[技术]使用特殊介质的光栅结构的配置 [复制链接]

光栅结构广泛用于多个应用，如光谱仪、近眼显示系统等。通过应用傅里叶模态方法（FMM），VirtualLab Fusion以一种简单的方法提供了任意光栅结构的严格分析。在光栅软件包中，通过使用堆栈中的多个界面或/和介质可以配置光栅结构。用于设置堆栈的几何结构的用户界面是友好型的，可以用于产生更加复杂的光栅结构。在这个用例中，解释了基于特殊介质光栅结构的配置。 6n
~)R  
'}:(y$9.`  
ia,5=SKJ  
>vf-,B  
该用例展示了… Hp5.F>-  
 在光栅工具箱中通过使用特殊介质如何配置光栅结构，如： QEMT'Cs
 
倾斜光栅介质 %:j`%F;R  
体光栅介质 Nw(hN+_u  
 如何在计算前改变高级选项&检查定义的结构 =RZPDu  
+hX=  
8|Ob7+  
X_!km-{  
光栅工具箱初始化 P4.)kK.3q|  
%gj7KF  
7U-}Y  
 初始化 1K(mdL{m5  
开始-> 6:AEg  
光栅-> 5z\,]  
通用光栅光路图 tx)$4v  
 注意：对于特殊类型光栅的使用，如体光栅，可以直接选择特定的光路图 CIf@G>e-  
光栅结构设置 $zF%F.rln  
 首先，需要定义基底（底座）材料和厚度 8(\J~I[^  
 在VirtualLab中，光栅结构在所谓的堆栈中定义 ;-BN~1Jg  
 堆栈可以固定到基底的一边或两边 $$EEhy  
w'XN<RWA  
 这个例子中，第一个界面上的堆栈已经选中 gXU(0(Gq  
><xmw=  
堆栈编辑器 unKl5A[h  
%I{>H%CjE  
$G{j[iLY  
*e<}hmDr  
堆栈编辑器 ;?q}98-2  
s {^wr6B  
)y i~p  
涂层倾斜光栅介质 kR:kn:  
\)6bLB!  
 在目录分类“LightTrans定义”中，可以找到涂层倾斜光栅介质。 `)4v Q+A>  
 这种类型的介质可以使用具有或不具有额外涂层的倾斜光栅结构 587;2  
 在这个例子中，由熔融石英制成的光栅（具有含铬的涂层）位于玻璃基质上 oI'& &Bt  
 在堆栈编辑器视图中，不同的材料由基于他们折射率的其他颜色显示（暗色意味折射率高） o!U(=:*b  
g$zGiqzMK  
/y|ZAN  
FP}I+Ys  
涂层倾斜光栅介质 Ryh 0r  
gs=ok8w  
b)M-q{  
m{$}u
@a  
涂层倾斜光栅介质 %d*0"<v  
 堆栈周期允许控制整个配置的周期 WRwx[[e6z  
 该周期同样用于FMM算法的周期性边界条件 LI&E.(:  
 在简单光栅结构的案例中，推荐选择选项“根据介质周期“和选择周期性介质合适的折射率 bsr]Z&9rrk  
{QaO\{J=  
uB3VCO.;_  
*wY+yoj  
涂层倾斜光栅介质参数 H9i7y,[*  
e|5@7~Vi  

B~|]gd  
nB5\ocJ  
涂层倾斜光栅介质参数 q@O  
.MRN)p  
`(`-S md  
|K;9b-\
 
高级选项&信息 +P Dk>PdEt  
 在传输菜单中，多个高级选项可用 @YQ*a4`  
 传输方法标签允许编辑FMM算法的精确设置 ')~V=F  
 可以设置考虑的总级数或倏逝级数的数量 qY'+@^<U;  
 这可能是有用的，如果考虑金属光栅 LI25VDZ|iP  
 相比之下，在电介质光栅中，默认设置已经足够 =S\^j"  
Ea][:3  
NZ&ZK@h}.  
Rm}5AJ  
高级选项&信息 -mGG:#yP  
 高级选项标签提供了结构分解的信息 !Ur
.b @ke  
 层分解和过渡点分解设置可用于调整结构的离散化，默认设置适用于几乎所有的光栅结构 EJMd[hMhe  
 更多地，提供了关于层数和过渡点的信息 j|`lOH8  
 分解预览按钮提供了用于FMM计算的结构数据的描述，折射率由颜色尺度描述 _9H]:]1QH  
&0\:MJc  
?U[6X|1  
SZLugyZ2Y  
高级选项&信息 upk
+L^  
lY(_e#  
27+faR  
RticGQy&5  
高级选项&信息 s$qc&  
Ba5*]VGG  
/kK!xe  
.0RQbc9  
体光栅介质 ,H,[)8
 
\`["IkSg7  
 另一种用于光栅配置的介质类型是体光栅介质 tU2#Z=a  
 界面允许配置折射率的调制，这由全息曝光产生 LAnC8O  
 同时，两个平面界面作为介质的边界 4 qY  
I{>Z0+  
mSYm18   
NqD Hrx  
体光栅介质参数 ZzTkEz >  
@#hvQ6u  
 为了描述体光栅，VirtualLab模拟了一定数量刻蚀波的干涉图案 Vy[xu$y  
 首先，需要选择全息介质，这提供了初始折射率 \P9ms?((A  
 其次，折射率调制的周期和取向由入射角（α）和信号波的参考波长控制 |<,0*2  
 更多地，根据入射角引入量化的波矢空间，数值计算量可以显著的减少（也可以查阅更多关于体光栅的文件） 53ZbtEwhwr  
mDZA\P_  
V!Sm,S(  
WFV'^-4  
体光栅介质参数 ILl~f\xG)  
J?X{NARt  
p=A,yGDV  
2gkN
\w6zQ  
高级选项&信息 j$XaO%y)  
0gW{6BtPWm  
$ (xdF  
&Wb"/Hn2  
高级选项&信息 4%8den,|  
R"JXWw  
eD2eDxN2  
BY[7`@  
在探测器位置处的备注 bEmN tp^  
 在VirtualLab中，探测器默认位于空气中基底的后面 dR< d7  
 如果光栅包含在复杂的光学装置中，这是必要的 EirZ}fDJzB  
 然而，完美的平面和平行基底可能引起更多地干涉效应，这在现实中不会发生 hgW1g#
  
 因此，对于合理的光栅效率的计算，在基质材料中设置探测器是合适的（正如大多数光栅评估软件） [xrsa!$   
 这避免了这些干涉效应的不必要的影响 DUl+Jqn4B  
4@Db $PHs  
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