[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 f643#1  
gV's=c
Q  
mp1@|*Sn  
,wb:dj-  
该用例展示了… EHJ.T~X  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： :%=Xm   
倾斜光栅介质 Ko<:Z)PS  
体光栅介质 b|:YIXml  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 UERLtSQ  
z#wkiCRYm  
gD@){Ip  
cA?W7D  
光栅工具箱初始化 lfow1WRF  
V+Y%v.F  
Di6?[(8  
 初始化 UcHJR"M~c  
开始-> rH Lm\3  
光栅-> i>`%TW:g  
通用光栅光路图 rpha!h>w1%  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 Gx/Oi)&/  
光栅结构设置 !c Hum  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 9s q  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 dFB]~QEK  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 _ ]ipajT  
.W%)*&WH\  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 m=:9+z  
+{.WQA}z\  
堆栈编辑器 Se}c[|8  
e#8Q L  
zR:L!S  
)mT<MkP  
堆栈编辑器 rglXs  
.uZ3odMlx  
}o(-=lF  
涂层倾斜光栅介质 ?);v`]  
FDs>m #e  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 j</: WRA`]  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 +7.',@8_V  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 5|s\*bV`  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） T.BW H2gRP  
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AQvudx
)@"  
.t
!x<B  
涂层倾斜光栅介质 F^;ez/Gl  
hMO=#up&  
hL{KRRf>  
N~)_DjQP5  
涂层倾斜光栅介质 .Yn_*L+4*  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 /(*q}R3Kfo  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 ",; H`V  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 583|blL  
dR,fXQm  
/ zPO  
<\^8fn  
涂层倾斜光栅介质参数 JPw.8|V)y  
VU3upy<  
aEeodA<(  
3F2w-+L  
涂层倾斜光栅介质参数 %
dVZ0dl  
YNF k  
9W2Vo [(  
n{mfn*r.  
高级选项&信息 NZ0;5xGR  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 0aB;p7~&  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 eD6fpe\(  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 ](8[}CeL
 
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 z<?)Rq"  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 <0!):zraS  
2FJ*f/  
BRiE&GzrF  
NC
(~l  
高级选项&信息 @Jw-8Q{  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 (O3nL.  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 %*}(}~  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 EaN6^S=  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 /PIcqg  
zK@@p+n_#.  
3 Za}b|  
[{,1=AB  
高级选项&信息 l]8uk^E  
T_4/C2  
wnC81$1l~  
*$g-:ILRuZ  
高级选项&信息 +CNv l  
oCz/HQoBk  
Sdryol<  
4.t-i5
  
体光栅介质 9\7en%(M  
3.y vvPFEM  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 Gk6iIK  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 N(yzk_~  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 _oeS Uzq.  
sQZhXaMa $  
fz "Y CHe  
"^GGac.  
体光栅介质参数 xJ.M;SF4  
=t?F6)Q  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 6Z"X}L,*  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 Z,PPu&lmE/  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 _H@DLhH|=  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） l*G[!u  
j0q&&9/Jj  
H<+TR6k<  

9hyn`u.  
体光栅介质参数 f3y=Wxk[  
jnwu9PQ  
2D5StCF$O  
dk^~;m#iN  
高级选项&信息 N8df8=.kw  
493*{  
4#Jg9o   
r5^eNg k  
高级选项&信息 pd$[8Rmj_  
J#83 0r(-  
xyXa .  
,PDQzJY  
在探测器位置处的备注 I7]8Y=xf  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 gs`q6f%(  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 "#g}ve,  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 /PKNLK  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） -mh3DhJ,  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 JW&gJASGC  
{_*yGK48n  
E"IZ6)Q