[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 T-=sC=sS,  
r4}:t$  
~+VIELU<%  

 D7%`hU  
该用例展示了… [YT"UVI  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： u1yc  
倾斜光栅介质 + M2|-C  
体光栅介质 XUUl*5^  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 &6/# O  
[guJd";  
M*)}F  
zJ42%0g  
光栅工具箱初始化 3=!\>0;E-  
&3VR)Bxn  
]}/LNO*L"  
 初始化 I:s#,!>  
开始-> Bb];qYuCO  
光栅-> 4LYeacL B  
通用光栅光路图 YPAMf&jEF  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 DSyfF&uC  
光栅结构设置 P@'<OI  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 |$`LsA.  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 %&bO+$H3  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 wy&s~lpV,7  
=iy%;>I`  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 ^9eJ)12pK  
R;6(2bTN6  
堆栈编辑器 vukI`(#  
H kDT14 `&  
QK-_~9V  
}<w/2<T[  
堆栈编辑器 a4FvQH#j  
S?nXpYr  
b,YTw  
涂层倾斜光栅介质
xMDx<sk  
t^.U<M  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 6sb,*uSn%  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 2.O
;  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 ~4o2!!^tI  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） F+Og8^!  
me@4lHBR  
{20^abUAS  
I&|%Fn  
涂层倾斜光栅介质 o Y_(UIa  
F+R4nFA  
P:&XtpP  
{:c*-+?  
涂层倾斜光栅介质 $x]'6  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 [*w^|b?  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 b|t` )BF  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 6=2M[T  
7{j9vl6  
?!1K@/!  
Pq`]^^=be'  
涂层倾斜光栅介质参数 %"V Y)  
tG(?PmQ  
0EfM~u  
Da5Zz(  
涂层倾斜光栅介质参数 1Qui.],c  
QbqEe/*$_  
}s{RW<A  
GQ ZEMy7  
高级选项&信息 QkUq%}_0  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 y/rmxQtP  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 4AB7uw  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 !'(bwbd  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 =7ul
,  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 j K?GB  
*[@lp7  
@U'I_`LL  
.)|r!X  
高级选项&信息 fdGls`H  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 #+V-65v  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 vttmSdY  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 gJ cf~@s  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 ENm\1  
L,V\g^4$K  
Fp..Sjh 6  
&yN@(P)  
高级选项&信息 LL@VR#n"V  
OoTMvZ
P[  
j#r|t
+{"C  
9cud CF  
高级选项&信息 `=^;q6f  
SDpaW6(_  
)| @'}k+  
AGkk|`  
体光栅介质 ) D:M_T2  
O0Y/y2d  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 ]}H;`H  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 YpMQY-n  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 Q.Uyl:^PxU  
CS2AKa@`  
'>- C!\t  
5fuOl-M0W  
体光栅介质参数 )MqF~[k<-  
w%;Z`Xn&u  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 *&{M,  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 R4v)}`x  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 CJ0j2e/  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） hGyi@0  
*.4;7#  
bSsX)wHm  
m,',luQ  
体光栅介质参数 r
Cqcl  
#?L%M  
"?a(JC  
/Hb'3,jN  
高级选项&信息 tep_g4CQR_  
?LAKH$t  
a}eM ny  
(%]&Pe]  
高级选项&信息 4L\bT;dQ|.  
uCuXY#R+  
]etLobV  
VOH.EK?5  
在探测器位置处的备注 E&r*[;$  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 Ld6j;ZJ';  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 `P
}T{!P+6  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 <Okk;rj2  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） +~mBo+ ,  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 %tiFx:F+  
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