[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 DbRq,T  
9F[k;Uw  
6_KO6O7g  
u-yVc*<,  
该用例展示了… A.0eeX{  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： g\;&Z  
倾斜光栅介质 /DxaKZ ;b  
体光栅介质 m0*bz5  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 7f!"vhCXM;  
8|FHr,  
/G}TPXA  
\]bAXa{ p  
光栅工具箱初始化 2$G,pT1J  
;[pY>VJ(  
vwA d6Tm  
 初始化 q]}fW)r  
开始-> NJ6* 7Cd  
光栅-> L[M`LZpJo  
通用光栅光路图 >93I|C|  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 (MfPu8j  
光栅结构设置 IIrp-EMXJ  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 g9N_s,3jC  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 a!iG;:K   
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 QfHJZ7K.4  
}:6$5/?  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 <d&9`e1Hc  
P
ra,r9h,  
堆栈编辑器 J.%%]-f=&  
V4~`yT?*"  
 D`Tx,^E  
zh{:zT)(1  
堆栈编辑器 HN7C+e4U~  
/j}"4_.8  
tQTVP2:Y  
涂层倾斜光栅介质 ~57.0?IK  
uH"W07  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 (P=q&]l[  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 j,:vK  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 Pl2ZA)[g  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） -Ov
zEmI"  
\%=GM J^[p  
k;)t}7(  
iLvzoQ  
涂层倾斜光栅介质 x'OYJ>l|  
VB(S]N)F^  
C71\9K*X  
 OhNEt>  
涂层倾斜光栅介质 5!tiu4LU  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 },tN{()  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 ,lsoxl  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 -FxE!K  
1-!q,q  
&_1Ivaen6  
-c_}^j  
涂层倾斜光栅介质参数 CVk.Ez6  
O4l]Q  
ZSs)AB_Pe/  
()[j<KX{.  
涂层倾斜光栅介质参数 f&ZFG>)6  
KMU2PoqD  
L5wrc4  
IRq@~vdt)  
高级选项&信息 =&9x}4`;%  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 
Vm_<eyI2  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 2%i3[N*  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 2PaRbh{"  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 EKr#i}(x<  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 I4Y;
9Gg  
y
?r:`n  
CLn}BxgD  
K4.GAGd  
高级选项&信息 5:T)hoF@  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 7UVhyrl  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 dI$U{;t  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 >U%:Nfo3  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 2A,iY}R  
#0F6{&; M  
s\Zp/-Q  
0QakFt  
高级选项&信息 M@wQ6ow  
cW|M4`  
* 11|P  
<D1>;C  
高级选项&信息 Q+r8
qnL'  
Y+[Z,   
#JLxM/5^1~  
4ne95_i  
体光栅介质 bAd$ >DI[  
VQMPs{tm  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 @y+Hb@ >.  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 `H#G/zOr  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 4!3mSWNV  
Z:e|~#  
3P&K<M#\  
;DG&HO  
体光栅介质参数 ~"t33U6  
.&Q'aOg  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 k`u:Cz#aB  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 3WTNWz#h  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 D{Rk9MKkE  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） *pOdM0AE  
ivi,/~L  
7^3a296  
<hvVh9  
体光栅介质参数 ;`(l)X+7  
:RqTbE4B  
InCJ4D  
^rP` .Z  
高级选项&信息 b5Sgf'B^  
AfV a[{E  
"y5LojdCs  
$ M8ZF(W  
高级选项&信息 AD=qB5:  
TSPFi0PP  
~|>q)4is6a  
O:hCUr  
在探测器位置处的备注 =;!$Qw4  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 {)c2#h  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 iFi6,V*PRt  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 c8"9Lv  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） lCznH?[  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 G[[hC[}I  
GCEcg&s=\S  
^kElb;d