS|  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 '{]1!yMh  
UN ;9h9  
1.S7MSpTV  
J%VcvBaJm  
涂层倾斜光栅介质参数 a=ye!CN^  
wyzx9`5~d  
}YV,uJH[  
SCwAAE9s]  
涂层倾斜光栅介质参数 ~ZrSoVP=  
0e./yPTT  
i4<&zj})  
b1+6I_u.  
高级选项&信息 Z_b^K^4  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 4%!
#=JCl  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 :r4]8X-
 
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 nP]tc  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 )1CYs4lp  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ~kDR9s7  
:TU|;(p   
$'Pn(eZHGv  
^b{-y  
高级选项&信息 Wp2W:JX:  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 $ghAC  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 n oW
jZ  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 0[A4k:  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 9NUft8QB  
By3y.}'Ub9  
P:~Xaz\F  
}s*H|z  
高级选项&信息 w$5~'Cbi  
J#k3iE}  
'*4>&V.yX  
$O
\I9CGr$  
高级选项&信息 0^%\! Xxq  
@.rVg XE=!  
g(X-]/C{  
r'TxYM-R  
体光栅介质 (~59}lu~  
\VL_  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Z)JJ-V!  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 Kmk}Yz  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 #sHA!@ |  
0LX"<~3j  
?nVwT[  
5,Q3#f~!  
体光栅介质参数 $ 12mS  
B/:
+(|  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 h;q=<[h\  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 g&79?h4UXQ  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 tYe+7s  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） g]fdsZv  
8Ce|Q8<8]  
UxGr+q  
0n FEPMO  
体光栅介质参数 jb~W(8cj  
O }ES/<an  
>M}\_c=  
T9s$IS,  
高级选项&信息 sl5y1W/]]  
FJ/>=2^B  
PZT]H?  
*\-R
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高级选项&信息 ZsgJ6 Y  
nZ4JI+Q)~  
4$5d*7  
?&ow:OH+  
在探测器位置处的备注 >AtW  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 c `[,>  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 #!A'6SgbkM  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 f*Xum[  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） ^#6"d+lp  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 |b BA0.yS  
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