[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 xc6A&b>jI  
,[<+7  
YA%0{Tdxz  
)wueR5P  
该用例展示了… use` y^c  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： eww/tGa  
倾斜光栅介质 ,fW%Qv  
体光栅介质 j?y_ H[Z  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ^26}j uQ  
JE.s?k  
C;NG#4;'  
dw]jF=u  
光栅工具箱初始化 c.eA]mq  
Rk@xv;t;  
Ea\Khf]2  
 初始化 I&G"{Dl94  
开始-> $c<NEt_\  
光栅-> p? L*vcU  
通用光栅光路图 yRv4,{B}X>  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 /[RO>Z9  
光栅结构设置 #1oyRD-  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 n!$zO{P  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 C6{\^kG^j2  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 <P1yA>=3`  
7F@#6  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 }*9mNE  
N-:.z]j#_  
堆栈编辑器 K]c\3[vR  
XlDN)b5v{  
bx8;`QMX  
ni
`uO<\U  
堆栈编辑器 %29lDd(<  
aT"0tn^LO  
oZwu`~h Y  
涂层倾斜光栅介质 G24Ov&H  
-h8@B+  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 ]<Kkq!  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 #$0*Gd-N  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 xfK@tLEZ-1  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） iw\yVd^]:k  
j;SK{Oq  
ykat0iqo  
_-5|"oJ  
涂层倾斜光栅介质 $~5ax8u&!#  
>PmnR>x-rj  
ALXie86
a8  
V18A|]k  
涂层倾斜光栅介质 c%@< h6  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 s_}q  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 N/6!|F  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 }^tW's8  
-"uOh,G}  
&5d~ODO  
vef9*u`  
涂层倾斜光栅介质参数 !hWS%m@  
{j[a'Gb  
v@ifB I  
7 F> a&r  
涂层倾斜光栅介质参数 SQs+4YJ  
E)F#Z=)  
<\`qRz0/  
Aa4 DJ  
高级选项&信息 CWY-}M  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 7.FD16  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 7 >-(g+NF!  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 s a{x.2/o}  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 AjD?_DPc  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 2$TwD*[  
pc2;2^U_  
w8}jmpnI  
7!/!a*zg  
高级选项&信息 7Fzj&!>ti  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 t$z 5m<8  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 *aW:Z6
N  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 weC.kx   
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 (lg~}Jwq  
ftxy]NLF  
EslHml#  
; ,n}>iTE  
高级选项&信息 T^
Ol=QCu  
@Y !Jm  
M$s9  
s"5wnp6pW  
高级选项&信息 GB4^4Ajx  
:!yPR  
~JHEr48  
N qS]dH61  
体光栅介质 d<RJH  
x%W%  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 aGNbCm  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 5Nl?Km~  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 J,:Wv`N:9~  
|j=Pj)5J  
"0LSy x  
$Y M(NC  
体光栅介质参数 GT,1t=|&V  
0BQ{ZT-Kh  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 jo' V.]\  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 f4Ob4ah!(  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 {Z1KU8tp  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） ;)FmN[  
Pk>S;KT.  
.d6b?t  
fJ=v?  
体光栅介质参数 f2u4*X E\  
sQ.t3a3m  
P*
n/qj8h  
hP}-yW6]  
高级选项&信息 YC(X= D  
qM<CBcON  

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4~Y?*|G]m
 
高级选项&信息 8jY<S+[o  
4~1lP&  
aNBwb9X  
|w{C!Q8l  
在探测器位置处的备注 (8~D^N6Z  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 zkquXzlgB  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 3$S~!fh  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 7AlL,&+  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） :D4'x{#H  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 ^1yD&i'q  
l6zYiM  
J9MAnYd)i