[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 ;t6)(d4z?  
ENoGV;WG  
eKpWFP0  
dWKjVf  
该用例展示了… #bIUO2yVo  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： su2|x  
倾斜光栅介质 :8( "n1^  
体光栅介质 {HF,F=W  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ZMp5d4y5  
lftT55Tki  
XC*!=h*  
76IjM4&a  
光栅工具箱初始化 IA6,P>}N  
62s0$vw  
T:<mme3v  
 初始化 %imI.6  
开始-> Fu%D2%V$/  
光栅-> |$^a"Yd`9  
通用光栅光路图 D MzDV_  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 {7F?30: ]  
光栅结构设置 $u"*n\k>  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度  b79z<D  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 1uwzo9Yg  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 `4Db( ~
  
xZE%Gf_U  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ?z{Z!Bt?=)  
5~!&x@  
堆栈编辑器 pw, <0UhV  
_6Z}_SiOl  
.\rJ|HpZ1J  
S\jIs[Dz  
堆栈编辑器 |'+ [ '  
R?Ys%~5  
(_ TKDx_  
涂层倾斜光栅介质 "e;wN3/bF  
WH

krd8  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 C@F3iwTtp  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 &sA@!  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 =@\Li)Y  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） -dO9y=?t  

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&al\8  
涂层倾斜光栅介质 znq/ %7  
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4*9WxhJ ]0  
涂层倾斜光栅介质 <c!I\y  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 C<B1zgX  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 w+Oo-AGNH  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 X"fSM #  
x7!YA>  
Y'9<fSn5&  
D//uwom  
涂层倾斜光栅介质参数 egHvI&w"o  
iS#m{1m$$  
i-W!`1LH'  
~=Q|EhF5  
涂层倾斜光栅介质参数
_[p@V_my  
JANP_b:t  
Op 0Qpn  
EG oe<.  
高级选项&信息 #- z(]Y,y  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 *
#&s+h,^  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 Z.{r%W{2  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 R2B0?fu  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 jHx)q|2\  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 1 GB  
Zt{\<5j  
$?Yw{%W  
Q"D%
xY  
高级选项&信息 ^hIKDc!.m  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 yq,%ey8  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 O ]Stf7]%;  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 K4|{[YpPB  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 j87IxB?o  
RxrUnM
F  
0Ik}\lcn  
&-B&s.,kj  
高级选项&信息 6~y7A<[^  
P;~P:qKd  
z<Y >phc  
Xw<5VIAHm;  
高级选项&信息 +ug[TV  
qcdENIy0b  
dq U.2~9  

|vf /M|  
体光栅介质 EC0M0qQ  
v>]^wH>/"  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 eF%
IX  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 p}{V%!`_  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 B9Z=`c.T  
B'` jdyaE9  
8
C4=f  
.|Bmg6g*  
体光栅介质参数 HZ.Jc"+M  
Q{))+'s2h  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 ].,TSnb  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 y+D"LeCAad  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 `h+1u`FJ  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） G?&T0  
YTo^Q&  
x|oa"l^JZ"  
JJn+H&[B  
体光栅介质参数 _Sxp|{H0  
9e xHR&>{  
kn1+lF@  
9b}AZ]$  
高级选项&信息 nM,5KHU4a  
?=lnYDj  
lS:R##  
Vy:MK9U2  
高级选项&信息 \mt>R[  
5NECb4FG  
K`d3p{M  
=P"Sm r  
在探测器位置处的备注 p<9e5`&I  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 /|. |y S9  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 #:?MtVC  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 bk#t+tuk  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） 8;r7ksE~  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 =*u:@T=d5  
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