[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 BjUz"69  
f,0oCBLPO  
t7$2/C  
%lK]m`(  
该用例展示了… WB|SXto%4D  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： z:tu_5w!,  
倾斜光栅介质 ZsDn
`8  
体光栅介质 ld23^r  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 ,OO
0*%  
6n.C!,Zmn  
DO=zxdTI!  
dzc.s8T(0  
光栅工具箱初始化 kKSn^qL*  
Ll6|WhX  
 W-U[7n  
 初始化 @y\M8C8  
开始-> RiAY>:  
光栅-> GfT`>M?QGK  
通用光栅光路图 &AlX).  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 @k2nID^>  
光栅结构设置 KbF,jm5  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 }q@Jh*  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 yn5yQ;  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 4qEe
N-6h  
,U/ZG|=v  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 Q2/ZO2  
 ^'c[HVJ  
堆栈编辑器 3YPoObY  
}Pe0zx.Ge  
U ()36  
wrW768WR  
堆栈编辑器 GKKf#r74  
k GzosUt  
+3n07d
  
涂层倾斜光栅介质
~nG?>  
s|Acv4| V  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 VDq?,4Kb  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 hK&/A+*  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 /A;!g5Y  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） d^W
EfH  
miZ&9m  
>*%mJX/F  
Am? dHP  
涂层倾斜光栅介质 *L.+w-g&&  
?F9:rUyN  
N&t+*kF_  
}l>0
m  
涂层倾斜光栅介质 a:tCdnK/  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 (r?41?5K  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 P*6B+8h"5g  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 t)O$W   
,9W|$2=F  
"?GA}e"R  
zviEk/:zm  
涂层倾斜光栅介质参数 u<l[S  
Jilj
f2h  
N%\!eHxy  
dk9'C  
涂层倾斜光栅介质参数 0a??8?Q1G  
|BGQ|7DyG  
j ,'$i[F'  
ee.#Vhz  
高级选项&信息 Vs)Pg\B?  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 {re<S<j&  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 p] V  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 J?~El&  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 0m^(|=N-  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 W4Ey]y"  
"+iPeRF!hU  
B6&;nU>;  
)V<ML7_?  
高级选项&信息 ^-9g_5  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 :O}=$[  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 ;x*_h  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 ndn)}Z!0h  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 xG JX~)  
r(W=1e'  
@-9I<)Z/2  
0yhC_mI  
高级选项&信息 o.ntzN  
g?.ls{H  
x roo_  
E({W`b~_f  
高级选项&信息 [eebIJs  
Z6eM~$Y  
]uN}n;`12  
)_eEM1  
体光栅介质 diF-`~  
bhqBFiuhH  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 88]V6Rm9[*  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 ,iKL 68  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 ,Q8[Ur?G  
u]K&H&AxT  
tONX<rA|]  
5hN`}Ve  
体光栅介质参数 50#iC@1  
;x/do?FbT  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 .v?x>iV  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 +{(f@,&~{  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 >?/Pl"{b  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） uURm6mVt9:  
0wM2v[^YO  
6V{Sf9V|  
87; E#2  
体光栅介质参数 gD}lDK6N  
[D
r'  
GRM:o)4;#  
US5]@!  
高级选项&信息 05o)Q &`  
N|JML  
,X+LJe$  
w ]8+ OP  
高级选项&信息 :1>h,NKC>  
M]c"4b;  
tu5g> qb  
%rE:5)  
在探测器位置处的备注 \9 ,a"g  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 *Ubsa9'fS  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 JVfSmxy.  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 +2:\oy}!8  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） sfD@lW3  
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响
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