[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 P7 8uq  
9&(.x8d,a  
L`[F~$|  
ZPYH#gC&T  
该用例展示了… Ij$)RSPtH  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： l-=e62I{=|  
倾斜光栅介质 t|".=3%G  
体光栅介质 9<qx!-s2rr  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 | W?[,|e  
./!KE"
!  
'WnpwY  
*C/KM;&  
光栅工具箱初始化 g!5#,kJM  
ULbP_y>(Y  
O &\<FT5  
 初始化 7`+UB>8  
开始-> .ftUhg  
光栅-> /^QFqM;  
通用光栅光路图 \"bLE0~  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 eb7UoZw  
光栅结构设置 q]?+By-0  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 ?7 X3P  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 I,z"_[^G  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 }amE6  
dff#{  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 'T{pdEn8u  
JSUzEAKe  
堆栈编辑器 tQCj)Ms'X  
p|;o5j{  
(aBP|rxg  
YL!oF^XO  
堆栈编辑器 W-!dMa  
rOhA*_EG  

kz|[
*%10  
涂层倾斜光栅介质 Z_!9iA:X  
=/f74s t  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 OT"lP(,  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 n_ OUWvs  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 2O^32TdS  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） 3dY6;/s  
1(D1}fcul  
L;kyAX@^  
=1_jaDp  
涂层倾斜光栅介质 H.f9d.<W%  
q w"e0q%)  
6l=M;B7:i  
OHQ3+WJ  
涂层倾斜光栅介质 -1#e^9Ve\  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 X^9t  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 jeyaT^F(   
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 Z|f^nH#-C  
X{4xm,B/  
_GRv  
WJP`0f3  
涂层倾斜光栅介质参数 #0xm3rFy4  
s'_$j$1  
V}p*HB@:  
C3^X1F0  
涂层倾斜光栅介质参数 $d
5&~I  
69[w/\  
o(vZ*^\  
,[+ZjAyG}#  
高级选项&信息 A/r;;S)%2  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 T9,lblUQ  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ;o&_:]S  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 P2s^=J0@  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 InTKdr^ P  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 7ZrJ#n8?ih  
q|m#IVc  
hnlU,p&y3  
:6qUSE  
高级选项&信息 !hpTyO+%  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 qM+!f2t  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 9p!dQx  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 *NKC\aV`0  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 a .B\=3xn  
t(Cq(.u`:  
bt.K<Y0  
ZzwZ,(  
高级选项&信息 3RG/X  
*m2d#f  
ant-\w>}  
.T[!!z#^  
高级选项&信息 M}{n6T6B  
\:18Uoe7  
C]{V%jU  
o
QKcGUZ  
体光栅介质 \3 O-}n1S  
Bil;@,Z#  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 K[Ws/yc^a  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 6-Vl#Lyb  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 `-E.n'+  
Fb$5&~d  
AX^3uRQJ  
c9/ 'i  
体光栅介质参数 A@lhm`Aa  
?Ix'2v  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 :ok!,
QN  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 j/; @P  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 ;nHo%`Zt  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） r[i~4N=  
"J0Oa?  
MWp\D#H  
$e^ :d  
体光栅介质参数 (h8hg+l o  
XJV3oj  
Uzm[e%/`  
"m\UqQGX  
高级选项&信息 t8wz'[z  
9x 6ca  
dk, I?c&  
QL|:(QM  
高级选项&信息 _mq*j^u,j  
2*UE&Gp  
*X=f  
a5Acqa  
在探测器位置处的备注 xaq=?3QOH  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 jd*%.FDi{  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 .w*{=x0k  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 %V" +}Dr  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） [F9KC^%S  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 =6q*w^ET  
emDvy2uA#  
v"?PhO/{=