[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 6m9 7_NRO  
0$tjNye  
tXt:HVN  
u7HvdLql  
该用例展示了… %c]nWR+/  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： %yp5DD}|  
倾斜光栅介质 tpXa*6  
体光栅介质 Z<;U:aH?}  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 R|iEv
t  
m}98bw  
kI%peb?  
bFg*l$`5  
光栅工具箱初始化 a mqOxb  
,jy<o+!  
Y %K~w  
 初始化 6/| 0+G^  
开始-> #e/2C  
光栅-> Z!=L   
通用光栅光路图 XYjcJ  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 XYe~G@Q Z  
光栅结构设置 6mCq/$  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 .U9R>#  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 6 }!Z"  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 L\YKdUL  
)GVBE%!WEd  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中
}!8nO;  
r} Lb3`'  
堆栈编辑器 #$FrFU;ZR  
!6HuFf  
1 tPVP  
R:~(Z?  
堆栈编辑器 7:>sc]Z  
p* RC  
mQ}Gh_'ps  
涂层倾斜光栅介质 %:3'4;jh%  
%ISq>A)%  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 xYI
;V7  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 d ;^  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 TnNWO+kg  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） mG2VZ>  
GAw(mH*  
?`"n3!>bS  
]]TqP{H  
涂层倾斜光栅介质 *YtB )6j  
CvK3H\.&;k  
gO='A(Y  
$W&:(&  
涂层倾斜光栅介质 ,[isib3  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 +~Tu0?{Z 0  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 nIn2 *r  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 Hz@h0+h  
:g2  }C  
NQX>Qh 2  
bO3GVc+S  
涂层倾斜光栅介质参数 sb^mLH] 3  
7+nm31,<O  
I{ ryD -!  
T#EFXHPr  
涂层倾斜光栅介质参数 r\2vl8X~  
M0L&~p_F  
53Yxz3v  
uSN"vpc4D  
高级选项&信息 PLA#!$c7q  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 e[1>(l}Ss  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ?Ik4  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ^lj7(  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 c2 Aps  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 ObG=>WPJa  
6L9,'Bg  
&!L:"]=+  
j1*f]va  
高级选项&信息 9b"MQ[B4#a  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 pKT2^Q}-h  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 Eectxyr?;N  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 F~HRME;Z  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 -*B`]  
~#PLAP3-  
4)kG-[#  
!eI2r  
高级选项&信息 bT)]'(Xy  
sy/nESZs  
5~H#(d<oZ  
65TfFcQ<S  
高级选项&信息 Lrd[Ov  
DinPxtT?a  
Ps4 ZFX  
{"S6\%=  
体光栅介质 %lw! e  
iW%8/
$  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 i7*EbaYzUO  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 g}x(hF  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 xSMt*]=9  
k;ZxY"^  
!do?~$Og  
9'[ N1Un.=  
体光栅介质参数 x,n,Qlb  
!bnyJA  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 1}%B%*N  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 7zemr>sIh  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 @? c2)0
 
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） )h{ ]k=  
Jh&~ToF!  
#,d I$gY  
=u[k1s?  
体光栅介质参数 KNLnn;l  
3qL>-%):*  
IZ/m4~  
nkf
Ziyx  
高级选项&信息 G\de2Q"d:O  
E>|: D
 
J aTp}#  
P!G858V(  
高级选项&信息 06q(aI^Ch@  
'Ft0Ry<OL  
!%)FJ:p  
/U&Opo {aO  
在探测器位置处的备注 Uu 8,@W+  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 (xHf4[[u  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 4)|8Eu[p7  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 E_e6^Sk5B(  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） anMF-x4/*q  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 Eow_&#WW;P  
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{(U %i\F\